乳腺旋切微创术治疗多发性乳腺纤维瘤患者的疗效及美容效果

目的探讨乳腺旋切微创术治疗多发性乳腺纤维瘤患者的疗效及美容效果分析。方法选择2020年1月至2022年12月邵武市立医院收治的130例多发性乳腺纤维瘤患者为研究对象,按照手术术式不同将患者分为对照组和研究组,各65例。对照组行传统乳腺纤维瘤切除术治疗,研究组行乳腺旋切微创术治疗。比较分析两组患者手术相关指标、不同时段疼痛程度、手术前后心理状态、并发症发生率、美容效果及满意度。结果研究组住院时间、切口愈合时间均短于对照组,出血量少于对照组,瘢痕长度、切口长度均小于对照组(P<0.05)。研究组术后各个时段(术后8 h、24 h、48 h)疼痛评分均低于对照组(P<0.05)。两组患者术前心理状态评分对比无差异(P>0.05)。术后90 d时两组患者心理状态评分均低于术前(P<0.05)。且相较于对照组,研究组心理状态评分在术后90 d时均更低(P<0.05)。相较于对照组,研究组并发症发生率更低(P<0.05)。相较于对照组,研究组美容效果优良率更高(P<0.05)。相较于对照组,研究组满意度更高(P<0.05)。结论多发性乳腺纤维瘤患者治疗应用乳腺旋切微创术,不但可以使患者不良心理、疼痛程度均得到有效减轻,并发症发生率得到有效减少,同时也可以对患者美的追求给予有效满足,拥有更为优良的美容效果,整体疗效更佳。

CVD与PVD硬涂层研究的进展

论述了用CVD和PVD方法制备硬涂层的若干进展，包括MT-CVD，PACVD，HVS及IBAD等，并介绍了超硬涂层发展的简况。

双靶反应溅射Ti-B-N复合膜的研制

采用基片架旋转的多靶磁控溅射仪，通过六方氮化硼（ｈ－ＢＮ）和Ｔｉ靶反应溅射制备Ｔｉ－Ｂ－Ｎ复合薄膜，并用ＡＥＳ、ＸＲＤ和ＴＥＭ等方法研究了薄膜的微结构．结果表明，室温下沉积薄膜均呈非晶态，经过４００°Ｃ热处理薄膜晶化．基片加热为４００°Ｃ沉积的薄膜则已晶化，ＴＥＭ分析确定薄膜结构为ＴｉＮ结构．显微硬度表征发现，室温沉积Ｔｉ与ｈ－ＢＮ的原子数约为２∶１时的薄膜达到最高硬度ＨＫ２６００．

TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能

采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加，硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．

SiC晶须强韧化MoSi_2复合材料

通过湿法混合和热压方法制备了ＳｉＣｗ／ＭｏＳｉ２复合材料，并测定了它们的力学性能和电性能．实验结果表明：加人２０ｖ－％ＳｉＣｗ后，ＳｉＣｗ／ＭｏＳｉ２复合材料与ＭｏＳｉ２基体相比，室温抗弯强度可提高一倍，断裂韧性提高３３％，冲击断裂功提高６２％，电阻率提高了２—３倍．可见用ＳｉＣｗ来改善ＭｏＳｉ２的力学性能和电性能，发展新型的高温结构用复合材料是可行的．

TiN/AlN 纳米混合膜的微结构及力学性能

通过双靶轮流反应溅射的工艺方法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜．采用ＸＲＤ衍射、ＴＥＭ和显微硬度等测试方法对ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的微结构和力学性能进行了研究．结果表明，ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米混合膜的晶粒大小为１０～２０ｎｍ；薄膜总体表现出硬度增强效果，在ＴｉＮ∶ＡｌＮ（体积比）≈１∶１时，薄膜硬度获得极大值ＨＫ３２．２５ＧＰａ．

铸造SiC_p/2024复合材料微观结构与强化机制的研究

研究了SiC体积分数分别为5,10,15和20%的2024Al基复合材料在峰值时效态下的微观结构和强化机制透射电镜观察和Vickers硬度测定表明:增强相的加入使复合材料基体中的位错密度升高,亚晶尺寸略有下降,但基体的硬度却无明显升高拉伸试验发现,弹性模量和加工硬化指数随SiC体积分数增加而显著提高。

W/Mo超晶格薄膜的微结构研究

纳米多层膜因常出现物理或力学性能的异常而成为薄膜研究的热点之一。采用ＸＲＤ和ＴＥＭ技术研究了Ｗ／Ｍｏ纳米多层膜微结构。结果表明，Ｗ和Ｍｏ由于同为体心立方结构，且晶格常数相近，由它们交互重叠形成的纳米多层膜具有柱状晶穿过调制界面外延生长的结构特征，形成多晶超晶格结构。

SiC颗粒体积分数对SiCp/Al复合材料疲劳裂纹扩展的影响

本文通过对疲劳裂纹扩展速率的测试和对疲劳裂纹扩展路径及疲劳断口的观察分析,研完了SiC颗粒体积分数对SiCp/Al复合材料疲劳裂纹扩展的影响。结果表明:随着SiC颗粒体积分数的增加,复合材料疲劳裂纹扩展抗力增加,但只有SiC颗粒体积分数为15％时,复合材料的疲劳裂纹扩展抗力才优于基体。

梯度过渡涂层的制备

本文采用多靶磁控溅射技术制备ＴｉＣ／Ａｌ界面梯度过渡层，过渡层由ＴｉＣ和Ａｌ的成分梯度变化组成，其成分由Ａｌ基体侧平缓过渡到ＴｉＣ涂层侧。梯度过渡层的成分变化经ＡＥＳ测定，并用光学金相显微镜观察了涂层形貌。实验结果表明，当梯度层厚度大于某临界值后。

界面梯度对TiN／不锈钢涂层应力的影响

气相沉积表面涂层在科学技术各领域得到广泛应用，然而，由于涂层与基体在化学和物理性质上的差异，使得涂层与基体在界面两侧产生结构和性能上的突变，影响了涂层功能的充分发挥。为此，采用多靶磁控溅射技术制备了具有梯度过渡层的ＴｉＮ／不锈钢涂层，并研究了梯度层对涂层内应力的影响。研究结果表明：采用多靶磁控溅射技术，分别控制各靶的功率，能够精确控制梯度层的成份变化，制备不同厚度的镀层；应力分析显示，随梯度过渡层厚度的增加，涂层的内应力明显降低。

增强相体积分数对SiCp/Al复合材料基体沉淀的影响

采用差示扫描量热技术和透射电镜显微分析技术,研究了铸造SiCp/2024金属基复合材料基体沉淀的动力学过程。结果表明:相对于无SiC的基体材料,SiC的加入加速了GP区和中间相S′(Al_2CuMg)的析出,析出反应的蜂值温度下降,GP区和S′相的脱溶反应焓明显降低。TEM分析发现合金元素Mg在SiC-Al界面上偏聚,使界面附近基体中的Mg被耗尽,形成无沉淀区和沉淀稀疏区,相脱溶量下降。

Cu－TiC纳米晶复合薄膜的研究

本文采用多靶磁控溅射技术，通过分别控制Ｃｕ和ＴｉＣ靶的溅射功率制取了不同ＴｉＣ含量的复合薄膜，采用ＸＲＤ、ＸＰＳ和ＴＥＭ技术分析了薄膜的组织结构，并测定了薄膜的硬度和电阻率。研究结果表明：随ＴｉＣ含量的增加，Ｃｕ－ＴｉＣ复合薄膜的晶粒逐步细化，直至形成纳米晶，与此相应，薄膜的硬度提高，导电性降低。

W/SiC纳米多层膜界面微结构研究(英文)

本文采用双靶交替磁控溅射方法制备了Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜，并用高分辨电镜对多层膜截面形貌及界面微结构进行了分析。结果表明：Ｗ／ＳｉＣ纳米多层膜具有良好的调制结构，其中Ｗ为多晶，ＳｉＣ为非晶，且Ｗ晶粒在垂直于膜面的方向上的长大受到调制周期的限制。Ｗ与ＳｉＣ形成完全非共格界面，该界面具有宏观平直而微观粗糙的特点。在界面上存在一个模糊的过渡层，该过渡层由Ｗ与ＳｉＣ的成份混合区和Ｗ的结构过渡区构成。

热挤压态SiC_P-LY12复合材料的超塑性变形

未经任何热处理的热挤压态SiC_P-LY12复合材料在基体固相点附近获得超塑性变形,在温度495～510C、应变速率2×10^(-4)s^(-1)时,终断延伸率大于150%。对试验数据的分析表明,在前述变形参数范围内,复合材料的变形机制发生了变化,使终断延伸率显著升高,但复合材料超塑性变形过程的应变速率敏感性指数(m)在同一温度下的m值随应变速率降低而逐渐增大,其最高值并未对应于最大延伸率;同时,应力-应变曲线在通常的动态再结晶阶段后出现一个独特的应变硬化阶段,直至最终断裂。微结构观察发现,变形初期复合材料即发生动态再结晶,据此推测,前述异常硬化阶段可能与再结晶组织的长大有关。另一方面,SiC_P-Al界面在变形过程中严重弱化,成为裂纹优先扩展的路径,不利于获得高的延伸率。

金属-绝缘体复合薄膜中的纳米颗粒形态控制

本文采用多靶磁控溅射仪旋转基片的方法，利用红外灯管加热基片，制备了不同基片温度的Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜（１５．０ａｔ％Ｓｉ）。采用ＴＥＭ分析了薄膜的微观结构并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：通过改变基片温度，可以控制Ａｇ－ＳｉＯ２复合薄膜中Ａｇ粒子的形态；当基片温度高于３００℃时，复合膜中孤立的Ａｇ颗粒直径为１０～１００ｎｍ；薄膜的电阻率亦可通过基片加热在１０２～１０６μΩ·ｃｍ范围内改变。

SiCp/AI 复合材料的显微组织与常规力学性能研究

本文研究了流变铸造法制备的 SiCp/LY12和 SiCp/5083Al 复合材料中SiC 颗粒的分布情况,发现在特定的工艺条件下,只有当 SiC 颗粒的体积分数处在一定的范围内。复合材料才能获得良好的 SiC 颗粒分布均匀性:另外,加工工艺对SiC 颗粒的分布也将产生影响.研究结果表明,不同体积分数的 SiC 颗粒均使复合材料的屈服强度得到提高,除时效态 SiCp/LY12复合材料外,其余复合材料的抗拉强度也得到提高,但复合材科的冲击韧性却大大下降。

热循环对SiCp／MoSi_2复合材料性能的影响

研究了热循环对ＳｉＣｐ／ＭｏＳｉ_２复合材料抗弯强度和断裂韧度的影响，并测定了材料的宏观残余应力。实验材料是用热压方法制备的ＭｏＳｉ_２和不同体积百分数（１０，２０，３０ｖｏｌ％）ＳｉＣ_ｐ增强ＭｏＳｉ_２复合材料。实验结果表明，复合材料的抗弯强度和断裂韧度都随ＳｉＣ含量的增加而增加，经过热循环以后，四种材料的抗弯强度都有不同程度的增加，而断裂韧度则下降约２０％左右。这是由于材料经过热循环以后，造成ＳｉＣｐ和ＭｏＳｉ２界面结合过强和基体晶界过弱。尽管ＳｉＣ_ｐ和ＭｏＳｉ_２热膨胀系数相差很大，但在复合材料中未发现由此而产生的裂纹和宏观残余应力。

采用X射线测量硬质薄膜宏观内应力的拉伸法

本文讨论了一种采用拉伸释放薄膜宏观内应力的Ｘ射线应力测量方法，并用此方法测量了含有梯度过渡层的ＴｉＮ薄膜的内应力。

Ag-SiO_2纳米复合薄膜微结构研究

本文采用基片可旋转并利用红外灯管加热基片多靶磁控溅射台的制备了不同成分及基片温度的Ag～Sio2复合薄膜。采用XRD、TEM、SEM等手段分析了薄膜的微观组织结构，并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：复合薄膜的微结构由多晶富Ag区和细密的Ag晶体和非晶SiO2混合物组成；室温下随SiO2含量的增加．薄膜中金属Ag呈网状分布．晶粒细化，电阻率上升；随基片温度的升高．复合薄膜中银晶体最终聚集成孤立的纳米颗粒；与微结构相对应，薄膜的电阻率可在大范围（102～106μΩcm）内变化。