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半导体工业用高纯度气体与化学品的应用
被引量:
1
1
作者
段定夫
《集成电路应用》
2003年第4期56-60,72,共6页
1前言本文将就高纯度材料中具关键代表性之高纯度气体与化学品在半导体制程中的相关应用作一概略性的介绍。气体和化学品与超纯水类似,同为半导体制程中不可或缺之高纯度流体原料。气体和化学药品合计约占半导体材料成本之1/3(其余为硅...
1前言本文将就高纯度材料中具关键代表性之高纯度气体与化学品在半导体制程中的相关应用作一概略性的介绍。气体和化学品与超纯水类似,同为半导体制程中不可或缺之高纯度流体原料。气体和化学药品合计约占半导体材料成本之1/3(其余为硅芯片,光阻,溅镀靶等)。
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关键词
半导体工业
高纯度气体
高纯度化学品
应用
硅芯片制造
清洗
氧化
掺杂
微影
蚀刻
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职称材料
题名
半导体工业用高纯度气体与化学品的应用
被引量:
1
1
作者
段定夫
机构
美商Air Products亚洲区中国电子市场部
出处
《集成电路应用》
2003年第4期56-60,72,共6页
文摘
1前言本文将就高纯度材料中具关键代表性之高纯度气体与化学品在半导体制程中的相关应用作一概略性的介绍。气体和化学品与超纯水类似,同为半导体制程中不可或缺之高纯度流体原料。气体和化学药品合计约占半导体材料成本之1/3(其余为硅芯片,光阻,溅镀靶等)。
关键词
半导体工业
高纯度气体
高纯度化学品
应用
硅芯片制造
清洗
氧化
掺杂
微影
蚀刻
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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作者
出处
发文年
被引量
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1
半导体工业用高纯度气体与化学品的应用
段定夫
《集成电路应用》
2003
1
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