半导体制造光刻机发展分析

分析了半导体产业国际国内市场状况,研究了光刻机国际国内市场状况、竞争企业状况;同时从生产线应用配置、细分技术、行业应用、竞争因素、主要技术与供应链、技术发展趋势等角度对光刻机产业发展状况进行了深入分析,并对国内光刻机的发展进行思考。

第三代半导体材料应用及制造工艺概况

对当前的第三代半导体材料的基本特性及应用领域进行研究,报告了Si C和Ga N材料的应用现状和发展趋势,并对其制造工艺进行了简要阐述。

450 mm晶圆CMP设备技术现状与展望

分析化学机械平坦化(CMP)耗材发展现状及趋势,推断450 mm晶圆的CMP设备及技术的迫切性;在此基础上,展望450 mm晶圆将会采用系统集成技术、多区域压力控制承载器技术、抛光垫修整技术、终点检测技术、后清洗技术,并初步分析以上这些技术的特点。最后指出随着晶圆制造厂激烈竞争和持续投资,对450 mm的CMP设备要求必有所突破。

晶片减薄技术原理概况

从对晶片减薄的质量要求角度出发,论述了垂直缓进给(Creep-Feed)晶片减薄原理与垂直切深进给(In-Feed)晶片减薄原理。提出原理设计中的原则和相关问题。

用于半导体材料切割的切割设备概况

本文论述了用于半导体材料切割的切割设备的种类和当今国内外切割设备的技术概况、内圆切片机与线切割机的优缺点及其应用的适应性。

QP—108型卧式内圆切片机

本文介绍了ＱＰ—１０８型卧式内圆切片机结构和工作原理，并对主要系统结构设计进行说明。

电针对胃运动、胃电的抑制作用与蓝斑核的递质受体关系

本实验是在过去的工作的基础上，用核团微量注射法进一步探讨蓝斑核内肾上腺素能神经递质和受体是否参与电针与胃运动、胃电的抑制作用。结果表明：（1）蓝斑核内注入去甲肾上腺素（NE），具有加强电针对胃运动、胃电的抑制作用。（2）蓝斑核内注入哌唑嗪（PA），电针对胃运动、胃电的抑制作用减弱。（3）蓝斑核内注入育亨（YOH），电针对胃运动、胃电的抑制作用无明显改变。上述结果提示，蓝斑核内的去甲肾上腺素递质参与电针对胃运动、胃电的抑制作用，并且是通过α1受体发挥作用，与α2受体关系不大，还有其他递质也参与这种抑制作用。

磨轮进给系统精度设计

从机械设计和电气控制设计论述了晶片减薄机磨轮进给系统设计,尤其是磨轮进给系统定位精度实现的途径和关键环节。

用于半导体材料切割的切割设备概况

本文论述了用于半导体材料切割的切割设备的种类和当今国内外切割设备的技术概况，内圆切片机与线切割机的优缺点及其应用的适应性。

CMP中抛光垫的性质研究

以IC1000／SubaIV抛光垫为例，综述了影响抛光垫性能的各种因素，以文献相关数据为依据，着重分析了抛光温度和修整力对抛光垫性能的影响。从分析结果可以得出：IC1000／SubaIV比单层结构IC1000具有更好的抛光效果；新旧抛光垫性能在0～40℃基本相当；新、旧和没有黏合剂抛光垫的正常工作温度为-2．02～103．64℃，且玻璃过渡温度随着抛光垫厚度的减小而增加；抛光垫在0～50℃具有最小的外形变化。定性得出修整力与抛光精度成反比关系，明确了较小修整深度具备较好的平坦化效果。

CMP承载器的初步研究

在CMP中,由于抛光垫在与其接触的晶圆边缘产生异常压力点,以及转台和承载器旋转的线速度之差在边缘处较其他点大得多,从而导致了晶圆边缘效应的产生。阐述了承载器在CMP中的作用,详细分析了边缘效应产生的原因和克服的方法。在承载器上采用与晶圆保持适当间隙的保持环结构,对保持环施加适当的压力,使保持环和晶圆位于同一抛光平面上;针对旋转式CMP设备固有的线速度之差导致片内非均匀性增大的问题,对200mm晶圆划分两区域进行微压力补偿,同时详细说明了压力补偿气路的设计和实现的功能,指出今后多区域微压力补偿将采用矩阵控制技术。

中缝大核微量注射5-HT等药物对电针抑制胃运动、胃电的影响

目的 :探讨电针对胃运动、胃电活动的影响及与中缝大核内递质的关系。方法 :采用霍尔效应同时描记胃运动与胃电慢波的方法 ,观察了电针对安静清醒状态下家兔胃运动、胃电的影响 ,以及中缝大核注入微量的 5 -羟色胺、塞庚啶、P物质、P物质拮抗剂、去甲肾上腺素后电针对胃运动、胃电的影响。结果 :1.电针“足三里”穴对胃运动、胃电慢波呈抑制效应。 2 .中缝大核微量注入 5 -羟色胺、P物质可增强电针的抑制作用。 3.中缝大核微量注入塞庚啶、P物质拮抗剂后电针抑制效应被部分阻断。 4 中缝大核微量注入去甲肾上腺素对电针的抑制作用没有影响。结论 :电针家兔“足三里”穴对胃运动和胃电的抑制效应与中缝大核内的 5 -羟色胺、P物质有关 ,在此抑制效应中 ,中缝大核内的 5 -羟色胺是通过5 -HT2 受体发挥作用的 ;中缝大核内的去甲肾上腺素不参与电针的抑制作用。

切片机主轴系统动态性能研究

论述了切片机主轴系统动态性能的状态以及主轴系统动态性能分析的原理、方法。并应用计算机对其进行计算。

化学机械平坦化中晶圆姿态瞬态调整的数值模拟研究

化学机械平坦化(Chemical mechanical planarization,CMP)是集成电路制造的关键技术之一。晶圆夹持器是CMP系统的核心零部件。为研究万向球头位置对平坦化过程中晶圆姿态瞬态调整能力的影响,采用混合软弹流润滑模型分析抛光垫表面的流动与接触行为,并结合夹持器的瞬态运动方程分析晶圆姿态的动态变化过程。分析结果表明,夹持器姿态的调整能力随万向球头的中心高度增加而提高,摩擦力矩的增加有利于晶圆姿态稳定在平衡位置,但同时接触应力不均匀性增加。因此,合理设计夹持器结构对CMP加工质量非常重要,提出的瞬态混合润滑模型对夹持器的动态特性进行分析可以为设计提供非常有意义的理论指导。

CMP终点监测装置的设计

对CMP工艺过程中的一种终点监测技术进行论述,分析了国外某公司抛光机的电机电流变化监测技术,在此基础上,设计了一种高精度的电流监测和电流电压转换电路,电流监测基于LTC6102高精度电流监测放大器,电流电压转换电路基于MAX472高精度电流传感放大电路和MAX951微功耗/比较放大电路。改进的电路构成简单,监测精度高,成功实现了从安培级的负载电流中辨别出微安级电流变化的精度。实验证明,该电路精度好于1%,显著提高了终点监测精度。

家兔胃运动及胃电活动变化与中缝大核内不同药物微量注射的关系(英文)

背景:中缝大核是延脑腹侧中缝处的一个重要核团,在针刺镇痛、心血管活动调节、呼吸运动调节等方面具有重要的作用,但目前有关其在消化功能调节中的作用报道很少。目的:探讨中缝大核对家兔胃运动及胃电活动的调节作用。设计:以实验动物为研究对象的观察对比实验。单位:一所中医药大学的机能实验室。对象:本实验于2002-09/2003-04在黑龙江中医药大学机能实验室(省重点实验室)完成。选择健康新西兰白兔70只,体质量2.0～2.5kg,雌雄不拘,由黑龙江中医药大学动物中心(Ⅰ级)提供,实验中随机分为7组,即生理盐水组、5-羟色胺组、赛庚啶组、P物质组、P物质拮抗剂组、吗啡组、去甲肾上腺素组。方法:通过中缝大核插管,分别向中缝大核内注射微量的5-羟色胺、赛庚啶、P物质、P物质拮抗剂、吗啡和去甲肾上腺素,并利用霍尔效应原理同步描记家兔胃运动、胃电慢波的波幅与频率变化。主要观察指标:中缝大核区微量注射5-羟色胺、赛庚啶、P物质、P物质拮抗剂、吗啡及去甲肾上腺素后胃运动、胃电的变化。结果:中缝大核微量注入5-羟色胺、P物质可抑制家兔的胃运动和胃电慢波(P<0.05,P<0.01)。中缝大核微量注入赛庚啶、P物质拮抗剂后可使家兔的胃运动和胃电慢波增强(P<0.05,P<0.01)。中缝大核微量注入吗啡。

CMP加工过程去除率的影响因素研究

CMP的加工过程,是对晶圆表面进行全局平坦化的过程,去除率是整个过程较为关键的指标。影响去除率的有下压力、抛光盘及抛光头的转速、温度、抛光液的种类等,综合考虑这些因素不仅能得到合理的材料去除率,优化平坦化效果,而且还能提高生产效率。

中缝大核内微量注射5-羟色胺、P物质等对家兔胃运动胃电的影响

目的 探讨中缝大核内微量注射 5 羟色胺、P物质等对家兔胃运动及胃电的影响。方法 通过中缝大核插管 ,分别向中缝大核内注射微量的 5 羟色胺、赛庚啶、P物质、P物质拮抗剂、吗啡和去甲肾上腺素 ,并利用霍尔效应原理同步描记家兔胃运动与胃电慢波的变化。结果 ①中缝大核微量注入 5 羟色胺、P物质可抑制家兔的胃运动和胃电慢波。②中缝大核微量注入赛庚啶、P物质拮抗剂后可使家兔的胃运动和胃电慢波增强。③中缝大核微量注入吗啡、去甲肾上腺素后对家兔的胃运动和胃电均无影响。结论 中缝大核内的 5 羟色胺、P物质参与了家兔胃运动和胃电慢波的调节 ,而吗啡和去甲肾上腺素可能与中缝大核对胃运动及胃电的调节作用无关。

红外光学终点检测的研究

终点检测是化学机械平坦化的关键技术,它决定着理想的平坦运行的停止点,在以纳米级别的控制上,终点检测尤为重要。目前主要的两种终点检测方法:电机电流存在着误判断,而可见光干涉存在着光蚀效应等。低能量的红外检测根据不同介质及同种介质不同厚度的红外吸收和反射系数不同的原理精确地选择平坦化终点完全克服以上检测手段的不足。阐述了其原理,设计了其硬件原理图,定性分析了红外测量曲线,并指出今后终点检测的方向。

CMP抛光机抛光盘温度的精确控制

CMP的加工过程,是对晶圆表面进行平坦化的过程,在对晶圆表面材料进行去除当中产生了热量,造成温度的上升,为了获得均匀的抛光去除率,达到全局的平坦化,必须对温度采取精确控制,分析研究了CMP加工过程中热量的产生,并介绍了一种对温度进行控制的方法。