粪肠球菌与巨噬细胞相互作用机制的研究进展

粪肠球菌(Enterococcus faecalis)是难治性根尖周炎的主要致病菌,脂磷壁酸是其主要免疫原和重要毒力因子。作为天然免疫反应的重要成员,巨噬细胞在吞噬杀灭微生物、呈递抗原和分泌多种细胞因子调控机体的炎症反应等方面起了重要作用。粪肠球菌在与宿主巨噬细胞的长期相互作用过程中,也逐渐形成了多种逃避杀灭的有效策略,得以在宿主体内存活并增殖。本文就巨噬细胞抵抗粪肠球菌感染及粪肠球菌逃避巨噬细胞杀灭两方面的研究进展进行综述。

ROS/HIF-1信号通路调控口腔鳞状细胞癌肿瘤浸润T淋巴细胞分化的机制

目的:探究口腔鳞状细胞癌(OSCC)肿瘤微环境中活性氧(ROS)对肿瘤浸润T淋巴细胞分化的作用。方法:流式细胞术分析OSCC肿瘤组织和远端正常组织T淋巴细胞各分化亚群比例,ROS试剂盒检测T淋巴细胞各分化亚群ROS表达情况,实时荧光定量RT-PCR检测癌及远端正常组织中低氧诱导因子1A(HIF1A)、葡萄糖转运蛋白1(GLUT1)、己糖激酶2(HK2)等T淋巴细胞代谢相关基因,利用GEPIA2数据库分析T细胞HIF1A在肿瘤及远端正常组织的差异表达及其与预后的相关性。结果:与正常组织相比,效应T淋巴细胞(CD45RA+CCR7-)在癌组织中所占比例较高(P<0.05);癌组织中CD3+T淋巴细胞的ROS含量高于正常组织(P<0.05),癌组织中效应T淋巴细胞的ROS含量高于效应记忆性T淋巴细胞(P<0.05),正常组织中效应T淋巴细胞和效应记忆性T淋巴细胞中ROS含量未见统计学差异(P>0.05);癌组织中T淋巴细胞HIF1A、GLUT1、HK2表达高于正常组织T淋巴细胞(P<0.05);T细胞HIF1A水平在肿瘤组织中比较高,但未见统计学差异(P>0.05),肿瘤组织中效应T细胞的HIF1A水平明显高于远端正常组织,差异具有统计学意义(P<0.05);T细胞高表达HIF1A的肿瘤相对预后较好(P<0.05)。结论:OSCC肿瘤微环境中ROS/HIF-1信号通路上调与肿瘤组织中高比例的效应T淋巴细胞存在高度相关性。

口腔微生物与免疫细胞及上皮屏障互作在口腔黏膜稳态维持及疾病发生中的作用研究进展

健康状态下,口腔微生物、黏膜免疫细胞及上皮屏障三者相互作用,维持口腔微生态稳定。疾病状态下,口腔微生态紊乱,各种致病菌及其毒力因子、代谢产物等激惹免疫系统,直接或间接破坏上皮屏障,促进口腔黏膜病的发生发展,产生免疫炎症反应或不可逆转的“炎-癌”转化。本文从口腔稳态维持与口腔黏膜病发生两个层面,针对口腔微生物与免疫细胞及上皮屏障的相互作用作一综述,为进一步揭示口腔黏膜稳态与口腔黏膜病发生发展作用机制,从而通过重塑黏膜稳态开发口腔黏膜病诊疗新策略提供新思路与科学理论依据。

粪肠球菌脂磷壁酸对巨噬细胞自噬的影响

目的通过研究粪肠球菌脂磷壁酸(LTA)对巨噬细胞自噬功能的影响,为后续进一步深入探讨顽固性根尖周炎的发病机制提供实验依据。方法体外培养小鼠巨噬细胞系RAW 264.7,细胞计数试剂盒(CCK-8)检测LTA的细胞毒性作用;蛋白免疫印迹法(Western blot)检测LTA作用下巨噬细胞自噬相关蛋白LC3-Ⅱ/LC3-Ⅰ比值、Beclin1的表达水平;实时荧光定量聚合酶链反应(PCR)检测自噬相关基因LC3、Beclin1 m RNA表达水平的变化;构建稳定表达自噬双荧光慢病毒载体HBLVm RFP-GFP-LC3-PURO的巨噬细胞系,激光共聚焦显微镜观察自噬情况;SPSS 20.0统计软件进行数据分析。结果 CCK-8结果表明,选用20μg/m L LTA及其以下浓度处理巨噬细胞24 h均未见明显毒性作用(t=2.102,P=0.1106);Western blot结果表明,LTA刺激巨噬细胞后:LC3-Ⅱ/LC3-Ⅰ比值表达量(0.42±0.04)与对照组(0.04±0.02)相比显著提高,差异有统计学意义(F=14.25,P<0.001),Beclin1蛋白表达量(0.56±0.11)与对照组(0.28±0.08)相比呈上升趋势(F=3.459,P=0.0258),均存在剂量依赖效应;实时荧光定量PCR结果表明,LTA刺激巨噬细胞后,LC3基因表达水平(5.94±0.85)与对照组(1.03±0.28)相比显著提高(F=12.93,P<0.001);Beclin1基因表达水平(2.22±0.21)与对照组(1.02±0.28)相比呈上升趋势(F=6.036,P<0.001),存在剂量依赖效应;成功构建稳定表达HBLV-m RFP-GFP-LC3-PURO的巨噬细胞系,激光共聚焦显微镜下观察显示,LTA作用组自噬体形成量(58±6)与对照组(18±8)相比差异有统计学意义(F=12.36,P=0.0021)。结论粪肠球菌LTA可诱导巨噬细胞产生自噬,且存在剂量依赖效应。

不同抛光系统对纳米树脂表面粗糙度和菌斑黏附的影响

目的研究比较5种抛光系统处理纳米树脂后的表面粗糙度及其对细菌黏附程度的影响。方法 Filtek Z350 XT纳米树脂制作54个样本,随机平均均分为6组,每组9个。其中5组为实验组(抛光组)分别用Opti Disc、Hi Luster^(Plus)、Sof-Lex、Super-snap以及Composite Polishing Kit CA0310等5种抛光系统修整、抛光,另1组不做抛光处理为对照组。激光共聚焦扫描显微镜测定样本表面粗糙度(Ra)。将上述样本与变异链球菌于体外混合培养24 h,测定其表面细菌黏附量。采用单因素方差(One-Way ANOVA)分析方法对样本表面粗糙度和生物膜菌落计数结果进行统计学分析。结果实验组中Hi Luster^(Plus)组的Ra值最低平均(0.196±0.02)μm,与Composite Polishing Kit CA0310组相比差异有统计学意义(P=0.016);其余各实验组间Ra值无显著差异,均能达到较低的粗糙度值。5个实验组的细菌黏附量均低于对照组,差异有统计学意义(P<0.05);5个实验组间的细菌黏附量差异无统计学意义(P>0.05)。结论 Hi Luster^(Plus)抛光系统处理纳米树脂可获得较低的表面粗糙度。系统抛光可明显降低纳米树脂材料表面细菌黏附量。