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UHF频段350 W超宽带小型化GaN功率放大器设计
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作者 张晓帆 银军 +3 位作者 倪涛 余若祺 高永辉 林正兆 《通讯世界》 2023年第11期4-6,共3页
采用50 V氮化镓(GaN)芯片,设计一款超高频(UHF)频段350 W超宽带小型化GaN功率放大器。基于砷化镓(GaAs)无源工艺,设计芯片化的输入集成无源器件(IPD)匹配电路;基于高热率的瓷片,设计集成的“L”型瓷片预输出匹配,以及基于高介电常数的... 采用50 V氮化镓(GaN)芯片,设计一款超高频(UHF)频段350 W超宽带小型化GaN功率放大器。基于砷化镓(GaAs)无源工艺,设计芯片化的输入集成无源器件(IPD)匹配电路;基于高热率的瓷片,设计集成的“L”型瓷片预输出匹配,以及基于高介电常数的印刷电路板(PCB)板材,设计外输出匹配电路,从而实现输出匹配电路的宽带小型化。采用混合集成工艺实现小型化高密度集成,功率放大器体积为25 mm×25 mm×7 mm。经测试,功率放大器在频带为0.3 GHz~0.7 GHz、电压为50 V、脉宽为100μs、占空比为10%、输入功率为15 W的工作条件下,实现了带内输出功率大于350 W、功率增益大于13.5 dB、功率附加效率大于50%的性能指标。 展开更多
关键词 超宽带 GAN 小型化 功率放大器 UHF
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增强型AlGaN/GaN MIS-HEMTs器件的质子辐照效应 被引量:4
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作者 吕玲 林正兆 +2 位作者 郭红霞 潘霄宇 严肖瑶 《现代应用物理》 2021年第2期86-92,共7页
利用70 keV和140 keV质子辐照增强型AlGaN/GaN绝缘栅高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs),得到了最大饱和电流线密度、阈值电压及栅泄漏电流线密度等关键参数的退化规律,并与常规HEMTs器件的辐照退化行为进行了比较,并通过SRIM计算结果和C-V... 利用70 keV和140 keV质子辐照增强型AlGaN/GaN绝缘栅高电子迁移率晶体管(MIS-HEMTs),得到了最大饱和电流线密度、阈值电压及栅泄漏电流线密度等关键参数的退化规律,并与常规HEMTs器件的辐照退化行为进行了比较,并通过SRIM计算结果和C-V测试结果进一步分析了MIS-HEMTs的退化机制。结果表明,质子辐照在栅介质层和栅介质/AlGaN界面引入的辐照缺陷会导致界面态充/放电效应,使阈值电压正向漂移;辐照缺陷增加了电子穿越势垒的概率,导致栅极泄漏电流线密度增大;2维电子气(2DEG)沟道层产生的辐照缺陷俘获电子,导致2DEG密度降低,使饱和漏电流线密度降低。与常规肖特基栅器件相比,栅介质的存在使器件对质子辐照更为敏感。结合仿真计算结果可知,器件中低能质子的非电离能损区接近2DEG沟道层,是导致低能质子辐照对器件损伤更为严重的主要原因。通过变频电容分析发现,质子辐照后器件界面电荷密度增加,并引入了大量深能级缺陷。 展开更多
关键词 ALGAN/GAN 增强型 绝缘栅高电子迁移率晶体管 质子辐照 缺陷 界面态
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Effect of heavy ion irradiation on the interface traps of AlGaN/GaN high electron mobility transistors
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作者 Zheng-Zhao Lin Ling Lü +4 位作者 Xue-Feng Zheng Yan-Rong Cao Pei-Pei Hu Xin Fang Xiao-Hua Ma 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第3期428-433,共6页
AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs)were irradiated with heavy ions at various fluences.After irradiation by 2.1 GeV^(181) Ta^(32+) ions,the electrical characteristics of the devices significantly decre... AlGaN/GaN high electron mobility transistors(HEMTs)were irradiated with heavy ions at various fluences.After irradiation by 2.1 GeV^(181) Ta^(32+) ions,the electrical characteristics of the devices significantly decreased.The threshold voltage shifted positively by approximately 25%and the saturation currents decreased by approximately 14%.Defects were induced in the band gap and the interface between the gate and barrier acted as tunneling sites,which increased the gate current tunneling probability.According to the pulsed output characteristics,the amount of current collapse significantly increased and more surface state traps were introduced after heavy ion irradiation.The time constants of the induced surface traps were mainly less than 10μs. 展开更多
关键词 gallium nitride radiation effects DEFECTS pulse testing
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