液晶性噁二唑类载流子传输材料

将液晶基团引入到载流子传输材料中合成了新型液晶性二唑类衍生物E3 和E6,利用偏光显微镜、差热扫描和广角X射线衍射的方法对其液晶性进行了研究 ,结果表明 ,E3 为单向近晶型液晶 ,E6为双向近晶型液晶。同时 ,利用紫外 可见吸收光谱和电化学方法测定了材料的能级结构参数 ,其高的LUMO能级 ,低的HOMO能级 (相对真空能级 )及较大的带隙表明 ,它们不仅有利于电子从阴极的注入 ,还对空穴和激子具有一定的阻挡作用。由于材料在有序的近晶相比在无序的各向同性相将具有高的载流子迁移率 ,因此将液晶性与传输性相结合对提高材料载流子迁移率具有非常重要的意义。

噻吩低聚物能级结构的量子化学研究

用量子化学方法计算了系列 EDOT低聚物的紫外 -可见吸收光谱和前线分子轨道 ,得到了相应的能级结构参数 .与实验值进行对比发现 ,计算值与实验值具有相同的变化趋势 .计算结果表明 ,通过选择性地改变共轭主链的长度、取代基的位置和取代基的类型 ,可以规律性地改变化合物光谱性质和能级结构 .

有机电致发光领域中的液晶材料

综述了液晶材料在有机电致发光领域中应用的研究进展。主要围绕通过引进液晶基元提高有机载流子传输材料的迁移率和将液晶性同发光性相结合,制备直接发射偏振光的有机电致发光器件两方面内容进行评述。

铁路计算机联锁软件测试技术的优化实现

铁路信号的联锁逻辑非常复杂,针对联锁逻辑的测试工作也就十分的艰巨。目前计算机联锁软件测试领域所涉及的测试技术也在不断研究过程中,将Petri网等形式化描述方法引入联锁测试是国内外研究的一个重要方向。介绍了软件测试的一般方法,并引入有色Petri网的概念与特点,将有色Petri网建模方法应用到计算机联锁软件测试技术中,给出一种优化实现。

多孔二氧化钛制备及其钙热还原的研究

提出了多孔钛制备的新方法,先采用占位体法制备出具有一定孔结构的二氧化钛,而后通过钙蒸气还原、浸出,获得多孔钛。借助X射线衍射、扫描电镜、X射线能谱仪、压汞仪等检测手段分别考察了造孔剂种类、造孔剂添加量、烧结温度、升温速率等对多孔二氧化钛孔结构的影响;并且通过钙蒸气还原制备出了具有一定孔结构的多孔钛。实验结果表明:添加不同种类造孔剂制备出的多孔二氧化钛的孔隙率大小的顺序为:柠檬酸>淀粉>石墨;烧结温度区间在800℃~1100℃时,样品的孔隙率呈现先上升后下降的趋势;淀粉为造孔剂时,获得更加均匀的孔分布;将所制备的多孔二氧化钛还原,所得到的多孔钛具有一定孔隙结构,并且随着多孔二氧化钛孔隙率的增大,所得多孔钛表面孔增多,多孔钛结构更加疏松。

ODF工艺中液晶滴下量的优化

研究了小尺寸液晶显示器件ODF(One Drop Filling)工艺中液晶滴下量对漏液晶和低温气泡的影响,确定了液晶滴下量的安全范围。开发了液晶滴下设备与PS高度检测设备联动的新型液晶滴下方法,有效地解决了PS产品在ODF工艺中发生漏液晶和低温气泡的问题。

ODF工艺的进展

综述了近年来液晶滴下(ODF)工艺的进展。主要围绕ODF工艺的基本原理、关键材料、设备特点进行了介绍;并结合传统真空灌注(FILLING)工艺,阐述了ODF工艺的优点,展望了ODF工艺未来的发展方向。

高中音乐教学中存在的问题及对策研究

随着我国教育改革的不断发展,学生的全面发展受到了越来越多家长和教师的认可,在全面发展的过程中,高中音乐教学也是重中之重。音乐教育不但是素质教育的重要组成部分之一,它对学生的思维培养以及审美能力的提高起到至关重要的作用,但是在高中音乐的实际教学中,还存在着一些不可忽视的问题,本文就这些存在的问题和解决对策进行了以下分析。

ODF生产线设计

介绍了全自动液晶滴下(ODF)生产线设计的关键点。根据规划产能和设备节拍时间,计算了各种工艺设备的数量;研究了隔垫物系统、液晶滴下系统和成盒系统的工艺要求;根据工艺设备的运行特点、基板投入方式等要素探讨了搬运系统的运营方案。成功设计了国内第一条多功能全自动ODF生产线,并实现量产。

FFT复数处理器设计与FPGA验证

本文介绍了一种基于现场可编程门阵列(FPGA)的快速傅里叶变换(FFT)复数处理器设计,可进行1024点复数计算。采用按时间抽取的基-4算法和基于RAM的蝶形结构。同时对最后一级旋转因子进行了优化,减少了存储器的资源占用。使用流水线的处理结构,控制器简单。最后定点matlab建模与Synopsys的仿真器VCS仿真结果进行了对比,功能正确。完成整个运算仅用了2064个周期。最后用Altera公司的Cyclone IV E系列EP4CE10E22C8芯片完成原型验证,在时钟频率为50MHz时,完成1024点复数FFT仅用41.28μs。

14.00-20 20PR工程机械斜交轮胎的设计

介绍14.00-20 20PR工程机械斜交轮胎的设计情况。结构设计:外直径1248mm,断面宽330mm,行驶面宽度280mm,弧度高25mm,胎圈着合直径509mm,胎圈着合宽度254mm,断面水平轴位置(H1/H2)0.9195,胎面采用以横向花纹沟为主的加深块状花纹,花纹饱和度33.1%,花纹周节数30。施工设计:胎面采用三方五块结构,胎体采用12层高强度1870dtex/2锦纶6浸胶帘布,缓冲层采用4层930dtex/2锦纶66浸胶帘布,胎圈采用三钢丝圈结构和大三角胶,采用卸肩式成型机头成型,用Φ1651mm个体硫化机硫化。成品轮胎试验结果表明,轮胎充气外缘尺寸和物理性能均达到国家标准和设计要求,强度性能良好。

TFT-LCD移动显示窄边框技术进展

窄边框显示屏因其简洁、美观、相同尺寸可视面积大等优点,已成为高品质显示屏的主要发展趋势。文章结合近几年平板显示展会信息,介绍了移动显示窄边框技术的进展。同时,介绍了实现窄边框所涉及到的显示屏电极线设计技术、边框胶固化工艺和液晶滴下工艺及其改善,并对边框胶涂布和液晶滴下设备的改进方向进行了说明。

Zara漏光和Rubbing Mura改善研究

研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因。

TFT-LCD中隔垫物密度与Push Mura和低温气泡的关系

研究了隔垫物密度对Push Mura和低温气泡的影响。实验表明,通过增加隔垫物密度,能提高液晶面板的抗压强度,降低Push Mura发生率。但是,隔垫物密度过高会引起低温气泡发生。当隔垫物密度控制在适当范围内时,既能大大改善Push Mura,又不会发生低温气泡,且不影响产品的光学特性。

ODF工艺用封框胶的研究

研究了液晶面板制造ODF工艺用封框胶材料与周边M ura的关系。实验表明,通过提高UV光照量,调整封框胶中引发剂和偶联剂等活性成分,能有效地改善周边M ura,同时提高液晶面板的剥离强度。

应用于AMOLED薄膜封装的高应力氮化硅工艺探讨

研究了AMOLED柔性薄膜封装PECVD系统中射频功率和反应压力对氮化硅薄膜应力的影响,结果表明,射频功率的改变影响离子对衬底的轰击效应,反应压力的改变影响气体分子的平均自由程。增大射频功率和降低反应压力,膜层压应力均相应变大。此外,通过调节反应气体中的氮气流量,可以使反应气体分解的更完全、促使反应前驱物迁移到基板合理位置,改善膜层结构从而提高膜层均匀性及光学特性。

有机层上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题研究

随着显示技术的发展,Ti/Al/Ti材料需求的厚度越来越厚,走线越来越窄,目前LTPS显示技术中常规的设计是使用无机膜作为Ti/Al/Ti的衬底,而柔性OLED显示技术新设计中Ti/Al/Ti衬底开始逐渐使用有机膜(聚酰亚胺等),Ti/Al/Ti干法刻蚀工艺面对的挑战越来越大。本文将着重对感光有机物(聚酰亚胺等)基底上Ti/Al/Ti干法刻蚀中Al腐蚀问题进行分析研究。实验结果表明:单独增加CF4/O2防腐蚀后处理的时间会导致新的问题,会出现后面平坦层脱落的现象。通过光阻线宽的增加和光阻厚度的减薄,可改善Al腐蚀和平坦层脱落的问题。

提高OLED蒸镀稳定性的滤波参数及其优化设计

为了提高OLED有机蒸镀过程的稳定性,设计引入4种滤波参数对设备及环境噪音形成的信号干扰进行消除或降低,并通过DOE实验,分析引入的4种滤波参数对蒸镀稳定性的影响并找到滤波参数的最佳组合,将结果应用到实际生产后稳定性及良率得到显著提升.

UDZ-141X-G型多功能锅炉水位显示控制报警器的应用

1概述我公司锅炉及其他水位控制系统安装后,一直未更新,操作复杂,使用人员较多,为此将其更新为UDZ—141X—G型多功能锅炉水位显示控制报警器,它是UDSK系列示控仪的升级板，是一款真正免维护型锅炉水位仪表，它符合（GB／T13638-92）《工业锅炉水位控制报警装置》国家标准。

ODF工艺中边框胶涂布方式的研究

TFT-LCD制造工艺中,目前多采用ODF(one drop filling)成盒方法。边框胶涂布是ODF方法中的关键技术,对于同一尺寸的产品而言,不同的涂布方式所需要的涂布时间不同,直接影响着产能。按照传统的"单个涂布"方式,产品尺寸越小,涂布笔数越多,涂布工艺时间越长,产能越低。因此,如何通过优化边框胶涂布方式来缩短小尺寸(3.5in以下)产品的涂布时间,成为了实际生产中面临的重要课题。我们开发了几种实用高效的边框胶"一笔连涂"方法,并比较了不同涂布方式下的产能差异,一笔连涂方式大大减少了涂布笔数,有效缩短了涂布时间。