基于混合曝光技术的新型亚微米图形制作方法

提出了一种基于投影式光刻机和电子束光刻机混合曝光技术的新型亚微米图形制作方法,该方法可用于制作对精度要求比较高的亚微米图形。具体的做法是将亚微米图形分解成高精度图层和普通精度图层,并将两个图层分别采用电子束直写和投影式光刻机依次在同一层光刻胶曝光后,经过一次显影得到完整图形。通过该方法不仅可以大幅减少采用电子束直写亚微米图形所需的时间,还可以有效地保证图形的线宽精度。从图形的数据处理和实验制作两个方面,详细地介绍了采用该方法在硅衬底上制作SU-8亚微米图形的过程。经SEM测试得出,本方法制作的图形尺寸精度和棱角的锐度都非常精确,可比较理想地实现设计者的设计要求。

例析中考建模应用题

在近几年的中考应用题中，涌现出一类紧贴生活实际，旨在考查学生灵活应用所学数学知识，构建数学模型解决实际问题的创新试题．解这类应用题往往需要学生在陌生的情景中去理解和分析给出的有关问题，并舍去与数学无关的因素，通过抽象转化成相应的数学问题求解．其基本思路是：

智能制造新模式下的电子行业离散型智能制造的工厂模式

在全球经济结构的深度调整下,我国的战略布局向制造强国方向发展,为了加快转变经济发展模式,使得工业转型得到推进和 升级,从而促进制造行业的快速发展,实施智能工厂建设尤为重要。因此,本文将具体探讨智能制造新模式下的电子行业离散型智能制造 的工厂模式,将智能化、数字化、信息化以及网络化运用在设计、生产、检测及管理当中,以促进制造业的发展,具体如下。

整体处理 避繁就简

某些数学问题,若从全局着眼,整体处理,常能化繁为简,化难为易.现以近两年各省市中考试题为例,举例说明.