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高热稳定性低电阻率钴钡掺杂氧化锰薄膜电极材料制备
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作者 窦晓亮 刘晓林 +1 位作者 陈建峰 柳银增 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第S1期89-92,共4页
通过化学溶液共沉积结合旋涂技术,制备了钴(Co)钡(Ba)掺杂的二氧化锰(MnO_2)薄膜电极材料,在微晶玻璃电容器接近击穿时断路,从而起到保护电路的作用。对材料进行表征的结果表明,此种方法制备的Co、Ba掺杂的MnO_2其热稳定温度达到850℃,... 通过化学溶液共沉积结合旋涂技术,制备了钴(Co)钡(Ba)掺杂的二氧化锰(MnO_2)薄膜电极材料,在微晶玻璃电容器接近击穿时断路,从而起到保护电路的作用。对材料进行表征的结果表明,此种方法制备的Co、Ba掺杂的MnO_2其热稳定温度达到850℃,高于纯MnO_2薄膜电极的600℃。材料的电阻率下降,在Co含量为8mol%时,材料的电阻率达到0.207Ω·cm,接近纯MnO_2的电阻率。MnO_2电极在玻璃基片上附着性良好且厚度均匀。材料的高热稳定性和低电阻率可提高其应用效率。 展开更多
关键词 氧化锰 薄膜电极 电阻率 热稳定性
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