CuO添加剂对高导MnZn铁氧体饱和磁感应强度、磁导率和磁谱频散特性的影响

采用传统氧化物陶瓷工艺法制备高磁导率MnZn软磁铁氧体材料,研究了CuO添加对材料晶相结构、显微形貌、饱和磁感应强度B_(s)、磁导率以及磁谱频散特性的影响。结果表明,适量的CuO添加能够改善高导MnZn铁氧体材料的显微结构,提高B_(s)、截止频率fr等性能,但对磁导率稍有不利影响;而过量添加CuO,则会导致材料显微结构不均匀性增强,材料磁性能降低。此外,高导MnZn铁氧体的磁化机制主要以畴壁位移运动为主,且随着CuO含量增加,畴壁位移贡献占比先增大后减小。

沉积时间对旋转喷涂法制备的NiZn铁氧体薄膜的影响

采用旋转喷涂法低温沉积制备NiZn铁氧体薄膜,研究了沉积时间对薄膜相结构、显微形貌和磁性能的影响。结果表明,随着沉积时间延长,平均晶粒尺寸逐渐增大,(222)方向择优取向先增强后减弱,沉积速率先减小后稳定,随着薄膜厚度逐渐增大,晶粒的柱状结构也越发明显,结晶性能提高。NiZn铁氧体薄膜的饱和磁化强度M_(s)增高,矫顽力H_(c)降低,100 MHz的磁导率μ′增大,截止频率f_(r)从0.32 GHz降低至0.23 GHz。但是无论沉积时间长短,各薄膜均存在磁损耗角正切(μ"/μ′)过高的问题。