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一种SOI CMOS/LDMOS单片智能功率集成电路
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作者 谭开洲 石红 +4 位作者 杨国渝 胡刚毅 蒲大勇 冯健 毛儒炎 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2004年第2期164-167,共4页
 介绍了一种单片智能功率硅集成电路的设计和制造工艺,该电路包括工作于9V低压的常规CMOS管和两个最高耐压为80V、电流通过能力大于3A的LDMOS管。电路采用SOI介质隔离CMOS/LDMOS工艺,芯片面积约50mm2。基于一种简单的二维模型,认为,在...  介绍了一种单片智能功率硅集成电路的设计和制造工艺,该电路包括工作于9V低压的常规CMOS管和两个最高耐压为80V、电流通过能力大于3A的LDMOS管。电路采用SOI介质隔离CMOS/LDMOS工艺,芯片面积约50mm2。基于一种简单的二维模型,认为,在功率集成中,纵向导电的VDMOS管由于其导通电阻有一个自限制特点,因此并不特别适合智能功率集成。 展开更多
关键词 智能功率集成电路 SOI CMOS LDMOS VDMOS
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