试论汉代关中地区铁器生产原料的来源与流通——邰城铸铁作坊出土铁遗物的冶金分析

关中地区汉代铁器工业的工作和讨论不多,2010年发现的邰城遗址铸铁作坊,这一问题提供了重要的新材料。本文在对作坊出土铁遗物全面整理的基础上,选择107件样品进行金相组织分析。结果显示,废弃的铁遗物中,多数为白口铁和灰口铁残块,以及若干铸铁脱碳钢工具和坯料、炒钢工具或坯料、韧性铸铁工具和麻口铁工具或容器残块。此外,还从遗址土壤中筛选出与锻造有关、一般称为"锻造剥片"的薄铁片遗物。遗物的空间分布分析表明这些铁遗物集中回收准备重熔后,因某种原因工匠无法利用而集中废弃。邰城铸铁作坊很可能通过回收附近聚落的废弃铁器重熔生产,但部分铁遗物并非由本作坊直接生产。除铸铁外,作坊还可能以锻造方式生产或修补铁器。因此,对邰城作坊的分析,有助于认识汉代关中地区县级聚落中铁器作坊的运作和资源流通分配情况。

周公庙商周时期聚落动物资源利用初识

本文通过初步分析周公庙遗址商周时期聚落10个属性不同单位的动物骨骼,探讨该聚落中动物资源的利用方式。对单位中动物骨骼的种属、消费部位与年龄的分析显示,聚落中不同性质的功能区间消费动物种类及部位的差异可能并不明显。聚落肉食资源的生产、屠宰与消费可能在不同的地点,对动物的屠宰也并非皆与最大化地利用肉食的模式相符。

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术 ,本文报道了等离子辅助源的性能指标 ,用这个源制造的Ti O2 膜工艺与成膜质量 ,以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。

全介质宽波段消偏振分光镜

应用受抑全反射原理提出了一种全介质宽波段消偏振分光镜的设计方法,推导了获得消偏振的条件和获取各种分光比消偏振分光镜的设计结论,实验证实了理论的正确性。

硅膜特性与1060nm窄带干涉滤光片的研究

实验研究表明,硅膜在800～1100nm是一个弱吸收膜,在波长短於800nm处是个强吸收膜;利用硅膜的这一可贵特性,设计并制备了1060nm窄带干涉滤光片。

增益平坦滤光片的设计

分析了增益平坦滤光片的工作原理,提出其性能参数和指标要求,并以OIC2001的目标曲线为例,利用针法膜系自动设计并结合遗传算法和隧穿法等膜系优化设计方法,设计出与目标曲线基本一致的膜系结构。

Needle-Tunneling法膜系自动设计

综述了Ｎｅｅｄｌｅ和Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ 法膜系自动设计的基本原理，举出它们的应用实例，并且指出一个优秀的光学膜系自动设计程序应该包括Ｎｅｅｄｌｅ 法、Ｔｕｎｎｅｌｉｎｇ 法和传统的优化方法。它们的结合和交叉使用，使我们有可能从单层膜开始设计任意光学性能的多层膜。

等离子辅助成膜技术

等离子辅助沉积技术是一种能大规模高质量制造光学膜的技术，报道了我们研制的等离子辅助源的性能指标，用这个源制造的ＴｉＯ２ 膜工艺与成膜质量，以及用等离子辅助生产减反膜的工艺。

膜系自动设计中的隧行方法

针法膜系自动设计可以从单层膜开始优化设计得到一个多层膜，但多层膜还必须克服局部极值得到最佳膜系设计．为此我们讨论了三种可以摆脱局部极值影响的隧行方法．

一种新的光学膜系设计方法——NEEDLE 法

针（ＮＥＥＤＬＥ）法是一种先进的光学膜系设计方法．它克服了传统优化方法中容易陷入局部极值的缺点．它通过在膜系中插入薄层，使得膜系评价函数降低，且优化设计可以从任意给定的单层膜开始．文中同时给出了其数学模型的详细推导，以及用ＮＥＥＤＬＥ法设计的光学膜系举例．

应用于光纤通信DWDM系统的超窄带滤光片的设计

设计光纤通信中波分复用 (DWDM)器件所用的超窄带滤光片 (NBPF) .该器件能够实现合 /分波的功能 ,避免串扰 ,具有矩形通带和较高的抑制比 .通过理论分析及实验 ,提出了采用多腔 F- P滤光片设计 DWDM用超窄带滤光片的方法 ,并举例设计 2 0 0 GHz的滤光片 .它能够满足通信指标 ,具有符合要求的矩形通带和波纹 ,插入损耗和偏振相关损耗在偏差要求范围之内 ,信道宽度满足指定范围 ,同时每层膜的厚度为规整的 λ/ 4 。

CdS_(0.1)Se_(0.9)纳米晶体的电光性质

对嵌埋于玻璃基体中的ＣｄＳ０．１Ｓｃ０．９纳米晶体进行了室温电调制透射谱测量，观察到较强的共振和非共振电光响应倚号（１０－４～１０－３）．共振电光响应具有如下特征：同一组分的纳米晶体其倩号的峰位随着尺寸减小向高能方向移动；同一样品谱线形状不随外电场强度而变；信号幅度与外电场强度的平方成线性关系，并且随调制频率的增加而减小；共振电光效应的物理机制是量子受限的Ｓｔａｒｋ效应．非共振电光响应信号呈与波长有关的振荡线形；外电场强度增加，非共振电光响应信号幅度也增加；用介电受限的局域场增强理论解释了非共振电光效应的物理机制．

膜系优化设计中的模糊输入及评价函数的改进

为建立更为合理科学的目标光谱函数，从而改进膜系的自动设计，在进行理想光谱曲线输入时，对光谱反射比或透射比要求不严格的波段不进行精确输入，只输入一个区间范围；要求严格匹配的波段，按点输入准确值． 同时，评价函数的构造根据波段要求的严格与否做不同的变形．采用改进以后的方法设计的膜系与原来的膜系相比，层次减少，而且设计时间缩短．采用模糊输入法，对评价函数的构造做相应的变形，可以改进膜系的自动设计．

膜系优化设计中的模糊输入及评价函数的改进

为建立更合理、更科学的目标光谱函数，而改进膜系的自动设计．在进行理想光谱曲线输入时，对光谱反射比或透射比要求不严格的波段只输入一个区间范围；对要求严格匹配的波段，按点输入准确值．同时，评价函数的构造根据波段要求的严格程度做不同的变形，采用改进以后的方法设计的膜系与原来的膜系相比，层数减少，设计时间缩短．采用模糊输入法，对评价函数的构造做相应的变形，可以改进膜系的自动设计．

含n＝k超薄金属膜的周期对称膜系的性质及窄带高反膜设计

本文阐述了ｎ≈ｋ的超薄金属膜与介质膜组成周期对称膜系的光学特性，并结合Ａｇ、Ａｌ等膜层的高反特性提出了可见光区诱导窄带高反膜系结构，推导出膜系的反射率、反射峰值、反射半波带宽等光谱反射特性的近似公式，实验证实了理论设计和分析。同时也提出了设计红外和紫外窄带高反滤光片的方法。

膜系优化设计中的模糊输入及评价函数的改进

膜系优化设计可以通过采用模糊输入法，建立更为合理科学的目标光谱函数，并进一步改进评价函数，从而更好的进行膜系自动设计。

新型减反膜的设计与制备

根据近年来实际应用中对减反膜的新的需求和指标要求,利用光学薄膜设计软件进行模拟和理论分析,采用常规的薄膜工艺和设备进行大量实验,设计并制备出三种新型的减反膜:含金属膜的减反膜(包括窄带金属减反膜,宽带金属减反膜,减反防静电抗电磁辐射膜),超低反射率减反膜和大角度减反膜,满足了实际器件的应用要求。

膜系优化设计中的逃逸函数法

在膜系优化设计中引入可以摆脱局部极值 ,实现全局优化的逃逸函数 ( escapefunction)法。介绍了逃逸函数法的基本原理及算法设计 ,并举例说明它在膜系优化设计中与 needle法 ,传统优化方法结合使用可以进行全局搜索 。

CdS_(0.1)Se_(0.9)纳米晶体共振电光效应(英文)

采用电吸收谱 (EA)的方法研究了在电场作用下 ,Cd S0 .1Se0 .9纳米晶体光学性质的变化 .分析了电场效应的物理机制 ,电场效应是使纳米晶体的吸收谱展宽和移动 .第一激发态对外加电场敏感 ,而其它激发态不敏感 .从电吸收谱上得到电光响应信号幅度与外加电场场强的平方成正比 ,表明纳米晶体的电光效应是 Kerr效应 ,具有三阶非线性极化率 χ( 3) .

窄带高反膜的研究

结合ｎ≈ｋ的超薄金属膜、Ｆ－Ｐ干涉滤光膜及高反Ａｇ膜的光学特性提出了设计窄带高反膜的一种新方法，给出了可见光区的窄带高反膜的膜系结构，定量地分析了膜系的反射率、反射峰值、反射半波带宽等光谱反射特性，实验证实了理论设计和分析．同时，还提供了设计非可见光波段的窄带高反滤光片的方法．