常压下用Anton Paar DMA4500测定了八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷与六甲基二硅氧烷4个二元混合体系在298.15K、303.15K、308.15K、313.15K及318.15K下全浓度范围内的密度和折光率.4...常压下用Anton Paar DMA4500测定了八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷与六甲基二硅氧烷4个二元混合体系在298.15K、303.15K、308.15K、313.15K及318.15K下全浓度范围内的密度和折光率.4个二元体系的密度值随着温度的升高而降低,随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低;4个二元体系的折光率均随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低.展开更多
以二甲基氯硅烷为原料,低温下与氨气反应生成四甲基二硅氮烷,采用气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)对产物结构进行了确认.利用斜式沸点仪测定了四甲基二硅氮烷在绝压10~100 kPa之间的沸点数据,采用Antoine方程和Clarke-Glew方程分别对饱和蒸...以二甲基氯硅烷为原料,低温下与氨气反应生成四甲基二硅氮烷,采用气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)对产物结构进行了确认.利用斜式沸点仪测定了四甲基二硅氮烷在绝压10~100 kPa之间的沸点数据,采用Antoine方程和Clarke-Glew方程分别对饱和蒸气压数据进行了加权最小二乘法拟合,得到了四甲基二硅氮烷的Antoine方程参数(A=8.8976,B=1190.70,C=-63.25 K)和Clarke-Glew方程参数(Δg l H 0 m(298.15 K)=36.82 kJ·mol ^-1,Δg l G 0 m(298.15 K)=6.96 kJ·mol^ -1,Δg l C 0 p,m(298.15 K)=-47.53 J·K^-1 mol^-1).利用基团贡献法估算了四甲基二硅氮烷的临界参数,并结合Antoine方程和Clarke-Glew方程参数估算了四甲基二硅氮烷的偏心因子.展开更多
文摘常压下用Anton Paar DMA4500测定了八甲基环四硅氧烷、四甲基环四硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、十甲基环五硅氧烷与六甲基二硅氧烷4个二元混合体系在298.15K、303.15K、308.15K、313.15K及318.15K下全浓度范围内的密度和折光率.4个二元体系的密度值随着温度的升高而降低,随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低;4个二元体系的折光率均随着六甲基二硅氧烷的摩尔分数的增加而降低.
文摘以二甲基氯硅烷为原料,低温下与氨气反应生成四甲基二硅氮烷,采用气相色谱-质谱联用仪(GC-MS)对产物结构进行了确认.利用斜式沸点仪测定了四甲基二硅氮烷在绝压10~100 kPa之间的沸点数据,采用Antoine方程和Clarke-Glew方程分别对饱和蒸气压数据进行了加权最小二乘法拟合,得到了四甲基二硅氮烷的Antoine方程参数(A=8.8976,B=1190.70,C=-63.25 K)和Clarke-Glew方程参数(Δg l H 0 m(298.15 K)=36.82 kJ·mol ^-1,Δg l G 0 m(298.15 K)=6.96 kJ·mol^ -1,Δg l C 0 p,m(298.15 K)=-47.53 J·K^-1 mol^-1).利用基团贡献法估算了四甲基二硅氮烷的临界参数,并结合Antoine方程和Clarke-Glew方程参数估算了四甲基二硅氮烷的偏心因子.