透明PDMS超双疏涂层的制备及性能研究

聚二甲基硅氧烷(PDMS)是一种高分子聚合物,具有良好化学稳定性、耐候性和优异透明性,被广泛应用于超疏水表面的制备。然而目前大部分PDMS超双疏膜的制备都需要进行表面修饰,不仅使制备步骤更加复杂还会造成环境污染。以PDMS膜作为基底,通过激光刻蚀法代替化学修饰对PDMS表面进行处理,通过改变激光刻蚀的参数处理铜片,并通过模板法得到具有激光刻蚀表面的PDMS膜,对比铜片以及PDMS膜的接触角性得出最优的激光刻蚀参数。由此参数处理所得的PDMS膜不仅具有原来的化学稳定性、自清洁性、透明性等性能同时还具有更好的超疏水性能。

模板法辅助激光刻蚀诱导PDMS透明超疏水表面的制备及性能研究

聚二甲基硅氧烷(PDMS)是一种具有良好化学稳定性、耐候性和优异透明性的疏水有机硅材料,被广泛应用于超疏水表面的制备。然而目前大部分PDMS超双疏膜的制备都需要进行表面修饰,不仅使制备步骤更加复杂还会造成环境污染。本课题以PDMS膜作为基底,通过激光刻蚀法代替传统的化学修饰对PDMS表面进行处理,改变激光刻蚀的参数处理铜片并通过复刻法得到具有激光刻蚀表面的PDMS膜,对比铜片以及PDMS膜的疏水疏油性得出最优的激光刻蚀参数。由此参数处理所得的PDMS膜不仅具有原来的化学稳定性、自清洁性、透明性等性能同时还具有更好的超疏水性能。