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题名如何有效提高光刻掩模版的使用寿命
被引量:1
- 1
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作者
杨达永
廖世荣
方佼
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机构
华越微电子有限公司
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出处
《微电子技术》
2002年第1期43-45,共3页
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文摘
本文从接触式光刻技术的角度出发 ,对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析 ,并根据遇到的具体情况 ,提出改进方法 ,开发新的生产工艺技术 ,使接触式光刻机掩模版的寿命有了很大的提高 。
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关键词
光刻
掩模版
使用寿命
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Keywords
Photolithography
Mask
Film thickness
Yield
Coater
IC
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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题名离子注入中的沟道效应控制
被引量:1
- 2
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作者
朱国夫
杨达永
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机构
华越微电子有限公司
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出处
《微电子技术》
2002年第3期36-40,共5页
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文摘
离子注入中的沟道效应使注入离子在深度上的控制变得很困难 ,并使SHEET值的均一性恶化。本文借助计算机模型 ,对注入剂量、注入能量、硅片基板方位、硅片表面薄膜氧化层厚度变化时 ,研究分析了注入沟道效应的相应变化。
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关键词
离子注入
沟道效应
计算机模型
SHEET电阻
均一性
控制
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Keywords
Ion implantation
Channel effect
Model of computation
Sheet resistance
Uniformity
Control
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分类号
TN305.3
[电子电信—物理电子学]
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题名涂胶设备背面冲洗功能的开发与研制
- 3
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作者
廖世荣
杨达永
方佼
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机构
华越微电子有限公司
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出处
《微电子技术》
2002年第2期42-46,共5页
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文摘
本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题 ,提出改进措施 ,并根据设备的具体情况 ,增加了涂胶设备的背面冲洗功能。使制品在涂胶过程中 ,及时地对制品背面进行冲洗 ,从而保证了制品背面的洁净度 ,对提高产品质量和提高产品的成品率有非常重要的意义 。
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关键词
涂胶机
光刻
背面冲洗功能
刻蚀
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Keywords
Coater
Photolithography
Oven
Clean of backside
Resolution
Etch
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分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
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