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适合VLSI/ULSI的深亚微米MOS器件模型BSIM2的研究 被引量:1
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作者 陈勇 肖兵 杨漠华 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1997年第3期176-180,共5页
论述了深亚微米MOS器件模型BSIM2。从强反型区、亚阈区、过渡区及输出电阻等几方面,以物理概念为基础进行了较详细分析,并与国内1μm工艺的nMOS测量数据进行了比较。
关键词 MOS器件 器件物理 器件模型 亚微米器件
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MOS器件热电子退化的电子辐射实验研究
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作者 陈勇 于奇 杨漠华 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期666-669,共4页
在分析热电子效应与辐射效应在MOSFET产生界面态关系的基础上,给出了采用普通电子直线加速器作辐射源来对MOS器件热电子退化效应进行研究的方法和采用该方法对1μm工艺N沟MOSFET进行热电子退化效应的研究结果,并对... 在分析热电子效应与辐射效应在MOSFET产生界面态关系的基础上,给出了采用普通电子直线加速器作辐射源来对MOS器件热电子退化效应进行研究的方法和采用该方法对1μm工艺N沟MOSFET进行热电子退化效应的研究结果,并对热电子退化与偏置的关系进行了讨论,得到了确定热电子退化寿命的快速而简便的方法。 展开更多
关键词 MOS 场效应晶体管 热电子效应 辐射 界面态
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Analytical charge control model for AlGaN/GaN MIS-HFETs including an undepleted barrier layer
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作者 卢盛辉 杜江锋 +4 位作者 罗谦 于奇 周伟 夏建新 杨漠华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期25-31,共7页
An analytical charge control model considering the insulator/AlGaN interface charge and undepleted Al-GaN barrier layer is presented for AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor heterostructure field effect transistors... An analytical charge control model considering the insulator/AlGaN interface charge and undepleted Al-GaN barrier layer is presented for AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor heterostructure field effect transistors (MIS-HFETs) over the entire operation range of gate voltage.The whole process of charge control is analyzed in detail and partitioned into four regions:Ⅰ—full depletion,Ⅱ—partial depletion,Ⅲ—neutral region andⅣ—electron accumulation at the insulator/AlGaN interface.The results show that two-dimensional electron gas(2DEG) saturates at the boundary of regionⅡ/Ⅲand the gate voltage should not exceed the 2DEG saturation voltage in order to keep the channel in control.In addition,the span of regionⅡaccounts for about 50%of the range of gate voltage before 2DEG saturates.The good agreement of the calculated transfer characteristic with the measured data confirms the validity of the proposed model. 展开更多
关键词 ALGAN/GAN MIS-HFET 2DEG analytical charge control model
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