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氮化硼包覆碳化硅纤维表面CVD法生长碳纳米管研究
1
作者
闫兵
岳建岭
+4 位作者
邹杨君
楼嘉伟
杜作娟
刘愚
黄小忠
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第12期218-229,239,共13页
目的通过调节化学气相沉积(CVD)的工艺参数,实现碳纳米管(CNTs)在氮化硼(BN)包覆的碳化硅纤维(SiCf)表面的可控生长。方法通过控制单一变量,采用扫描电子显微镜、热重分析、X射线光电子能谱等表征手段,系统地研究了CVD工艺参数和BN表面...
目的通过调节化学气相沉积(CVD)的工艺参数,实现碳纳米管(CNTs)在氮化硼(BN)包覆的碳化硅纤维(SiCf)表面的可控生长。方法通过控制单一变量,采用扫描电子显微镜、热重分析、X射线光电子能谱等表征手段,系统地研究了CVD工艺参数和BN表面改性对CNTs形貌、长度、含量的影响。结果通过改变CVD工艺参数,实现了对CNTs形貌、长度、含量的调节与控制,获得了CNTs和BN协同改性的SiC纤维(SiC@BN-CNTs)。其中,SiC@BN-OH在反应温度为700℃、反应时间为20 min等参数下具有最大的CNTs产率(质量分数为10.6%),且形貌良好、含量较高。结论浸渍催化剂和缩短碳源与载体的距离对生长CNTs有积极影响,增加了CNTs的长度和生长密度;通过调节反应温度和时间能够实现对CNTs长度、含量的精确控制,从而获得高质量、高结晶度的CNTs;在反应器中,气体和催化剂的含量相互影响,在制备过程中需要考虑气体和催化剂的比例,按比例同时增加气体和催化剂的流入速率能够获得更好的结果。BN表面羟基化改性处理增强了BN对催化剂的吸附,促进了催化剂颗粒的分散,提高了CNTs的产率。
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关键词
六方氮化硼
碳纳米管
化学气相沉积
工艺参数
氮化硼羟基化
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职称材料
题名
氮化硼包覆碳化硅纤维表面CVD法生长碳纳米管研究
1
作者
闫兵
岳建岭
邹杨君
楼嘉伟
杜作娟
刘愚
黄小忠
机构
中南大学粉末冶金研究院
哈尔滨理工大学电气与电子工程学院
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第12期218-229,239,共13页
基金
国家自然科学基金青年基金(52002403)。
文摘
目的通过调节化学气相沉积(CVD)的工艺参数,实现碳纳米管(CNTs)在氮化硼(BN)包覆的碳化硅纤维(SiCf)表面的可控生长。方法通过控制单一变量,采用扫描电子显微镜、热重分析、X射线光电子能谱等表征手段,系统地研究了CVD工艺参数和BN表面改性对CNTs形貌、长度、含量的影响。结果通过改变CVD工艺参数,实现了对CNTs形貌、长度、含量的调节与控制,获得了CNTs和BN协同改性的SiC纤维(SiC@BN-CNTs)。其中,SiC@BN-OH在反应温度为700℃、反应时间为20 min等参数下具有最大的CNTs产率(质量分数为10.6%),且形貌良好、含量较高。结论浸渍催化剂和缩短碳源与载体的距离对生长CNTs有积极影响,增加了CNTs的长度和生长密度;通过调节反应温度和时间能够实现对CNTs长度、含量的精确控制,从而获得高质量、高结晶度的CNTs;在反应器中,气体和催化剂的含量相互影响,在制备过程中需要考虑气体和催化剂的比例,按比例同时增加气体和催化剂的流入速率能够获得更好的结果。BN表面羟基化改性处理增强了BN对催化剂的吸附,促进了催化剂颗粒的分散,提高了CNTs的产率。
关键词
六方氮化硼
碳纳米管
化学气相沉积
工艺参数
氮化硼羟基化
Keywords
h-BN
CNTs
CVD
process parameters
boron nitride hydroxylation
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
TQ127.11 [化学工程—无机化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氮化硼包覆碳化硅纤维表面CVD法生长碳纳米管研究
闫兵
岳建岭
邹杨君
楼嘉伟
杜作娟
刘愚
黄小忠
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
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