基于PDMS微结构模板转印技术的研究

基于界面间粘附能理论,结合有限元模拟研究聚二甲基硅氧烷(PDMS)微结构模板实现聚合物SU-8光刻胶的图形转移复制的转印机理,分析了微结构转印过程中基底表面能、压力和SU-8胶溶剂对图形转印的影响。结果表明,氧等离子体轰击基底表面可以有效提高基底表面能,保证大面积图形转印成功率;通过有限元方法分析PDMS模板上微结构在压强载荷下的变形情况,确定了保证转印精确度的最大压强载荷为60kPa;SU-8胶溶液中环戊酮的挥发会造成转印结构的收缩变形,足够大的SU-8胶浓度是保证转印精确度的前提,SU-8 2025光刻胶与环戊酮的体积比大于2时基本可以保证图形转印精度。

纳米银墨水的液桥转印技术研究

本文利用液桥转印技术将填充于聚二甲基硅氧烷(PDMS)模板沟槽内的纳米银墨水经烧结固化后转印到玻璃基底表面形成微结构图形。研究了金属微结构在转印过程中的图形断裂和线条展宽等缺陷产生的原因。实验结果表明,液桥毛细作用力的存在可以大幅提高图形转印成功率;降低烧结温度和缩短烧结时间有利于提高银线微结构的连续性,而升高烧结温度和增加烧结时间有利于提高纳米银墨水的固化程度,从而抑制线条展宽进而提高透射率。综合考虑这两方面因素,优化了工艺参数,改善了银线微结构的断裂情况,并且使其具有较高的转印精度和透射率。

低压压印制备硅点阵结构的工艺研究

高密度、图形规则的硅点阵结构由于其独特的光电性能具有广泛的应用前景。本文介绍了一种以低压压印结合反应离子刻蚀制备硅点阵的方法,即利用PDMS模板通过压印复制获得PMMA掩模结构,用反应离子刻蚀在硅片表面制得高度有序的硅纳米点阵结构。实验和有限元模拟结果表明,低压压印因为毛细作用下光刻胶在模板内的充分填充可以获得良好的图形复制精度和较小的残余胶厚度,因此适于大面积高密度光刻胶结构的均匀复制。

一种自封装技术制备PMMA微流控通道方法研究

本文结合湿法腐蚀技术、紫外固化纳米压印技术、热压纳米压印技术制备出聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)沟槽微结构,基于局部加热的自封装技术成功制备出了PMMA微流控通道。研究了硅模板结构参数的选择要求以及工艺过程中实验参数对实验的影响。实验结果表明,热硅片与基片相对运动方向应与PMMA沟槽微结构方向平行,有利于制备出变形量小、尺寸均匀的微流控通道。

悬移支架放顶煤工作面的技术管理

根据悬移支架开采实践过程中的情况 。

水平开拓延深方案的比较

对鹤岗矿业集团公司兴安煤矿四水平延深方案进行技术、经济比较,从而选择出合理的方案。

矿井恢复工程的可行性研究

从井田开拓、通风、提升。

中深孔爆破在立井中的应用

在立井井筒施工中 ,采取中深孔爆破施工方法 。

气动锚杆钻机在使用过程应注意的几个问题

介绍了MQT-70C型气动锚杆钻机在兴安矿四水平延深工程中的使用情况及优越性,并在实际使用中针对气动锚杆钻机在使用过程中出现的几个问题,提出了解决办法及注意事项。

注浆技术在煤层突出后处理中的应用

鹤岗矿业集团矿建公司在施工兴安煤矿四水平延深工程中,发生过2次瓦斯突出,在处理过程中应用了注浆技术,达到了比较理想的效果。