改进的周期主动频移式孤岛检测方法

当在非检测区内电流扰动角和负载相角匹配时,基于周期交替电流扰动法可以有效地检测出孤岛现象。然而该方法存在注入扰动对输出电流的质量影响较大的缺点。结合一种改进的主动频移法,提出改进的周期主动频移式孤岛检测方法。该方法在相邻两个周期以不同的电流扰动方程作为参考电流波形,前一个周期中注入扰动使公共耦合点电压频率向上偏移,后一个周期使频率向下偏移。电网断电后,通过观察相邻周期公共耦合点电压频率差是否连续的正负交替变化来识别孤岛现象。经过理论分析和Matlab仿真验证,该方法可以准确地识别出非检测区内的孤岛效应,同时注入的扰动对输出电能质量影响很小。

一种自适应的主动移频孤岛检测方法

针对正反馈主动移频法存在检测速度不够快,对输出电流质量影响较大的问题,提出了一种自适应的正反馈主动移频检测方法。该方法采用新的初始截断系数,根据公共点的频率化率实时地调整正反馈系数,缩短了检测时间,减小了检测盲区。同时考虑了电网的波动,避免引入的频率差对输出电流质量的影响。通过相位理论分析和MATLAB/Simulink仿真,验证了该方法的有效性及优越性。

辉光功率对柔性衬底ZnO:Al薄膜性能的影响

目前，磁控溅射制备ZnO：Al薄膜时的溅射压强较低，若氩气流量不稳或腔室排气口处气流扰动会对溅射压强产生较大影响，影响成膜质量。为提高溅射薄膜质量，采用直流磁控溅射技术，在较高溅射压强下，以不同辉光功率在柔性衬底聚酰亚胺上制备了ZnO：Al薄膜。采用紫外可见分光光度计、四探针测试仪、X射线衍射仪及扫描电镜测试薄膜性能，考察了辉光功率对薄膜光学特性、电学特性、薄膜结构和表面形貌的影响。结果表明：制备的薄膜均为六方纤锌矿结构，且有明显的C轴择优取向；随着辉光功率的增大，方块电阻先减小后增大，辉光功率为50w时最小，为15．6Ω，晶粒尺寸先增大后减小；在辉光功率为50w时，600～800nm波长范围内薄膜的相对透射率达到最大值96％。

基于Nyquist图的光伏并网电能质量综合补偿方法

在单相光伏并网逆变控制中,针对谐振频率高于截止频率时Bode图及其稳定判据的使用受到限制等问题,提出一种基于Nyquist图的谐波补偿方法。该方法将Nyquist曲线到临界稳定点(-1,j0)的最短距离作为系统稳定程度的表征量,通过对矢量比例积分控制器(VPI)设计合适的相角补偿使该距离在Nyquist图中达到最大,从而提高奇次谐波补偿次数,同时避免闭环异常峰,闭环系统的稳定性和抗干扰能力得到增强。改进后的VPI控制使系统保持较高的稳定性,参数变化对系统稳定性的影响可忽略不计,因而简化了参数设计过程。理论分析和仿真结果验证了基于Nyquist图进行改进后的VPI控制策略的有效性和可行性。

一种新颖的周期电流扰动孤岛检测方法

当分布式发电系统的输出功率与负载消耗功率匹配,且负载谐振频率等于电网频率时,即使孤岛发生,此时公共耦合点(PCC)的电压和频率仍保持不变,将一直处于非检测区内。深入研究了一种新的电流扰动法,并对其进行改进,提出一种新颖的周期电流扰动检测方法。新算法在部分周期电流波形中注入扰动,改变了部分电流的幅值。引入的扰动会导致PCC电压在正负半周期的幅值呈现高低变化,通过连续观察正负半周期电压幅值是否周期性呈现高低交替变化来识别孤岛现象。经过理论分析和Simulink仿真验证,该方法可以准确地识别非检测区的孤岛效应,同时对电能质量影响小。

衬底温度对不锈钢衬底上制备a-Si∶H薄膜特性的影响

非晶硅薄膜太阳电池因为光致衰退效应而影响了其使用和推广的范围,而通过甚高频等离子体化学气相沉积(VHF-PECVD)法制备的氢化非晶硅薄膜(a-Si∶H)可以在一定程度上改善光致衰退(SW)效应对电池效率的影响。不锈钢衬底具有可卷曲、耐高温、延展性好等优点。本文重点讨论了在不锈钢衬底上的非晶硅薄膜的生长速率、表面形貌、结构成分、光学带隙及光敏性等方面的影响,分析了影响的原因并找出最优制备条件。实验结果表明:在220~300℃的范围内,随着衬底温度的增加,薄膜的生长速率先增加后减小,薄膜的非晶化程度逐渐降低。合适的衬底温度应控制在220~240℃的范围,此时可以获得1.84eV左右的光学带隙和103量级的光敏性。

氩气压强对不锈钢衬底NiCr薄膜性能的影响

采用射频磁控溅射技术在不锈钢基底上制备NiCr金属薄膜,研究不同的氩气压强对样品形貌和光学、附着力性能的影响。结果表明:所制备的NiCr薄膜在中远红外区都具有较高的反射率,平均值约为0.92,附着力级别均能达到5B;氩气压强对薄膜的性能具有较大的影响,具体表现为:随着压强的增大,薄膜的结晶度先上升后下降,均匀性先变好后变坏,在压强为4Pa时薄膜质量最好。

溅射功率对不锈钢衬底ZnO∶Al薄膜性能的影响

采用直流磁控溅射技术,以掺Al为2%的Zn O陶瓷靶为靶材,通用的304不锈钢为衬底,制备了一系列Zn O∶Al薄膜,研究了溅射功率对样品薄膜结构和表面形貌、光学特性的影响。结果表明:制备的薄膜都为六方纤锌矿结构,并有高度的c轴择优取向;溅射功率对薄膜的性能有显著的影响,即随着溅射功率的增大,从35 W到80 W,晶粒尺寸先增大后减小,薄膜表面陷光结构先变好后变坏,最优值出现在溅射功率为65 W时,此时薄膜对波长小于360 nm的光吸收率约为91%。