模拟系统中的循环与非循环光合磷酸化

用无机半导体(Zn·Cd)S:Ag—KI代替叶绿体,研究了循环与非循环因子对模拟系统ATP合成量的影响,发现前者农度与ATP合成量之间呈钟型曲线,后者则趋于饱和曲线,且前者在最适浓度时,ATP合成量是后者的1.6倍,接近于在叶绿体中相应的2:1之比。本文对所得结果进行了简单讨论。

光照下半导体对ATP的吸附

本文报导了光照下半导体—(Zn·Cd)S:Ag:KI—对ATP吸附的研究及其结果.主要研究了(1)照光时间,(2)照光光强,(3)催化剂(无机半导体),(4)ATP浓度及其他成份的浓度对吸附的影响规律.实验发现半导体对ATP的相对吸附是随着光强、照光时间和半导体粉量的增加而增加;但随着ATP浓度的增加其相对吸附减少;其他因子的浓度变化对吸附变化的影响较不显著.在自然界中,和人类生活密切相关的有两个循环.一个是氮循环,一个是碳循环.而光合作用是碳循环中的一个重要环节.我们知道:光合作用分为光反应和暗反应,这就是光解水还原辅酶Ⅱ和进行光合磷酸化(合成ATP).范义积曾强调叶绿体是半导体的观点.他和他的同事也曾用不同半导体代替叶绿体分别化紫外和可见光下成功地模拟了光合作用中的光合磷酸化反应.但是在工作中发现有相当量的ATP是独所用的半导体吸附着.因此有必要去了解在光照下半导体对ATP吸附的规律.从另一方面来说,虽然有很多光化学工作者在进行大量的光催化的研究工作,发表了不少研究结果.但我们还未看到过有关在光照下半导体催化剂对反应产物吸附的规律,特别是对ATP吸附规律的报导,为此,我们进行了这方面的研究,并在这里报导有关结果.

衬底温度对射频溅射a-Ge∶H薄膜光电性能的影响

本工作用射频溅射法制备出非晶和微晶锗氢膜(a-Ge∶H 和μc-Ge∶H).研究了衬底温度对薄膜光学、电学及结构性能的影响.结果表明:衬底温度 T_(?)<290℃,沉积出a-Ge∶H 膜;Y_(?)≥290℃沉积出μc-Ge∶H 膜.其结构、光电性能均当 T_(?)≥290℃时有明显的变化.

(Zn·Cd)S:Ag-KI催化的光合磷酸化

以半导体材料(Zn·Cd)S:Ag-KI为催化剂,在普通卤钨灯光照射下,成功地模拟了光合作用的光合磷酸化.文章报导了光强、照光时间、ADP浓度、Pi浓度及催化剂量等对ATP合成的影响.在合适的条件下,ADP浓度为1×10^(-3)mmolL时转化率可达到4-6°.最后有一简单讨论.

微机应用两则

本文就微机在力学、电磁学及光学中的应用各举一例,说明微机在教学中的某些辅助作用。 <一>用高分辨率图显示振动合成和绘制电场的等位线。 程序一、二可以显示两个或两个以上任意振幅、周期和初相位的简谐振动及其合振动。与传统的示波器显示图形比较,它可以随意改变初相位,可以将任意个振动合成,这两点都是后者难以做到的。 电磁学教学中,一个重要的问题是建立场的概念。绘制场图是一个形象直观的办法。让微机承担绘制场图任务,既省时,又准确。这是手工绘制场图无法比拟的。程序三就是绘制场图的一个例子。

一堂“有固定转动轴的平衡条件”的教学

演示实验仪器:一带刻度、底座面积大并且较重的演示杠杆(刻度可读至毫米);50克重的铁勾码和塑料勾码若干;装在手柄上的定滑轮1个;弹簧秤一个;剪成30°、45°、60°角的硬纸板各一个;两个盛水烧杯;一根约20厘米长均匀直铁丝和细线各一件。教师:初中学简单机械一章时,我们就研究过力使物体转动的知识。请回忆一下,两个大小不相等的力可以产生相同的转动效果吗?学生:可以。根据杠杆原理。

关于转动系统中的静摩擦力

高一物理课本148页对图5—10的说明是这样的:放在唱片上的物体随唱片做匀速圆周运动的向心力是静摩擦力。从运动效果来说,这是无可非议的。然而,怎样根据静摩擦力的性质去说明呢?学生经常提出这样的疑问:既然作圆周运动质点的速度方向是轨迹的切线方向,摩擦力怎么不是切线上速度的反方向而是与速度垂直的方向呢?首先要明确。