为了提高镉镀层的综合性能,通过在纯镉镀液中添加钛离子,利用电沉积法制备镀层,以提高无氰电镀镉镀层的致密性和耐蚀性能。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察镀层表面及截面的微观形貌,并分析镀层内应力;用X射线衍射仪(XRD)分析镀层的...为了提高镉镀层的综合性能,通过在纯镉镀液中添加钛离子,利用电沉积法制备镀层,以提高无氰电镀镉镀层的致密性和耐蚀性能。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察镀层表面及截面的微观形貌,并分析镀层内应力;用X射线衍射仪(XRD)分析镀层的相组成以及晶粒尺寸大小;用电化学工作站研究镀层的耐蚀性能。结果表明:在无氰镀镉镀液中加入钛离子后,镀层的晶粒尺寸从44.6 nm降低至16.5 nm;自腐蚀电位由-0.232 V升高到0.089 V;自腐蚀电流密度由3.56 m A/dm^(2)降低至2.58 m A/dm^(2);在5000 s内,纯镉镀层使渗氢电流密度降低至8.6μA/cm^(2),而加入钛离子后的镀层使渗氢电流密度降至3.2μA/cm^(2),降低速率远大于纯镉镀层。钛离子的引入使镀层结晶更加细致,增强了镀层的耐蚀性,提升了镀层对氢的阻挡能力。展开更多
文摘为了提高镉镀层的综合性能,通过在纯镉镀液中添加钛离子,利用电沉积法制备镀层,以提高无氰电镀镉镀层的致密性和耐蚀性能。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)观察镀层表面及截面的微观形貌,并分析镀层内应力;用X射线衍射仪(XRD)分析镀层的相组成以及晶粒尺寸大小;用电化学工作站研究镀层的耐蚀性能。结果表明:在无氰镀镉镀液中加入钛离子后,镀层的晶粒尺寸从44.6 nm降低至16.5 nm;自腐蚀电位由-0.232 V升高到0.089 V;自腐蚀电流密度由3.56 m A/dm^(2)降低至2.58 m A/dm^(2);在5000 s内,纯镉镀层使渗氢电流密度降低至8.6μA/cm^(2),而加入钛离子后的镀层使渗氢电流密度降至3.2μA/cm^(2),降低速率远大于纯镉镀层。钛离子的引入使镀层结晶更加细致,增强了镀层的耐蚀性,提升了镀层对氢的阻挡能力。
