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低温外延生长平整ZnO薄膜 被引量:5
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作者 赵鹏程 张振中 +8 位作者 姚斌 李炳辉 王双鹏 姜明明 赵东旭 单崇新 赵海峰 刘雷 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期-,共6页
在较低温度下实现平整ZnO薄膜的生长有利于ZnO的可控p型掺杂以及获得陡峭异质界面.本文使用分子束外延方法,采用a面蓝宝石为衬底,在450℃下生长了一系列ZnO薄膜样品.在富氧生长的条件下,固定氧流量不变,通过调节锌源温度来改变锌束流,... 在较低温度下实现平整ZnO薄膜的生长有利于ZnO的可控p型掺杂以及获得陡峭异质界面.本文使用分子束外延方法,采用a面蓝宝石为衬底,在450℃下生长了一系列ZnO薄膜样品.在富氧生长的条件下,固定氧流量不变,通过调节锌源温度来改变锌束流,以此调控生长速率.样品的生长速率为40~100 nm/h.通过扫描电镜(SEM)表征发现:在高锌束流的生长条件下,样品表面有很多不规则的颗粒;降低锌的供应量后,样品表面逐渐平整.原子力显微镜(AFM)测试结果表明:样品的均方根表面粗糙度(RMS)只有0.238 nm,接近于原子级平整度.这种平整表面的获得得益于较低的生长速率,以及ZnO外延薄膜与a面蓝宝石衬底之间小的晶格失配. 展开更多
关键词 ZNO 分子束外延 生长温度 平整表面
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通过交替生长气氛调控N掺杂ZnO薄膜电学特性 被引量:3
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作者 赵鹏程 张振中 +7 位作者 姚斌 李炳辉 王双鹏 姜明明 赵东旭 单崇新 刘雷 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第4期-,共5页
使用分子束外延方法在c面蓝宝石衬底上生长了系列氮掺杂ZnO薄膜样品。在连续的富锌气氛环境中生长的样品,由于存在大量的施主缺陷,呈现n型电导。为了抑制施主缺陷带来的补偿效应,在生长过程中,通过周期性补充氧气,形成周期性的富氧气氛... 使用分子束外延方法在c面蓝宝石衬底上生长了系列氮掺杂ZnO薄膜样品。在连续的富锌气氛环境中生长的样品,由于存在大量的施主缺陷,呈现n型电导。为了抑制施主缺陷带来的补偿效应,在生长过程中,通过周期性补充氧气,形成周期性的富氧气氛,缓解了氮掺杂浓度和施主缺陷浓度之间的矛盾。光致发光测量表明,通过交替生长气氛,氧空位和锌间隙等缺陷在薄膜中得到了显著抑制。通过交替生长气氛生长的外延薄膜的结晶质量也有所提高。样品显示出重复性较高的p型电导,载流子浓度可达到1016cm-3。周期性补氧调节生长气氛的生长方式是一种有效实现p型掺杂ZnO的方法。 展开更多
关键词 氧化锌 P型掺杂 间歇性补氧
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硼对氮掺杂的p型ZnO薄膜的影响 被引量:2
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作者 赵鹏程 张振中 +7 位作者 姚斌 李炳辉 王双鹏 姜明明 赵东旭 单崇新 刘雷 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第7期795-799,共5页
利用分子束外延设备在蓝宝石衬底上生长了B/N共掺的p型ZnO薄膜,对比了B/N共掺和N单掺杂样品的物理学性能。通过X射线光电子能谱测试证明了在薄膜中存在有B和B—N键。B/N共掺样品的空穴浓度比单一N掺杂样品高近两个量级。且ZnO∶(B,N)薄... 利用分子束外延设备在蓝宝石衬底上生长了B/N共掺的p型ZnO薄膜,对比了B/N共掺和N单掺杂样品的物理学性能。通过X射线光电子能谱测试证明了在薄膜中存在有B和B—N键。B/N共掺样品的空穴浓度比单一N掺杂样品高近两个量级。且ZnO∶(B,N)薄膜在两年多的时间内一直显示稳定的p型电导。这是由于B—N键的存在提高了N在ZnO薄膜中的固溶度,且B—N键之间强的键能和B占据Zn位所表现的弱施主特性不会带来强的施主补偿效应,说明B是N掺杂ZnO薄膜的一种良好的共掺元素。 展开更多
关键词 ZNO B/N共掺 P型掺杂
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以PVP纳米纤维为模板采用原子层沉积法制备MgxZn(1-x)O纳米纤维及其光学性质研究 被引量:1
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作者 贾慧民 唐吉龙 +10 位作者 方铉 王双鹏 赵海峰 房丹 王晓华 方芳 李金华 楚学影 魏志鹏 马晓辉 徐莉 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第12期3197-3200,共4页
采用静电纺丝方法制备聚乙烯吡咯烷酮(PVP)纳米纤维,并以其为模板采用原子层沉积(ALD)方法制备不同Mg掺杂浓度的MgxZn1-xO纳米纤维。研究了不同Mg掺杂浓度对复合纳米纤维结构和光学性质的影响。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、光致发... 采用静电纺丝方法制备聚乙烯吡咯烷酮(PVP)纳米纤维,并以其为模板采用原子层沉积(ALD)方法制备不同Mg掺杂浓度的MgxZn1-xO纳米纤维。研究了不同Mg掺杂浓度对复合纳米纤维结构和光学性质的影响。利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、光致发光(PL)和紫外-可见光(UV-Vis)吸收谱对样品测试并进行表征分析。结果表明,Mg元素的掺入并没有改变ZnO纳米纤维的形貌,所有样品的表面形貌极其相似,只是掺杂后纤维直径有所增大;随着Mg掺杂浓度的增加吸收边逐渐发生蓝移,表明所制备MgxZn1-xO纤维的带隙具有可调节性。与此同时,在PL谱中可以观察到样品的紫外(UV)发光峰从377nm移动至362nm,且与不掺杂的样品相比,MgxZn1-xO纳米纤维的UV发光强度明显增强。通过这种方法可以合成组分可控的MgxZn1-xO纳米纤维。在ZnO中掺入Mg元素可以有效地提高ZnO-PVP纳米纤维的禁带宽度以及UV发射强度。 展开更多
关键词 Mg掺杂ZnO PVP 纳米纤维 静电纺丝 ALD
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不同生长条件下ZnO薄膜电学性质的研究
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作者 赵鹏程 张振中 +7 位作者 姚斌 李炳辉 王双鹏 姜明明 赵东旭 单崇新 刘雷 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第11期1430-1434,共5页
ZnO薄膜中的高的背景电子浓度能够对p型掺杂形成补偿,从而对p型掺杂造成障碍,了解高背景电子浓度的来源有助于对p型掺杂的研究。本文采用分子束外延技术在不同真空度下在a面蓝宝石衬底上生长了一系列氧化锌薄膜,发现在低真空度下生长的... ZnO薄膜中的高的背景电子浓度能够对p型掺杂形成补偿,从而对p型掺杂造成障碍,了解高背景电子浓度的来源有助于对p型掺杂的研究。本文采用分子束外延技术在不同真空度下在a面蓝宝石衬底上生长了一系列氧化锌薄膜,发现在低真空度下生长的样品的载流子浓度较高,为1019cm-3量级;而高真空度下生长的样品,其载流子浓度比低真空生长的样品显著降低,降低了3个数量级。在相同条件下生长的样品,通过不同的后处理手段进行处理后,其电子浓度未发生明显变化,说明氧空位等本征缺陷不是ZnO薄膜中电子的主要来源,高背景电子浓度应该与生长过程中非故意引入的杂质相关。通过低温光致发光表征,发现低真空度下生长的样品在低温下3.366 eV处有强的施主束缚激子发光峰,而高真空度下生长的样品的此发光峰显著变弱。由此,高电子浓度被归结为与生长过程中非故意引入的氢杂质相关。 展开更多
关键词 ZNO 高背景电子浓度 生长室真空 氢杂质
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ZnO/ZnFe_2O_4复合纳米粒子的制备及其特性研究 被引量:3
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作者 高娴 贾慧民 +13 位作者 方铉 刘鹤 唐吉龙 房丹 王双鹏 赵海峰 李金华 方芳 楚学影 王菲 王晓华 徐莉 马晓辉 魏志鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第7期2110-2115,共6页
利用水热法制备了ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光致发光光谱(PL)对退火前后的ZnO/ZnFe2O4纳米粒子进行表征。研究结果表明,退火后的ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子表现出更好的形貌和晶体质量,主要由六... 利用水热法制备了ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子。用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、光致发光光谱(PL)对退火前后的ZnO/ZnFe2O4纳米粒子进行表征。研究结果表明,退火后的ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子表现出更好的形貌和晶体质量,主要由六角纤锌矿结构的ZnO和立方结构的ZnFe2O4构成。PL光谱显示,退火后ZnO近带边的发光强度明显降低,这是由于ZnO/ZnFe2O4形成了Ⅱ型能带结构实现了光生载流子分离的结果。对其光催化特性也进行了研究,光照时间为3h,退火后的ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子表现出更优秀的光催化活性,降解甲基橙的效率可达50.48%。另外,还对其磁性进行了研究,室温条件下,纳米复合粒子表现为顺磁性,而经过退火处理后表现出铁磁性。因此,ZnO/ZnFe2O4纳米复合粒子经退火后具备磁性光催化剂性能,有一定的发展前景。 展开更多
关键词 ZNO ZNFE2O4 纳米复合结构 光催化特性
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PEALD沉积温度对AlN的结构和表面特性的影响(英文) 被引量:2
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作者 陈芳 方铉 +7 位作者 王双鹏 牛守柱 方芳 房丹 唐吉龙 王晓华 刘国军 魏志鹏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2016年第4期212-215,共4页
研究通过等离子增强原子层沉积(PEALD)在不同沉积温度下生长的A1N温度对其特性的影响。前驱体是NH3和TMA,在300oC、350oC和370oC沉积温度下分别沉积了200、500、800、1000、1500周期的A1N层,并讨论了A1N薄膜的生长速率、结晶化和表... 研究通过等离子增强原子层沉积(PEALD)在不同沉积温度下生长的A1N温度对其特性的影响。前驱体是NH3和TMA,在300oC、350oC和370oC沉积温度下分别沉积了200、500、800、1000、1500周期的A1N层,并讨论了A1N薄膜的生长速率、结晶化和表面粗糙度。结果表明,在300—370℃范围内,随着温度的上升薄膜的沉积速率和结晶化增加,而薄膜表面粗糙度减小。 展开更多
关键词 氮化铝 等离子增强原子层沉积 生长速率 结晶化 表面粗糙度 沉积温度
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基于立方相MgZnO薄膜的高响应度深紫外探测器 被引量:2
8
作者 郑剑 乔倩 +13 位作者 张振中 王立昆 韩舜 张吉英 刘益春 王双鹏 陈星 姜明明 李炳辉 赵东旭 刘雷 刘可为 单崇新 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第11期1291-1296,共6页
在超过相变临界厚度的立方相Mg0.29Zn0.71O薄膜上制备了Au插指电极MSM结构探测器件,30 V偏压下的峰值响应度可达27.9 A/W(268 nm),对应的外量子效率为12900%。分析认为原位生长在立方相MgZnO薄膜上的极薄的结构相变层引入了高密度的界面... 在超过相变临界厚度的立方相Mg0.29Zn0.71O薄膜上制备了Au插指电极MSM结构探测器件,30 V偏压下的峰值响应度可达27.9 A/W(268 nm),对应的外量子效率为12900%。分析认为原位生长在立方相MgZnO薄膜上的极薄的结构相变层引入了高密度的界面态,在立方相薄膜表面电极接触中起到了降低势垒、减小耗尽层宽度、增强电极注入电子的能力的作用,使得器件形成高的光导增益。 展开更多
关键词 立方MgZnO 深紫外探测器 光导增益
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扩散掺杂的p型ZnO薄膜的光学性质研究 被引量:1
9
作者 陈芳 房丹 +11 位作者 王双鹏 方铉 唐吉龙 赵海峰 方芳 楚学影 李金华 王菲 王晓华 刘国军 马晓辉 魏志鹏 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第7期1787-1790,共4页
采用原子层沉积技术(atomic layer deposition)在InP衬底上生长ZnO薄膜,并在不同温度下(500和700℃)进行热退火处理,将P掺杂进入ZnO,得到p型ZnO薄膜。样品的光学特性通过光致发光光谱(photoluminescence,PL)来测定,得出热退火温度是影响... 采用原子层沉积技术(atomic layer deposition)在InP衬底上生长ZnO薄膜,并在不同温度下(500和700℃)进行热退火处理,将P掺杂进入ZnO,得到p型ZnO薄膜。样品的光学特性通过光致发光光谱(photoluminescence,PL)来测定,得出热退火温度是影响P扩散掺杂的重要因素,低温PL光谱中,700℃热退火1h样品的光谱展现出四个与受主相关的发射峰:3.351,3.311,3.246和3.177eV,分别来自受主束缚激子的辐射复合(A°X)、自由电子到受主的发射(FA)、施主受主对的发射(DAP)以及施主受主对的第一纵向声子伴线(DAP-1LO),计算得到受主束缚能为122meV,与理论计算结果一致。通过热扩散方式实现了ZnO薄膜的p型掺杂,解决了制约ZnO基光电器件发展的主要问题,对ZnO基半导体材料及其光电器件的发展有重要意义。 展开更多
关键词 扩散掺杂 P型ZNO P掺杂 原子层沉积 光致发光
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非对称ZnO/ZnMgO双量子阱内量子效率的提高 被引量:1
10
作者 尚开 张振中 +6 位作者 李炳辉 徐海阳 张立功 赵东旭 刘雷 王双鹏 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第7期872-876,共5页
在c-plane面蓝宝石衬底上生长了ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱,其内量子效率相对于对称量子阱有了显著的提高。ZnO/Zn0.85Mg0.15O的10周期对称量子阱和5周期非对称双量子阱都是利用等离子体辅助分子束外延技术制备的。ZnO/Zn0.85Mg0.... 在c-plane面蓝宝石衬底上生长了ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱,其内量子效率相对于对称量子阱有了显著的提高。ZnO/Zn0.85Mg0.15O的10周期对称量子阱和5周期非对称双量子阱都是利用等离子体辅助分子束外延技术制备的。ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱的内量子效率提高至对称阱的1.56倍。时间分辨光谱和光致发光谱测试结果证实,在ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱中存在从窄阱到宽阱的激子隧穿过程,这是内量子效率提高的主要原因。 展开更多
关键词 ZNO 量子阱 激子隧穿 内量子效率
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梯度组分缓冲层诱导的单一立方相Mg_(0.3)Zn_(0.7)O薄膜外延生长 被引量:1
11
作者 郑剑 张振中 +11 位作者 王立昆 韩舜 张吉英 刘益春 王双鹏 姜明明 李炳辉 赵东旭 刘雷 刘可为 单崇新 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期1040-1045,共6页
为了实现MgZnO合金带隙全跨度调制,利用低压MOCVD设备,在c面蓝宝石衬底上采用MgO籽晶层和组分渐变缓冲层控制立方相MgxZn1-xO薄膜的生长,获得了Zn组分达到0.7的单一立方相MgxZn1-xO薄膜,把MgZnO合金带隙调制范围从MgO一侧扩展到了4.45 ... 为了实现MgZnO合金带隙全跨度调制,利用低压MOCVD设备,在c面蓝宝石衬底上采用MgO籽晶层和组分渐变缓冲层控制立方相MgxZn1-xO薄膜的生长,获得了Zn组分达到0.7的单一立方相MgxZn1-xO薄膜,把MgZnO合金带隙调制范围从MgO一侧扩展到了4.45 eV,覆盖了整个日盲紫外波段。对比实验分析表明,这种高Zn组分立方相MgZnO薄膜的生长得益于缓冲层晶格模板的结构诱导作用和适宜的生长温度(350~400℃)。Mg0.3Zn0.7O基MSM结构紫外探测器响应峰位于270 nm,截止波长295 nm。 展开更多
关键词 立方MgZnO 缓冲层 带隙调制
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扫描近场光学显微技术在半导体材料表征领域应用的研究进展 被引量:1
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作者 陈芳 魏志鹏 +6 位作者 刘国军 唐吉龙 房丹 方铉 高娴 赵海峰 王双鹏 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第23期28-33,共6页
半导体材料及其光电器件如激光器、探测器以及高速微波器件有着广阔的应用前景。半导体材料的结构和缺陷特性对器件性能起着至关重要的影响,然而对材料进行纳米尺度下的检测、表征无论是理论上还是技术和设备上都需要深入研究和发展,因... 半导体材料及其光电器件如激光器、探测器以及高速微波器件有着广阔的应用前景。半导体材料的结构和缺陷特性对器件性能起着至关重要的影响,然而对材料进行纳米尺度下的检测、表征无论是理论上还是技术和设备上都需要深入研究和发展,因此扫描近场光学显微技术在半导体材料表征领域有着无可替代的地位。扫描近场光学显微技术突破了传统光学显微技术的衍射分辨率极限的限制,具有超高空间分辨率、超高探测灵敏度等特点,并且是一种非接触性探测,具有无损伤性。简要介绍了扫描近场光学显微镜的原理及在半导体材料研究中的应用,包括量子阱结构中的位错及缺陷的表征,半导体器件的表面复合速率及扩散长度的纳米表征,以及半导体薄膜中的缺陷分布的检测。探讨了目前相关研究领域存在的主要问题,并对其发展趋势和前景进行了展望。 展开更多
关键词 扫描近场光学显微技术 半导体材料 超高空间高分辨率
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电厂锅炉引风机故障的原因与维修对策分析 被引量:1
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作者 刘克聪 王双鹏 《集成电路应用》 2023年第5期192-193,共2页
阐述发电厂锅炉引风机故障问题的发生原因,故障的维修技术,包括失速故障的维修措施、叶片断裂故障的维修,提出选择合适的技术方案创新现有的维修模式。
关键词 控制技术 引风机故障 失速故障 维修模式
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电子束泵浦氧化锌基量子阱的斯塔克效应
14
作者 尚开 张振中 +6 位作者 李炳辉 徐海阳 张立功 赵东旭 刘雷 王双鹏 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第10期1270-1274,共5页
在不同功率密度的电子束泵浦条件下,对ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱的荧光光谱进行了研究,并采用蒙特卡罗仿真模拟对测试结果进行了分析。模拟的结果和实验结果高度吻合。观测到了不随穿透深度变化的阱区发光峰红移,证明表面电荷积... 在不同功率密度的电子束泵浦条件下,对ZnO/Zn0.85Mg0.15O非对称双量子阱的荧光光谱进行了研究,并采用蒙特卡罗仿真模拟对测试结果进行了分析。模拟的结果和实验结果高度吻合。观测到了不随穿透深度变化的阱区发光峰红移,证明表面电荷积累引起了量子限域斯塔克效应。 展开更多
关键词 ZNO 量子阱 电子束泵浦 量子限域斯塔克效应
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电子束泵浦ZnO/ZnMgO量子阱的最佳激发电压
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作者 尚开 张振中 +6 位作者 李炳辉 徐海洋 张立功 赵东旭 刘雷 王双鹏 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期692-697,共6页
对不同加速电压电子束泵浦下的ZnO/Zn0.85Mg0.15O量子阱的荧光光谱进行了研究。样品利用分子束外延技术在蓝宝石衬底上生长。激子隧穿使非对称双量子阱的激发效率相对于对称阱有了明显提高。非对称阱的结构设计使最佳激发电压从对称阱的... 对不同加速电压电子束泵浦下的ZnO/Zn0.85Mg0.15O量子阱的荧光光谱进行了研究。样品利用分子束外延技术在蓝宝石衬底上生长。激子隧穿使非对称双量子阱的激发效率相对于对称阱有了明显提高。非对称阱的结构设计使最佳激发电压从对称阱的7 kV降低到了更适合器件小型化的5 kV。 展开更多
关键词 ZNO 量子阱 电子束泵浦 激子隧穿
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m面蓝宝石上外延(110)取向立方MgZnO薄膜及其日盲紫外探测器件研究(英文)
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作者 郑剑 张振中 +10 位作者 张吉英 刘益春 王双鹏 姜明明 陈星 李炳辉 赵东旭 刘雷 王立昆 单崇新 申德振 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第6期678-683,共6页
由于在日盲紫外探测方面的应用前景,具有合适带隙的MgZnO合金半导体薄膜受到越来越多的关注。获得具有择优取向的单一相MgZnO对提升MgZnO基日盲紫外探测器性能至关重要。本文利用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)方法在m面蓝宝石衬... 由于在日盲紫外探测方面的应用前景,具有合适带隙的MgZnO合金半导体薄膜受到越来越多的关注。获得具有择优取向的单一相MgZnO对提升MgZnO基日盲紫外探测器性能至关重要。本文利用低压金属有机化学气相沉积(LP-MOCVD)方法在m面蓝宝石衬底上制备了一系列不同组分的MgxZn1-xO薄膜。光学和结构特性测试结果表明:Zn摩尔分数达到55%的Mg0.45Zn0.55O薄膜依然是单一立方相,其光学带隙可以达到4.7 eV。立方岩盐结构MgZnO与m面蓝宝石衬底的外延结构关系为(110)MgZnO‖(1010)sapphire、[001]MgZnO‖[1210]sapphire和[110]MgZnO‖[0001]sapphire。唯一确定的面内取向有利于薄膜晶体质量的提高。基于(110)取向立方相Mg0.45Zn0.55O薄膜制备金属-半导体-金属(MSM)结构器件,获得了光响应峰在260 nm、光响应截止波长278 nm的日盲紫外探测器。 展开更多
关键词 立方MgZnO (110)取向 日盲紫外探测器 MOCVD
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GaAsMIS肖特基结的GaAs-MgO界面层的电学性质
17
作者 高娴 唐吉龙 +7 位作者 房丹 王双鹏 赵海峰 魏志鹏 方铉 王晓华 徐志堃 马晓辉 《纳米科技》 2015年第3期12-15,共4页
使用分子束外延(MBE)技术生长Be掺杂的GaAs膜层,在此基础上,制备Au/GaAs Schottky二极管.另外,在Au与GaAs之间用原子层沉积技术(ALD) 插入一层MgO绝缘层,研究不同掺杂浓度的GaAs对势垒高度及影响因子的影响,实验结果表明,Au/MgO/GaA... 使用分子束外延(MBE)技术生长Be掺杂的GaAs膜层,在此基础上,制备Au/GaAs Schottky二极管.另外,在Au与GaAs之间用原子层沉积技术(ALD) 插入一层MgO绝缘层,研究不同掺杂浓度的GaAs对势垒高度及影响因子的影响,实验结果表明,Au/MgO/GaAs结构的肖特基势垒,随着掺杂浓度的升高而增大,影响因子呈现先降低后增加的趋势. 展开更多
关键词 Be掺杂GaAs GaAsMIS结构 I-V 肖特基势垒高度 理想因子
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关于2021年第十届全国氧化锌学术会议延期举办的通知
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作者 王双鹏 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第6期879-879,共1页
尊敬的各位专家及关心氧化锌学术发展的业界朋友:新冠疫情肆虐的当今,中国澳门特区政府在疫情控制方面做得非常出色,疫情感染者已经连续14个月清零。尽管澳门现在是一座安全健康的城市,考虑到国际变种新冠病毒的出现,周边地区存在很大... 尊敬的各位专家及关心氧化锌学术发展的业界朋友:新冠疫情肆虐的当今,中国澳门特区政府在疫情控制方面做得非常出色,疫情感染者已经连续14个月清零。尽管澳门现在是一座安全健康的城市,考虑到国际变种新冠病毒的出现,周边地区存在很大的不确定性。 展开更多
关键词 学术会议 氧化锌
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亚波长尺度下混合等离子泄漏模式激光
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作者 严闪闪 王双鹏 宿世臣 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2021年第2期397-408,共12页
由于光存在衍射极限,因此传统方法不能实现亚波长尺度下的激光激射。为了打破这一衍射极限,本文设计了金属-介电层-半导体堆叠结构来实现深亚波长尺度下的激光激射,并讨论了相关结构对模式传播的影响。结构设计上,采用低介电常数金属银... 由于光存在衍射极限,因此传统方法不能实现亚波长尺度下的激光激射。为了打破这一衍射极限,本文设计了金属-介电层-半导体堆叠结构来实现深亚波长尺度下的激光激射,并讨论了相关结构对模式传播的影响。结构设计上,采用低介电常数金属银作为衬底、10 nm厚的LiF作为介电层、具有六边形截面的半导体纳米线ZnO作为高介电常数层,采用有限差分本征模和时域有限差分方法对所设计的结构进行光学仿真模拟。首先,通过改变ZnO纳米线的直径,使用有限本征模方法分析介电层中的光学模式,得到4种模式分布。然后,通过这4种光学模式在不同纳米线直径下的有效折射率和损耗计算了对应的波导传输距离以及激射阈值增益。最后,采用三维时域有限差分方法仿真分析纳米线稳态激光发射过程中各模式的电场分布。结果表明:在纳米线和金属衬底之间的介电层上存在混合等离子体模式和混合电模式,对于直径低于75 nm的ZnO纳米线,没有有效的物理光学模式,即混合等离子体模式和混合电模式都被切断,当ZnO纳米线的直径大于75 nm时,混合等离子体模式可以有效存在,而混合电模式在ZnO纳米线的直径达到120 nm之后才出现。虽然混合等离子体模式可以更好地限制在介电层中,但是它们的模式损耗太大,传播距离相对较小。此外,与混合等离子体模式相比,混合电模式的传播距离更长。在给定微米线的直径(D=240μm)下,混合电模式传播距离超过50μm。综上可知,在深亚波长尺度下利用混合泄漏模式可以打破光学衍射极限并实现激光激射。 展开更多
关键词 激光 泄漏模式 亚波长 波导
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Ultraviolet emissions realized in ZnO via an avalanche multiplication process
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作者 于吉 单崇新 +3 位作者 申赫 张祥伟 王双鹏 申德振 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2013年第7期41-44,共4页
Au/MgO/ZnO/MgO/Au structures have been designed and constructed in this study. Under a bias voltage, a carrier avalanche multiplication will occur via an impact ionization process in the MgO layer. The generated holes... Au/MgO/ZnO/MgO/Au structures have been designed and constructed in this study. Under a bias voltage, a carrier avalanche multiplication will occur via an impact ionization process in the MgO layer. The generated holes will be drifted into the ZnO layer, and recombine radiatively with the electrons in the ZnO layer. Thus obvious emissions at around 387 nm coming from the near-band-edge emission of ZnO will be observed. The reported results demonstrate the ultraviolet (UV) emission realized via a carrier multiplication process, and so may provide an alternative route to efficient UV emissions by bypassing the challenging p-type doping issue of ZnO. 展开更多
关键词 avalanche multiplication wide bandgap semiconductor light-emitting devices
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