氮基软氮化法

主要研究不用发生炉而直接向软氮化炉内通入氮气、氨气、二氧化碳的软氮化法。

利用新型等离子CVD装置涂复陶瓷薄膜

在金属材料上涂复硬质陶瓷的方法,一般有CVD(化学气相沉积)法和PVD(物理气相沉积)法。这两种方法各有利弊,应根据具体工件灵活加以应用。CVD法的薄膜附着性高,但处理温度高达1000℃左右,母材容易发生变形和尺寸变化,需要二次热处理。PVD法的处理温度比CVD法低,变形和尺寸变化可得到控制。但薄膜的附着性差,且绕镀性也欠佳,因此不能用于形状复杂的工件。

用直流等离子CVD法制作的DLC膜的特性

用直流等离子ＣＶＤ法在硬质合金表面上涂覆ＤＬＣ膜（类金刚石碳膜）并进行了喇曼分光分析，研究了组织，硬度，附着性和磨损性。ＤＬＣ膜显示了比用ＰＶＤ法得到了ＴｉＮ膜硬度更高，耐磨性更优良的特点。

新型气体渗碳法

从气氛控制精度、渗碳均匀性、渗碳速度及气体消耗量等方面阐明新型气体渗碳法的优越性。