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大气压He/O_(2)微等离子体射流阵列及其薄膜处理均一性研究 被引量:1
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作者 王涛 汪加豪 +5 位作者 王圣泉 吕栎 时礼平 李蒙 涂德浴 刘景全 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1001-1008,共8页
大气压等离子体射流阵列下游工作区的不均一性问题是一个亟待解决的难题。本文以四根出口直径为10μm的玻璃微针作为发生器主体,设计了一种线型He/O_(2)微射流阵列;重点研究施加电压对等离子体电学、光学以及聚合物薄膜改性效果的影响,... 大气压等离子体射流阵列下游工作区的不均一性问题是一个亟待解决的难题。本文以四根出口直径为10μm的玻璃微针作为发生器主体,设计了一种线型He/O_(2)微射流阵列;重点研究施加电压对等离子体电学、光学以及聚合物薄膜改性效果的影响,并分析了不均一性产生的可能原因。实验表明:该射流阵列具有气体温度低、活性强等优点,薄膜处理后表面改性效果明显;等离子体发光强度、气体温度、O含量以及改性后薄膜表面O/C比例均随施加电压增加而增加;但发现过低或过大电压均会影响各射流之间的均一性,该现象可能与各射流间的空间电场分布以及库伦作用力有关,通过合理调节施加电压可使得各射流处理效果获得较好的均一性。 展开更多
关键词 等离子体射流阵列 放电特性 光谱特性 薄膜改性 均一性
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聚合物薄膜的大气压微等离子体射流无掩膜刻蚀工艺 被引量:1
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作者 吕栎 王涛 +4 位作者 汪加豪 王圣泉 时礼平 李蒙 涂德浴 《安徽工业大学学报(自然科学版)》 CAS 2022年第1期37-42,共6页
为优化束斑直径在微米级的大气压微等离子体射流刻蚀工艺,自制搭建一种结构简单、操作方便的大气压微等离子体射流装置,以典型聚合物parylene-C薄膜为对象,研究大气压微等离子体射流处理parylene-C薄膜的刻蚀工艺,分析O2流量、工作电压... 为优化束斑直径在微米级的大气压微等离子体射流刻蚀工艺,自制搭建一种结构简单、操作方便的大气压微等离子体射流装置,以典型聚合物parylene-C薄膜为对象,研究大气压微等离子体射流处理parylene-C薄膜的刻蚀工艺,分析O2流量、工作电压、工作间距和刻蚀时间等工艺参数对刻蚀线宽和刻蚀深度的影响。结果表明:增大O_(2)流量、工作电压、工作间距及刻蚀时间均能增大刻蚀线宽和刻蚀深度;持续增大上述工艺参数,刻蚀线宽和刻蚀深度增加不明显,甚至减小;工作电压和工作间距对parylene-C薄膜刻蚀效果的影响较大,在刻蚀过程中起关键作用,通过调整这两个参数可实现聚合物刻蚀过程的可控调节。 展开更多
关键词 微等离子体 聚合物薄膜 工艺参数 刻蚀工艺
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Improvement of the spreading effect of atmospheric pressure microplasma jet treatment through shielding-gas-controlled focusing
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作者 吕栎 陈剑航 +5 位作者 汪加豪 王圣泉 李蒙 涂德浴 时礼平 王涛 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第9期85-97,共13页
The spreading effect of atmospheric pressure microplasma jets(APμPJ)on the surface of materials will increase the etching area,and controlling the diameter of the jet can improve the precision of surface treatment.In... The spreading effect of atmospheric pressure microplasma jets(APμPJ)on the surface of materials will increase the etching area,and controlling the diameter of the jet can improve the precision of surface treatment.In this work,a two-dimensional axisymmetric simulation model is established to analyze the effect of nitrogen(N_(2))shielding gas on helium(He)from gas dynamics.In addition,by etching the polyethylene terephthalate fllm,the relationship between the etching effect and aerodynamic analysis is verifled.The simulation results are similar to the experimental results,indicating that N2 shielding gas has a focusing effect which is related to the N_(2)flow rate,distance difference between the inner and outer tubes,and outer tube nozzle diameter.It is hoped that the results of this work can provide a certain reference for the use of shielding gas to control the jet flow of APμPJ. 展开更多
关键词 microplasma jet nitrogen shielding gas focusing effect gas dynamic
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