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GaSb单晶研究进展
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作者 刘京明 杨俊 +3 位作者 赵有文 杨成奥 蒋洞微 牛智川 《人工晶体学报》 北大核心 2024年第1期1-11,共11页
近年来,锑化物红外技术发展迅速,成为半导体技术的重要发展方向之一。锑化镓(GaSb)作为典型的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,凭借优异的性能成为锑化物红外光电器件的关键衬底材料。随着锑化物红外技术逐步成熟和应用逐渐开展,人们对GaSb单晶片... 近年来,锑化物红外技术发展迅速,成为半导体技术的重要发展方向之一。锑化镓(GaSb)作为典型的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体,凭借优异的性能成为锑化物红外光电器件的关键衬底材料。随着锑化物红外技术逐步成熟和应用逐渐开展,人们对GaSb单晶片的需求日益剧增的同时也对其质量提出更高的要求。GaSb单晶片质量直接影响着外延材料和器件性能,这就要求GaSb单晶片具有大尺寸、更低的缺陷密度、更好的表面质量和一致性。本文就GaSb晶体材料的性质、制备方法、国内外机构的研究进展及其应用情况进行了综述,并对其发展前景和趋势进行了展望。 展开更多
关键词 锑化镓 化合物半导体 锑化物 晶体 红外光电器件
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Exciton Bose–Einstein Condensation in Transition Metal Dichalcogenide Monolayer under In-Plane Magnetic Fields
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作者 Dengfeng Wang Yingda Chen +2 位作者 Zhi-Chuan Niu Wen-Kai Lou Kai Chang 《Chinese Physics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第8期69-76,共8页
Based on the Gross–Pitaevskii equation,we theoretically investigate exciton Bose–Einstein condensation(BEC)in transition metal dichalcogenide monolayers(TMDC-MLs)under in-plane magnetic fields.We observe that the in... Based on the Gross–Pitaevskii equation,we theoretically investigate exciton Bose–Einstein condensation(BEC)in transition metal dichalcogenide monolayers(TMDC-MLs)under in-plane magnetic fields.We observe that the in-plane magnetic fields exert a strong influence on the exciton BEC wave functions in TMDC-MLs because of the mixing of the bright and dark exciton states via Zeeman effect.This leads to the brightening of the dark exciton BEC states.The competition between the dipole–dipole interactions caused by the long-range Coulomb interaction and the Zeeman effect induced by the in-plane magnetic fields can effectively regulate dark exciton BEC states.Our findings emphasize the utility of TMD-MLs as platforms for investigating collective phenomenon involving excited states. 展开更多
关键词 effect. EINSTEIN DIPOLE
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InGaAs/InAlAs光电导太赫兹发射天线的制备与表征
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作者 陈益航 杨延召 +11 位作者 张桂铭 徐建星 苏向斌 王天放 余红光 石建美 吴斌 杨成奥 张宇 徐应强 倪海桥 牛智川 《太赫兹科学与电子信息学报》 2023年第12期1403-1409,1416,共8页
光电导天线作为太赫兹时域光谱仪产生与探测太赫兹辐射的关键部件,具有重要的科研与工业价值。本文采用分子束外延(MBE)方法制备InGaAs/InAlAs超晶格作为1550 nm光电导天线的光吸收材料,使用原子力显微镜、光致发光、高分辨X射线衍射等... 光电导天线作为太赫兹时域光谱仪产生与探测太赫兹辐射的关键部件,具有重要的科研与工业价值。本文采用分子束外延(MBE)方法制备InGaAs/InAlAs超晶格作为1550 nm光电导天线的光吸收材料,使用原子力显微镜、光致发光、高分辨X射线衍射等方式验证了材料的高生长质量;通过优化制备条件得到了侧面平整的台面结构光电导天线。制备的光电导太赫兹发射天线在太赫兹时域光谱系统中实现了4.5 THz的频谱宽度,动态范围为45 dB。 展开更多
关键词 太赫兹时域光谱仪 光电导天线 分子束外延 InGaAs/InAlAs超晶格
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GaAs脊形量子线结构的MBE生长机理研究 被引量:4
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作者 牛智川 周增圻 +5 位作者 林耀望 周帆 潘昆 张子莹 祝亚芹 王守武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第3期227-230,共4页
本文报道了非平面衬底上分子束外延生长GaAs脊形量子线结构的实验研究.已成功地在GaAs(001)刻蚀条形衬底上生长出了由(111)面和(113)面构成的两种脊形量子线结构.本文讨论了非平面衬底上MBE生长脊形结构的... 本文报道了非平面衬底上分子束外延生长GaAs脊形量子线结构的实验研究.已成功地在GaAs(001)刻蚀条形衬底上生长出了由(111)面和(113)面构成的两种脊形量子线结构.本文讨论了非平面衬底上MBE生长脊形结构的形成机制,认为在一定的生长条件下,脊形结构的表面取向是由两个原始交界面上生长速率的相对差异决定的;而生长速率的差异是由表面再构的不同决定的. 展开更多
关键词 砷化镓 脊形量子线结构 MBE生长
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InGaAs/GaAs自组织量子点光致发光特性研究 被引量:1
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作者 牛智川 王晓东 +1 位作者 苗振华 封松林 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期20-24,共5页
用 PL谱测试研究了 Ga As和不同 In组份 Inx Ga1 - x As(x=0 .1,0 .2 ,0 .3)覆盖层对分子束外延生长的 In As/Ga As自组织量子点发光特性的影响 .用 Inx Ga1 - x As外延层覆盖 In As/ Ga As量子点 ,比用 Ga As做覆盖层其发光峰能量向低... 用 PL谱测试研究了 Ga As和不同 In组份 Inx Ga1 - x As(x=0 .1,0 .2 ,0 .3)覆盖层对分子束外延生长的 In As/Ga As自组织量子点发光特性的影响 .用 Inx Ga1 - x As外延层覆盖 In As/ Ga As量子点 ,比用 Ga As做覆盖层其发光峰能量向低能端移动 ,发光峰半高宽变窄 ,量子点发光峰能量随温度的红移幅度变小 .理论计算证实这是由于覆盖层 Inx Ga1 - x As减小了 In As表面应力导致发光峰红移 ,而 In元素有效抑制了 In As/ Ga As界面组份的混杂 ,量子点的均匀性得到改善 ,PL 谱半高宽变窄 .用 In Ga As覆盖的 In0 .5 Ga0 .5 As/ Ga As自组织量子点实现了 1.3μm发光 ,室温下 PL谱半高宽为 19.2 me V。 展开更多
关键词 InAs/GaAs自组织量子点 分子束外延 InGaAs覆盖层 光荧光谱 发光峰红移 光致发光特性
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1.3μmGaAs基GaInNAs量子阱生长与激光器研制(英文) 被引量:1
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作者 牛智川 韩勤 +11 位作者 倪海桥 杨晓红 徐应强 杜云 张石勇 彭红玲 赵欢 吴东海 李树英 贺振宏 任正伟 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第9期1860-1864,共5页
报道了中国第一只1.30μm单量子阱边发射激光器的材料生长、器件制备及特性测试.通过优化分子束外延生长参数,调节In和N组分含量使GaInNAs量子阱的发光波长覆盖1.3μm范围.脊形波导条形结构单量子阱边发射激光器,实现了室温连续激射,激... 报道了中国第一只1.30μm单量子阱边发射激光器的材料生长、器件制备及特性测试.通过优化分子束外延生长参数,调节In和N组分含量使GaInNAs量子阱的发光波长覆盖1.3μm范围.脊形波导条形结构单量子阱边发射激光器,实现了室温连续激射,激射波长为1.30μm,阈值电流密度为1kA/cm2,输出功率为30mW. 展开更多
关键词 GaAs基材料 GaInNAs量子阱 分子束外延 激光器
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MBE生长轻掺Si高迁移率GaAs材料的杂质补偿特性研究 被引量:1
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作者 牛智川 周增圻 +1 位作者 林耀望 李朝勇 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1995年第12期897-900,共4页
本文报道了用MBE生长轻掺Si高迁移率GaAs材料的杂质补偿特性实验研究.已得到77K温度下迁移率为16.2×104cm2/(V·s)的GaAs材料.样品的Hall测量结果表明:在较低的杂质浓度范围(1×... 本文报道了用MBE生长轻掺Si高迁移率GaAs材料的杂质补偿特性实验研究.已得到77K温度下迁移率为16.2×104cm2/(V·s)的GaAs材料.样品的Hall测量结果表明:在较低的杂质浓度范围(1×1013cm-3<n<1×1015cm-3)内,在大体相同的生长温度(590℃左右)下,选择适当的生长速率Gr会增强对浅受主杂质的抑制作用,同时也会抑制Si的自补偿效应,减小杂质的补偿度Na/Nd之值,从而提高MBE外延GaAs材料的迁移率. 展开更多
关键词 砷化镓 MBE生长 掺杂 杂质补偿 迁移率
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1·3μm自组织InGaAs/InAs/GaAs量子点激光器分子束外延生长(英文) 被引量:1
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作者 牛智川 倪海桥 +8 位作者 方志丹 龚政 张石勇 吴东海 孙征 赵欢 彭红玲 韩勤 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期482-488,共7页
报道了分子束外延生长的1.3μm多层InGaAs/InAs/GaAs自组织量子点及其室温连续激射激光器.室温带边发射峰的半高宽小于35meV,表明量子点大小比较均匀.原子力显微镜图像显示,量子点密度可以控制在(1~7)×10^10cm^-2范围之... 报道了分子束外延生长的1.3μm多层InGaAs/InAs/GaAs自组织量子点及其室温连续激射激光器.室温带边发射峰的半高宽小于35meV,表明量子点大小比较均匀.原子力显微镜图像显示,量子点密度可以控制在(1~7)×10^10cm^-2范围之内,而面密度处于4×10^10cm^-2时有良好的光致发光谱性能.含有三到五层1.3μm量子点的激光器成功实现了室温连续激射. 展开更多
关键词 量子点 砷化铟 激光器
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可用于器件的侧墙GaAs量子线列阵结构 被引量:1
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作者 牛智川 周增圻 +1 位作者 潘钟 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第4期309-313,共5页
本文介绍了一种可以实用的侧墙式GaAs量子线及其列阵结构.沿〔01-1〕方向腐蚀条形的(311)A衬底上,分子束外延生长的各向异性导致了侧墙量子线结构的形成.用光栅刻蚀方法,制备了横向周期为1μm、纵向三层叠加的三维... 本文介绍了一种可以实用的侧墙式GaAs量子线及其列阵结构.沿〔01-1〕方向腐蚀条形的(311)A衬底上,分子束外延生长的各向异性导致了侧墙量子线结构的形成.用光栅刻蚀方法,制备了横向周期为1μm、纵向三层叠加的三维侧墙量子线列阵.阴极荧光谱研究表明:在5K下,发光主要来自量子线区域,在两侧的量子阱区域只有很弱的发光峰;认为低温下载流子主要束缚在量子线区域,在量子阱区域也有少量载流子被外延层涨落产生的局域态所束缚.随温度升高到85K以上直至室温下,只能观察到来自量子线区域的发光峰.这是由于束缚在量子阱局域态中的载流子大部分由于热激发而弛豫至量子线区域,参与量子线的发光.这种量子线列阵横向限制能量达到了220meV,表明该量子线列阵结构可以用于制备发光等实用器件. 展开更多
关键词 侧墙式 砷化镓 量子线列阵 结构
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氢原子辅助MBE生长对GaAs外延面形貌的影响 被引量:1
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作者 牛智川 周增圻 吴荣汉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第5期327-331,共5页
本文研究了MBE通常生长条件和氢原子辅助生长条件下(100)、(331)、(210)、(311)等表面外延形貌的变化.原子力显微镜AFM测试的结果表明:(100)表面在氢原子辅助生长条件下外延面的岛状起伏变得更为平坦... 本文研究了MBE通常生长条件和氢原子辅助生长条件下(100)、(331)、(210)、(311)等表面外延形貌的变化.原子力显微镜AFM测试的结果表明:(100)表面在氢原子辅助生长条件下外延面的岛状起伏变得更为平坦,二维生长模式得到增强;(331)面在两种条件下均显示出台阶积累(stepbunching)式生长,而氢原子辅助生长则减小了台阶结构的横向周期;(210)面在氢原子辅助生长下也使原表面存在的岛状结构尺寸减小;在(311)表面氢原子诱导的作用明显地增强了台阶积累生长模式.本文认为氢原子诱导作用机制在于:外延面台阶处As原子和H原子结合减小了表面结合能,导致Ga原子表面迁移长度的减小,增强了台阶积累生长效应;而对于平坦的(100)表面氢原子的诱导作用使得Ga迁移长度增加,导致二维生长模式的进一步增强. 展开更多
关键词 砷化镓 外延生长 MBE
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MBE生长轻掺硅GaAs材料光荧光谱杂质特性研究 被引量:1
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作者 牛智川 黎健 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1996年第2期133-136,共4页
采用低温光荧光谱测试方法,研究了MBE生长的轻掺硅GaAs材料的杂质特性,并结合Hall测量结果,讨论了MBE关键生长条件Ⅴ/Ⅲ束流比等对Si在GaAs中掺杂特性的影响,研究表明掺杂元素Si在GaAs中起两性(施主或... 采用低温光荧光谱测试方法,研究了MBE生长的轻掺硅GaAs材料的杂质特性,并结合Hall测量结果,讨论了MBE关键生长条件Ⅴ/Ⅲ束流比等对Si在GaAs中掺杂特性的影响,研究表明掺杂元素Si在GaAs中起两性(施主或受主)杂质作用,适当提高Ⅴ/Ⅲ束流比可以抑制Si的自补偿效应,从而减小载流子的补偿度,进一步提高迁移率。通过优化生长条件,本实验已获得了杂质浓度小于1012cm-3,77K下迁移率大于1.6×105cm2/V·s的高纯、高迁移率GaAs材料。 展开更多
关键词 光荧光 掺杂 分子束外延 MBE生长 砷化镓
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GaAs脊形量子线发光性质的光致发光谱研究
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作者 牛智川 袁之良 +2 位作者 周增圻 徐仲英 王守武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第11期871-876,共6页
本文报道了用MBE非平面生长方法制备的GaAs脊形量子线发光性特实验研究.低温、微区、变温和极化光致发光谱等的测试分析表明:这种由{113}面构成的脊形量子线具有发光各向异性、激子束缚能明显大于侧面量子阱等特点.
关键词 砷化镓 光致发光谱 量子线 发光特性
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三角形点结构的MBE生长及其量子阱限制能量的横向变化
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作者 牛智川 周增圻 +5 位作者 韩勤 吴荣汉 R.Notzel U.Jahn M.Ramsteiner K.H.Ploog 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第4期311-315,共5页
本文首次报道了在腐蚀图形的(311)A衬底上,一种新型三角形点结构的MBE生长及其量子阱限制能量的横向变化研究.原子力显微镜三维图象清晰地显示出在原腐蚀凹面图形之间的平面区域,MBE选择性生长形成了均匀的三角形收缩结... 本文首次报道了在腐蚀图形的(311)A衬底上,一种新型三角形点结构的MBE生长及其量子阱限制能量的横向变化研究.原子力显微镜三维图象清晰地显示出在原腐蚀凹面图形之间的平面区域,MBE选择性生长形成了均匀的三角形收缩结构,其尖角沿[233]方向,收缩面由对称的{111}A面构成.低温阴极荧光谱和图象测试研究结果表明:这种点状外延结构存在三个分离的荧光发射区域,分别对应于三个不同的激发光波长.说明这种点结构中量子阱层厚度的变化引入了量子阱限制能量的横向变化.低温微区光致发光谱测试得到高度可分辨的三个发光峰,结果说明在围绕点状结构顶部区域形成了13meV横向势垒,且具有较高的辐射复合发光效率. 展开更多
关键词 MBE生长 量子阱 限制能量 外延生长
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“微腔光子学材料与器件前沿技术”专栏 序言
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作者 牛智川 张俊 刘进 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2021年第11期I0003-I0004,共2页
光学微腔能够在微纳尺度上极大地增强光与物质相互作用,是研究光物理中的基础问题和发展高性能光电子器件的重要平台。目前,光学微腔器件正朝着实用化、小型化、低功耗、多功能、多种材料体系的方向发展,尤其是以微腔光频梳为代表的新... 光学微腔能够在微纳尺度上极大地增强光与物质相互作用,是研究光物理中的基础问题和发展高性能光电子器件的重要平台。目前,光学微腔器件正朝着实用化、小型化、低功耗、多功能、多种材料体系的方向发展,尤其是以微腔光频梳为代表的新一代光学微腔器件,在国家经济、社会、国家安全等方面有着潜在的重要应用。 展开更多
关键词 光电子器件 光学微腔 微纳尺度 光物理 前沿技术 低功耗 光频梳 小型化
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1.55μm低温生长GaAs谐振腔增强型探测器 被引量:6
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作者 韩勤 彭红玲 +4 位作者 杜云 倪海桥 赵欢 牛智川 吴荣汉 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期549-551,共3页
利用低温(200℃)生长的GaAs材料作为吸收层制备了GaAs基1.55μm谐振腔增强型(RCE)光电探测器,对其光电特性进行了分析、研究·无光照0偏压下探测器暗电流为8.0×10-12A;光电流谱峰值波长1563nm;响应谱线半宽4nm,具有良好的波长... 利用低温(200℃)生长的GaAs材料作为吸收层制备了GaAs基1.55μm谐振腔增强型(RCE)光电探测器,对其光电特性进行了分析、研究·无光照0偏压下探测器暗电流为8.0×10-12A;光电流谱峰值波长1563nm;响应谱线半宽4nm,具有良好的波长选择性· 展开更多
关键词 探测器 LT-GAAS 谐振腔增强 分布布喇格反射镜
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GaAs基短周期InAs/GaSb超晶格红外探测器研究 被引量:5
16
作者 郭杰 彭震宇 +5 位作者 鲁正雄 孙维国 郝瑞亭 周志强 许应强 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期165-167,228,共4页
采用分子束外延(MBE)方法,在(001)GaAs衬底上生长了短周期Ⅱ型超晶格(SLs):InAs/GaSb(2ML/8ML)和InAs/GaSb(8ML/8ML).从X射线衍射(HRXRD)中计算出超晶格周期分别为31.2和57.3.室温红外透射光谱表明两种超晶格结构在短波2.1μm和中波5μ... 采用分子束外延(MBE)方法,在(001)GaAs衬底上生长了短周期Ⅱ型超晶格(SLs):InAs/GaSb(2ML/8ML)和InAs/GaSb(8ML/8ML).从X射线衍射(HRXRD)中计算出超晶格周期分别为31.2和57.3.室温红外透射光谱表明两种超晶格结构在短波2.1μm和中波5μm处有明显吸收.通过腐蚀、光刻和欧姆接触,制备了短波和中波的单元光导探测器.在室温和低温下进行光谱响应测试和黑体测试,77K下,50%截止波长分别为2.1μm和5.0μm,黑体探测率Db*b均超过2×108cmHz1/2/W.室温下短波探测器Db*b超过108cmHz1/2/W. 展开更多
关键词 超晶格 InAs/GaSb红外探测器 分子束外延 光谱响应
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GaAs基GaSb体材料及InAs/GaSb超晶格材料的MBE生长 被引量:5
17
作者 郝瑞亭 徐应强 +2 位作者 周志强 任正伟 牛智川 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第7期1088-1091,共4页
采用分子束外延方法在GaAs(100)衬底上生长GaSb体材料,以此GaSb为缓冲层生长了不同InAs厚度的InAs/GaSb超晶格,其10K光致发光谱峰值波长在2.0~2.6μm.高分辨透射电子显微镜观察证实超晶格界面清晰,周期完整.
关键词 分子束外延 GAAS GASB INAS/GASB超晶格
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大功率高效率2μm锑化镓基量子阱激光器(英文) 被引量:6
18
作者 廖永平 张宇 +6 位作者 杨成奥 黄书山 柴小力 王国伟 徐应强 倪海桥 牛智川 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期672-675,共4页
通过MBE外延系统生长了2μmGaSb基AlGaAsSb/InGaSbI型量子阱激光器,并制备了宽面条形波导激光器件,在20℃工作温度下,器件最大连续激射功率达到1.058W,当注入电流为0.5A时,峰值波长为1.977μm,最大能量转换效率为20.2%,在脉冲频率为1000... 通过MBE外延系统生长了2μmGaSb基AlGaAsSb/InGaSbI型量子阱激光器,并制备了宽面条形波导激光器件,在20℃工作温度下,器件最大连续激射功率达到1.058W,当注入电流为0.5A时,峰值波长为1.977μm,最大能量转换效率为20.2%,在脉冲频率为1000Hz,占空比为5%的脉冲工作模式下,最大激射功率为2.278W. 展开更多
关键词 大功率 激光二极管 中红外 量子阱
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InAs/GaSbⅡ型超晶格的拉曼和光致发光光谱 被引量:4
19
作者 郭杰 孙维国 +3 位作者 彭震宇 周志强 徐应强 牛智川 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2009年第2期278-281,共4页
采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数... 采用分子束外延(MBE)技术,在GaSb(100)衬底上外延生长晶体结构完整和表面平整的Ⅱ型超晶格InAs(1.2nm)/GaSb(2.4nm)。拉曼光谱表明:随着温度从70K升高至室温,由于热膨胀作用和光声子散射过程中的衰减,超晶格纵光学声子拉曼频移向低波数方向移动5cm-1,频移温度系数约为0.023cm-1/K。光致发光(PL)峰在2.4~2.8μm,由带间辐射复合和束缚激子复合构成,2.55μmPL峰随温度变化(15~150K)发生微小红移,超晶格中InAs电子带与GaSb空穴带带间距随温度变化比体材料的禁带宽度小。PL发光强度在15~50K随温度升高而升高,在60~150K则相反,并在不同温度段表现出不同的温度依赖关系。 展开更多
关键词 超晶格 INAS/GASB 拉曼光谱 光致发光 温度
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低温GaAs外延层上生长InAs量子点的研究 被引量:3
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作者 王晓东 汪辉 +2 位作者 王海龙 牛智川 封松林 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第3期177-180,共4页
利用退火技术 ,实现了在低温 Ga As外延层上 In As量子点的生长 .透射电镜 (TEM)研究表明 ,低温 Ga As外延层上生长的 In As量子点比通常生长的 In As量子点明显变小 ,且密度变大 ,认为是由于低温 Ga As中的点缺陷以及 As沉淀引起的 :... 利用退火技术 ,实现了在低温 Ga As外延层上 In As量子点的生长 .透射电镜 (TEM)研究表明 ,低温 Ga As外延层上生长的 In As量子点比通常生长的 In As量子点明显变小 ,且密度变大 ,认为是由于低温 Ga As中的点缺陷以及 As沉淀引起的 :点缺陷释放了部分弹性能 ,使得量子点变小 ,而 As沉淀可能是量子点密度变大的原因 .在光致发光谱 (PL )上 ,退火低温外延层上生长的量子点的发光峰能量较高 。 展开更多
关键词 外延生长 砷化镓 砷化锢 砷沉淀 低温 量子点
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