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聚吡咯修饰氧化铁纳米片改善锂硫电池性能
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作者 李舒楠 乔明涛 +4 位作者 沈凯飞 张玉龙 司渭滨 雷琬莹 雷西萍 《硅酸盐学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第5期1664-1675,共12页
采用酸刻蚀诱导的原位生长法在α-Fe_(2)O_(3)纳米片表面修饰聚吡咯,其中对甲苯磺酸起到刻蚀与掺杂的作用,Fe_(2)O_(3)纳米片表面被刻蚀出的Fe^(3+)作为氧化剂,使得吡咯在Fe_(2)O_(3)纳米片表面聚合生长,对甲苯磺酸根作为对阴离子掺杂... 采用酸刻蚀诱导的原位生长法在α-Fe_(2)O_(3)纳米片表面修饰聚吡咯,其中对甲苯磺酸起到刻蚀与掺杂的作用,Fe_(2)O_(3)纳米片表面被刻蚀出的Fe^(3+)作为氧化剂,使得吡咯在Fe_(2)O_(3)纳米片表面聚合生长,对甲苯磺酸根作为对阴离子掺杂于聚吡咯分子结构中,得到Fe_(2)O_(3)@PPy复合纳米片。通过调节刻蚀环境与Fe_(2)O_(3)纳米片的投料量控制聚吡咯的修饰量,制得系列Fe_(2)O_(3)@PPy复合纳米片。当对甲苯磺酸和Fe_(2)O_(3)摩尔比为12:1时,Fe_(2)O_(3)@PPy复合纳米片获得优异的电化学性能。1 C下的初始容量为468.7 mA·h·g^(-1),循环500次后仍保持414.5 mA·h·g^(-1)的容量,容量保持率为86.2%,表现出良好的循环稳定性。该材料可应用于动力电池的开发。 展开更多
关键词 三氧化二铁 聚吡咯 纳米片 原位生长 锂硫电池
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