氧离子注入硅SOI结构的椭偏谱研究

本文利用椭偏光谱法测量了能量为200keV、剂量为2×10^(18)cm^(-2)的^(16)O^+注入Si以及退火样品.应用多层介质膜模型和有效介质近似,分析了这些样品的SIMOX结构的各层厚度以及各层中的主要组份.提出了从椭偏谱粗略估算表层Si及埋层SiO_2厚度的简单方法.研究结果表明,这种条件下的O^+注入Si可以形成SIMOX结构,经高温退火后,表层Si是较完整的单晶层,埋层SiO_2基本没有Si聚积物.椭偏谱的结果与背散射、扩展电阻测量和红外吸收光谱等结果作了比较.

浅析单张纸双面双色印刷中影响套印精度的因素及应对

通常按照两个标准来评价印刷品的质量:一个是色彩的还原程度,另一个则是套印的精度。彩色制版是一个色彩的分解过程,而彩色印刷是一个色彩的组合过程,这个色彩的组合过程就叫套印。实现良好而准确的套印对于印出好的产品是非常的重要。套印准确的要求不仅仅局限于同一张印刷品上的不同色,而且同一印刷品的正背两面,同一批产品的印张之间都应当达到相应的标准。在实际印刷中容易导致套印不准的原因多种多样,其产生的原因也是各不相同。文章就套印精度对印品色彩再现的影响和双面印刷过程中较常见的影响套印精度的因素与应对进行简要的探究与分析。