聚酰亚胺基底上双光子直写负性光刻胶

近年来,聚酰亚胺薄膜因其良好的柔韧性、透明度、耐辐射等优点,逐渐成为制备柔性电子器件的重要材料。利用飞秒激光双光子直写技术,以聚酰亚胺薄膜为基底,对负性光刻胶进行加工。研究发现线条分辨率随着激光功率的降低和扫描速度的增加而提高,并获得了115 nm最小线宽。柔韧性测试实验表明,在聚酰亚胺薄膜上制备的亚波长线条具有很好的柔韧性。这项工作证明了在聚酰亚胺薄膜上进行飞秒激光双光子直写的可行性,为进一步制造柔性电子器件提供了实验基础。

关于“N+A+的+N’”式偏正结构之中心语省略条件的讨论

格式为Ｎ＋Ａ＋的＋Ｎ’的偏正结构，其中心语“Ｎ”的省略与否，关键在于这个中心语由哪一类名词充当。