ADP晶体的全方位生长方法研究(英文)

采用一种全新的ADP晶体生长方法,使晶体首先恢复其理想外形,实现晶体的全方位生长,从而提高晶体的生长速度。并对所得晶体进行了透过率,激光散射,摇摆曲线测试及热重差热分析,与常规生长方法比较并分析了全方位生长方法的优势。

ADP晶体的全方位生长装置

本论文研究的全方位生长装置能解决常规的ADP晶体的单向生长问题。在这套装置中,籽晶完全位于溶液中央,籽晶可以首先恢复其理想的结晶学外形。在晶体生长过程中,晶体在各个方向的生长均为自由生长,且育晶器中央的溶液稳定性也明显高于育晶器顶部和底部。这些因素都有利于ADP晶体的优质快速生长。实验所得晶体的质量通过透过率、晶体内缺陷位错密度、高分辨率X射线衍射表征,并将所得结果与常规方法进行了比较。