不同光照条件下玉米苗期叶绿素指数的遗传分析

为了研究玉米苗期叶片叶绿素光照强度响应的遗传规律,本研究以玉米骨干自交系K22与Dan340为父母本构建的192个重组自交系作为研究材料,采用完备区间作图法(ICIM),对苗期玉米不同叶片黑暗处理前后叶绿素指数SPAD进行了QTL定位分析。分析结果共检测到位于1号、2号、5号、6号、8号染色体的19个QTL,单个QTL可解释4.80%~14.32%的表型变异。其中黑暗处理前分别定位到位于1号、2号、5号、6号染色体的10个QTL,黑暗处理后共检测到位于1号、5号和8号染色体的5个QTL;同时以黑暗处理前后的叶绿素指数差值作为考察叶绿素降解的指标,共检测到位于5号、6号和8号染色体的4个QTL。研究结果说明不同部位叶片的叶绿素调控机理有所不同,而且不同部位叶片光照响应也不同,该结果可为探究叶片光照响应遗传机理提供参考。