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Ba_(0.65)Sr_(0.35)TiO_3薄膜的磁控溅射法制备与介电性能研究
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作者 王今朝 章天金 +3 位作者 王军 江娟 潘瑞坤 何军 《湖北大学学报（自然科学版）》 CAS 北大核心 2007年第2期160-163,共4页
用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜.研究沉积气压和衬底温度对BST薄膜结构及介电性能的影响.应用XRD和AFM表征薄膜的物相结构及其表面形貌,通过阻抗分析仪测量薄膜的介电性能.结果表明在3.0 Pa沉积气压和600... 用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上沉积Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜.研究沉积气压和衬底温度对BST薄膜结构及介电性能的影响.应用XRD和AFM表征薄膜的物相结构及其表面形貌,通过阻抗分析仪测量薄膜的介电性能.结果表明在3.0 Pa沉积气压和600℃衬底温度下制备的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜有较好的微结构和介电性能. 展开更多
关键词 BST薄膜 磁控溅射 介电性能
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