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CN_x薄膜的制备和表征 被引量：1
1
作者 程德刚 吕反修 +2 位作者 杨莲隐 宋铂 佟玉梅 《北京科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第1期100-104,共5页
采用在纯氮气氛中磁控溅射高纯石墨靶的方法成功地制备了碳氮薄膜．研究表明，碳氮膜的硬度不仅与薄膜中的氮含量有关，更重要的是与碳氮原子之间的结合状态有关．C=N键有利于薄膜硬度的提高．高溅射功率和高偏压能促进碳氮叁键的形成... 采用在纯氮气氛中磁控溅射高纯石墨靶的方法成功地制备了碳氮薄膜．研究表明，碳氮膜的硬度不仅与薄膜中的氮含量有关，更重要的是与碳氮原子之间的结合状态有关．C=N键有利于薄膜硬度的提高．高溅射功率和高偏压能促进碳氮叁键的形成，从而提高薄膜硬度． 展开更多
关键词 磁控溅射 碳氮薄膜 硬度 制备 表面形貌
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