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Cu-Al金属间化合物的形成与生长及其对电镀Cu/Al层状复合材料电性能的影响(英文)
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作者 张健 王斌昊 +4 位作者 陈国宏 王若民 缪春辉 郑治祥 汤文明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第12期3283-3291,共9页
采用纯Al片表面浸Zn后再电镀厚Cu层的方法制备Cu/Al层状复合材料。在473~673K温度范围内对该复合材料进行退火,研究退火过程中Cu/Al界面扩散与反应、界面金属间化合物(IMCs)层的长大动力学以及Cu/Al层状复合材料电阻率。结果表明,经过... 采用纯Al片表面浸Zn后再电镀厚Cu层的方法制备Cu/Al层状复合材料。在473~673K温度范围内对该复合材料进行退火,研究退火过程中Cu/Al界面扩散与反应、界面金属间化合物(IMCs)层的长大动力学以及Cu/Al层状复合材料电阻率。结果表明,经过473K、360h的退火处理,未观察到Cu.AlIMCs层,显示Zn中间层能有效抑制Cu/Al界面扩散。可是,当复合材料经573K及以上温度退火时,Zn层中的Zn原子主要向Cu中扩散,从Al侧到Cu侧形成CuAl2/CuAl/Cu9Al4三层结构的反应产物。IMC层遵循扩散控制的生长动力学,Cu/Al复合材料的电阻率随退火温度及时间的增加而增大。 展开更多
关键词 Cu.Al金属间化合物 层状复合材料 电镀 界面反应 生长动力学 电阻率
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