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SnO_2:Pd/Si新气敏特性的研究 被引量:1
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作者 沈 华 吴孙桃 +1 位作者 朱文章 许淑恋 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期199-203,共5页
用CVD法在(111)和(100)单晶硅衬底上沉积SnO2或SnO队:Pd薄膜.在不同温度下,测量SnO2/Si表面吸附H2或CO等还原性气体后光电压的变化.结果表明:SnO2:Pd/Si的光电压变化,可以灵敏检测H... 用CVD法在(111)和(100)单晶硅衬底上沉积SnO2或SnO队:Pd薄膜.在不同温度下,测量SnO2/Si表面吸附H2或CO等还原性气体后光电压的变化.结果表明:SnO2:Pd/Si的光电压变化,可以灵敏检测H2、CO等气体,讨论了SnO2:Pd/Si的气敏机理. 展开更多
关键词 气敏特性 薄膜 异质结 二氧化锡
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SnO_2/Si的光伏特性 被引量:3
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作者 沈 华 张万中 +1 位作者 朱文章 蔡玉霜 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 1995年第2期177-181,共5页
采用CVD方法在硅单晶上制备SnO2薄膜,对不同硅衬底及在不同温度下淀积SnO2制得SnO2/Si进行光电压谱的测量,得出最佳的制备温度;采用类金属半导体接触模型,推导出有关计算公式,计算得出其介面复合速度和异质结势... 采用CVD方法在硅单晶上制备SnO2薄膜,对不同硅衬底及在不同温度下淀积SnO2制得SnO2/Si进行光电压谱的测量,得出最佳的制备温度;采用类金属半导体接触模型,推导出有关计算公式,计算得出其介面复合速度和异质结势垒宽度等参数。 展开更多
关键词 半导体材料 薄膜 二氧化硅 CVD 光伏特性
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气体吸附对SnO_2/Si光电压的影响 被引量:1
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作者 沈 华 朱文章 +1 位作者 吴孙桃 蔡玉霜 《半导体光电》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第2期126-129,共4页
测量了SnO2/Si表面吸附H2、液化石油气等还原性气体前后光电压的变化;分析、讨论了SnO2/Si表面的吸附性和机理。
关键词 半导体材料 薄膜 异质结 光电压 吸附特性
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中子辐照的单晶硅参数研究 被引量:2
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作者 沈 华 朱文章 +2 位作者 吴孙桃 谢敬仁 陈仪明 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1994年第2期136-141,共6页
在不同温度和红外光照下,测量了经中子辐照的单晶硅表面光电压,确定了其深能级的位置和少子扩散长度;由双能级复合理论,推导了中子辐照单晶硅的深能级复合中心和寿命的计算公式;计算了热中子辐照和高能中子辐照单晶硅后的深能级密... 在不同温度和红外光照下,测量了经中子辐照的单晶硅表面光电压,确定了其深能级的位置和少子扩散长度;由双能级复合理论,推导了中子辐照单晶硅的深能级复合中心和寿命的计算公式;计算了热中子辐照和高能中子辐照单晶硅后的深能级密度、费米能级和其他有关重要参数。 展开更多
关键词 中子辐照 单晶硅 参数
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高阻硅中深能级与少子寿命的研究 被引量:1
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作者 朱文章 沈 华 《微电子学》 CAS CSCD 1994年第3期46-51,共6页
本文测量了n型高阻硅在9种不同浓度的金掺杂前后少子寿命的变化,以及两类不同电阻率的n型高阻硅在7种不同辐照剂量的1MeV高能电子辐照前后少子寿命的变化;测量了金掺杂和高能电子辐照在硅中引入的主要深能级;研究对比金掺杂... 本文测量了n型高阻硅在9种不同浓度的金掺杂前后少子寿命的变化,以及两类不同电阻率的n型高阻硅在7种不同辐照剂量的1MeV高能电子辐照前后少子寿命的变化;测量了金掺杂和高能电子辐照在硅中引入的主要深能级;研究对比金掺杂和高能电子辐照对硅单晶性能的影响及其在提高电子器件开关速度方面的应用。 展开更多
关键词 深能级 少子寿命 高阻硅
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微机控制实现光伏谱自动测量
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作者 朱文章 沈 华 刘士毅 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期47-50,共4页
报道了由计算机、扫描控制器、光栅单色仪和锁定放大器组成的光伏谱自动测量系统的结构、联机方法和工作流程.与手动光伏测量系统相比,可提高测量效率20倍,使在宽的波长范围内精确测量光伏谱成为容易的事.文中还给出了应用该系统... 报道了由计算机、扫描控制器、光栅单色仪和锁定放大器组成的光伏谱自动测量系统的结构、联机方法和工作流程.与手动光伏测量系统相比,可提高测量效率20倍,使在宽的波长范围内精确测量光伏谱成为容易的事.文中还给出了应用该系统测量AlAs/GaAs超晶格光伏谱的结果. 展开更多
关键词 微机 光伏谱 自动测量
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二氧化锡/多孔硅/硅的吸附特性 被引量:1
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作者 沈 华 谢廷贵 +1 位作者 王余姜 蔡玉霜 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1995年第5期707-710,共4页
研究了二氧化锡/多孔硅/硅(SnO_2/PS/Si)的光伏谱和吸附性质,由分析光伏谱得出在SnO_2/PS/Si之间存在着二个异质结:一个是SnO_2/PS异质结;另一个是PS/Si异质结,当样品吸附CO气体后,光电... 研究了二氧化锡/多孔硅/硅(SnO_2/PS/Si)的光伏谱和吸附性质,由分析光伏谱得出在SnO_2/PS/Si之间存在着二个异质结:一个是SnO_2/PS异质结;另一个是PS/Si异质结,当样品吸附CO气体后,光电压明显减少,实验结果表明,利用光电压的变化可以检测CO等有害气体.本文对新气体敏感材料SnO_2/PS/Si的有关气体吸附机制进行了讨论. 展开更多
关键词 多孔硅 吸附 二氧化锡 光电压
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CVDSnO_2薄膜吸附的XPS研究 被引量:1
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作者 吴孙桃 沈 华 +1 位作者 徐富春 蔡玉霜 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1994年第5期610-613,共4页
利用XPS方法,分析四种由不同CVD温度(250~550℃)淀积在n-Si衬底上形成异质结的SnO_2透明多晶薄膜的表面.定性和半定量分析表明,表面存在三种氧物种,在加热吸附H_2前后,相对含量发生变化,变化大小与制... 利用XPS方法,分析四种由不同CVD温度(250~550℃)淀积在n-Si衬底上形成异质结的SnO_2透明多晶薄膜的表面.定性和半定量分析表明,表面存在三种氧物种,在加热吸附H_2前后,相对含量发生变化,变化大小与制备温度有关.根据实验结果和分析,研究薄膜H_2吸附机理,讨论SnO_2薄膜的气敏与SnO_2/n-Si异质结光伏的关系以及制备温度对薄膜吸附反应性能的影响. 展开更多
关键词 薄膜 XPS 吸附 二氧化锡 CVD
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判断功率晶体管性能的方法
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作者 洪明辉 沈 华 刘士毅 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 1994年第5期625-630,共6页
研究了功率晶体管特性的等效关系;引进达通电压;研究了反向击穿电压、产生-复合电流,得出由5个参数判定管子质量的方法.
关键词 功率晶体管 反向漏电流
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