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如何有效提高光刻掩模版的使用寿命 被引量:1
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作者 杨达永 廖世荣 方佼 《微电子技术》 2002年第1期43-45,共3页
本文从接触式光刻技术的角度出发 ,对引起光刻掩模版局部损坏的可能原因进行分析 ,并根据遇到的具体情况 ,提出改进方法 ,开发新的生产工艺技术 ,使接触式光刻机掩模版的寿命有了很大的提高 。
关键词 光刻 掩模版 使用寿命
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离子注入中的沟道效应控制 被引量:1
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作者 朱国夫 杨达永 《微电子技术》 2002年第3期36-40,共5页
离子注入中的沟道效应使注入离子在深度上的控制变得很困难 ,并使SHEET值的均一性恶化。本文借助计算机模型 ,对注入剂量、注入能量、硅片基板方位、硅片表面薄膜氧化层厚度变化时 ,研究分析了注入沟道效应的相应变化。
关键词 离子注入 沟道效应 计算机模型 SHEET电阻 均一性 控制
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涂胶设备背面冲洗功能的开发与研制
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作者 廖世荣 杨达永 方佼 《微电子技术》 2002年第2期42-46,共5页
本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题 ,提出改进措施 ,并根据设备的具体情况 ,增加了涂胶设备的背面冲洗功能。使制品在涂胶过程中 ,及时地对制品背面进行冲洗 ,从而保证了制品背面的洁净度 ,对提高产品质量和提... 本文根据涂胶设备在加工制品过程中所遇到的制品背面沾污问题 ,提出改进措施 ,并根据设备的具体情况 ,增加了涂胶设备的背面冲洗功能。使制品在涂胶过程中 ,及时地对制品背面进行冲洗 ,从而保证了制品背面的洁净度 ,对提高产品质量和提高产品的成品率有非常重要的意义 。 展开更多
关键词 涂胶机 光刻 背面冲洗功能 刻蚀
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