冷轧钢表面氨丙基甲基二乙氧基硅烷膜的制备及其耐蚀性能研究

采用正交实验法设计多种氨丙基甲基二乙氧基硅烷的水解工艺条件,在冷轧钢表面制备硅烷膜,通过对比每种条件所得硅烷膜样品在3.50%NaCl溶液中的塔菲尔极化曲线,获得了最佳水解工艺,并用稳态极化曲线和扫描电子显微镜,研究了该工艺制备的硅烷膜对冷轧钢耐蚀性能的影响。研究表明:硅烷、乙醇、去离子水的体积比2∶10∶88,水解温度40.0℃,溶液pH=13.0为最佳水解工艺条件;在该条件下形成的硅烷膜可大幅度提高冷轧钢在3.50%NaCl溶液中的耐蚀性能。

冷轧钢表面硅烷复合膜的制备及耐蚀性能

采用浸涂技术,在冷轧钢板(CRS)表面制备掺杂铈离子和铬离子的γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷复合膜。通过电化学方法研究硅烷膜在3.50%的氯化钠溶液中的耐蚀性能,并用SEM研究存在复合硅烷膜的冷轧钢在腐蚀前后的形貌变化。结果表明掺杂了铈离子和铬离子的硅烷溶液在pH为4,水解温度为50℃,水解时间为8h条件下水解效果最好,使形成复合硅烷膜的冷轧钢在3.50%的氯化钠溶液中的自腐蚀电流密度下降到1.584×10-7A·cm-2,自腐蚀电位正移。经SEM测试表明,掺杂了铈离子和铬离子的复合硅烷膜在腐蚀前后的形貌几乎不变,耐蚀性能明显优于未掺杂的纯硅烷膜。

无氰碱性电镀工艺对黄铜微观结构的影响

在碱性条件下,以硫酸盐为基础溶液,酒石酸钾钠和柠檬酸钠为络合剂,在A3钢表面电镀黄铜合金薄膜。用XRD研究在不同温度、不同电流密度条件下及加入添加剂γ-APS的黄铜合金镀层的微观结构。用SEM和EDS研究在不同电镀时间下黄铜合金镀层的表面形貌和组成。结果表明,电流密度对镀层微观结构影响最为明显,在最佳电镀工艺条件温度为35℃、电镀时间8 min、电流密度为15 mA/cm2时电镀出的Cu-Zn黄铜合金,镀层结晶晶粒均匀,镀层中Cu∶Zn质量比为64∶36。加入添加剂-γAPS后得到的黄铜合金镀层结晶晶粒更加均匀致密且呈现金黄色。

铝合金表面GPTMS硅烷膜的制备及耐腐蚀性能研究

为提高铝合金耐腐蚀力,运用正交试验法研究在铝合金表面制备γ-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)自组装膜最佳工艺条件,利用极化曲线和扫描电子显微镜研究该硅烷膜在铝合金表面的耐腐蚀性能。研究表明:最佳工艺条件为100mL溶液中,pH=4. 5,V(GPTMS)∶V(EtOH)∶V(H2O)=2∶7∶91,T1(水解温度)=25℃,t1(水解时间)=7 h,t2(浸涂时间)=10 min,t3(固化时间)=90 min,T2(固化温度)=120℃,该工艺条件下制备的硅烷膜具有优异的耐腐蚀性能。

无氰碱性电镀工艺对黄铜微观结构的影响

在碱性条件下,以硫酸盐为基础溶液,酒石酸钾钠和柠檬酸钠为络合剂,在A3钢表面电镀黄铜合金薄膜。用XRD研究在不同温度、不同电流密度条件下及加入添加剂γ-APS的黄铜合金镀层的微观结构。用SEM和EDS研究在不同电镀时间下黄铜合金镀层的表面形貌和组成。结果表明,电流密度对镀层微观结构影响最为明显,在最佳电镀工艺条件温度为35℃,电镀时间8 min,电流密度为15 mA/cm2时电镀出的Cu-Zn黄铜合金,镀层结晶晶粒均匀,镀层中Cu:Zn质量比为64:36。加入添加剂-γAPS后得到的黄铜合金镀层结晶晶粒更加均匀致密且呈现金黄色。

冷轧钢表面硅烷膜的制备及耐蚀性能研究

采用浸涂技术,在冷轧钢板(CRS)表面制备3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷(APDMS)自组装膜。利用扫描电镜观察了该膜的形貌,运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了APDMS膜在3.50%NaCl溶液中的耐蚀性能。研究表明:硅烷、乙醇、去离子水的体积比为4∶9∶87,溶液pH为11.0,水解温度40℃,水解时间30h为最佳水解工艺条件;在该条件下形成的硅烷膜耐蚀性能十分优越。