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Cl掺杂CuO在Cu^(+)和O空位协同作用下高效电催化还原CO_(2)为C_(2)H_(4)
1
作者
樊成
沈斌浩
+2 位作者
王逸菲
文建军
杨淑清
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第10期174-179,共6页
通过简单的一步水热合成法合成具有富集Cu^(+)和氧空位活性位点的氯掺杂氧化铜催化剂(Cl-CuO),并通过调节氯元素的掺杂量使得Cu基催化剂对乙烯(C_(2)H_(4))拥有较高的选择性和法拉第效率(FE)。结果表明,在-1.2 V[针对可逆氢电极(RHE)]下...
通过简单的一步水热合成法合成具有富集Cu^(+)和氧空位活性位点的氯掺杂氧化铜催化剂(Cl-CuO),并通过调节氯元素的掺杂量使得Cu基催化剂对乙烯(C_(2)H_(4))拥有较高的选择性和法拉第效率(FE)。结果表明,在-1.2 V[针对可逆氢电极(RHE)]下,C_(2)H_(4)的最大法拉第效率为46.8%;并且在经过15 h电解后,法拉第效率和电流密度无明显下降。Cl-CuO中C_(2)H_(4)的生成归因于Cu^(+)与氧空位的协同作用。
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关键词
电催化CO_(2)还原
氯掺杂
氧化铜催化剂
乙烯
碳循环
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职称材料
题名
Cl掺杂CuO在Cu^(+)和O空位协同作用下高效电催化还原CO_(2)为C_(2)H_(4)
1
作者
樊成
沈斌浩
王逸菲
文建军
杨淑清
机构
浙江海洋大学石油化工与环境学院
浙江海洋大学外国语学院
出处
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第10期174-179,共6页
基金
浙江省自然科学基金资助项目(LQ21B030007)。
文摘
通过简单的一步水热合成法合成具有富集Cu^(+)和氧空位活性位点的氯掺杂氧化铜催化剂(Cl-CuO),并通过调节氯元素的掺杂量使得Cu基催化剂对乙烯(C_(2)H_(4))拥有较高的选择性和法拉第效率(FE)。结果表明,在-1.2 V[针对可逆氢电极(RHE)]下,C_(2)H_(4)的最大法拉第效率为46.8%;并且在经过15 h电解后,法拉第效率和电流密度无明显下降。Cl-CuO中C_(2)H_(4)的生成归因于Cu^(+)与氧空位的协同作用。
关键词
电催化CO_(2)还原
氯掺杂
氧化铜催化剂
乙烯
碳循环
Keywords
electrocatalytic CO_(2)reduction
Cl-doped
CuO catalyst
ethylene
carbon cycle
分类号
O646 [理学—物理化学]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
Cl掺杂CuO在Cu^(+)和O空位协同作用下高效电催化还原CO_(2)为C_(2)H_(4)
樊成
沈斌浩
王逸菲
文建军
杨淑清
《现代化工》
CAS
CSCD
北大核心
2024
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