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集成电路制造企业研磨废水处理实验研究
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作者 徐子义 盛勇 柳晋清 《环境保护与循环经济》 2022年第8期28-31,共4页
利用Fe_(3)O_(4)磁种对集成电路制造企业研磨废水进行絮凝法处理,具有较好的沉降效果。最佳处理实验条件为:系统pH为3.0或4.0、外加磁场强度为0.20 T、Fe_(3)O_(4)磁性颗粒重复利用2次、Fe_(3)O_(4)投加量为6 g,此时系统浊度和总硅去除... 利用Fe_(3)O_(4)磁种对集成电路制造企业研磨废水进行絮凝法处理,具有较好的沉降效果。最佳处理实验条件为:系统pH为3.0或4.0、外加磁场强度为0.20 T、Fe_(3)O_(4)磁性颗粒重复利用2次、Fe_(3)O_(4)投加量为6 g,此时系统浊度和总硅去除率分别可达99.22%与99.79%。江苏某集成电路制造企业采用Fe_(3)O_(4)磁种絮凝法工艺对研磨废水进行处理,年运行费用可节约40万元,经济效益显著。 展开更多
关键词 研磨废水 絮凝法 Fe_(3)O_(4)磁种
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