期刊文献+
共找到25篇文章
< 1 2 >
每页显示 20 50 100
SiCl_4等离子体中的中性基团质谱测量 被引量:2
1
作者 王照奎 林揆训 +2 位作者 娄艳辉 林璇英 祝祖送 《核聚变与等离子体物理》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期252-256,共5页
设计了一个取样位置能在射频辉光放电等离子体电极间自由移动的取样装置,用质谱计测量了SiCl4等离子体的离子信号.提出了一种线性拟合的方法用于计算SiCl4等离子体的消耗率,利用测量的离子信号,计算出了SiCl4等离子体中SiCln(n=0~2... 设计了一个取样位置能在射频辉光放电等离子体电极间自由移动的取样装置,用质谱计测量了SiCl4等离子体的离子信号.提出了一种线性拟合的方法用于计算SiCl4等离子体的消耗率,利用测量的离子信号,计算出了SiCl4等离子体中SiCln(n=0~2)中性基团的空间分布。实验结果表明,可移动质谱取样装置的设计是合理的;用线性拟合方法得到的等离子体消耗率和中性基团的相对密度,比以前的方法得到的更精确。 展开更多
关键词 射频辉光放电 中性基团 质谱测量 可移动取样装置
下载PDF
SiCl_4-H_2沉积多晶硅薄膜过程中放电功率的影响 被引量:1
2
作者 王照奎 林璇英 +4 位作者 林揆训 邱桂明 祝祖送 黄锐 魏俊红 《汕头大学学报(自然科学版)》 2004年第4期14-18,共5页
以SiCl4 和H2 为气源 ,用等离子体增强化学气相沉积技术 ,以 3 5 s的速率生长出了晶化度为 75 %的优质多晶硅薄膜 .着重分析放电功率的影响 ,结果表明 :随着功率的增大 ,薄膜沉积速率基本上线性增大 ,之后有减小的趋势 ;薄膜晶化度随... 以SiCl4 和H2 为气源 ,用等离子体增强化学气相沉积技术 ,以 3 5 s的速率生长出了晶化度为 75 %的优质多晶硅薄膜 .着重分析放电功率的影响 ,结果表明 :随着功率的增大 ,薄膜沉积速率基本上线性增大 ,之后有减小的趋势 ;薄膜晶化度随功率的增大而减小 ;功率较大时 ,晶粒密度也大 ,且比较均匀 ,但晶粒尺寸较小 ,功率较小时 ,大尺寸的晶粒明显增多 。 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积 多晶硅薄膜 电功率 薄膜沉积 速率 大尺寸 放电 晶粒尺寸 均匀 线性
下载PDF
等离子体化学气相沉积参量对Ar等离子体电子特性的影响 被引量:2
3
作者 魏俊红 林璇英 +6 位作者 赵韦人 池凌飞 余云鹏 林揆训 黄锐 王照奎 余楚迎 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第6期755-757,共3页
 采用加热的调谐单探针技术,研究了射频辉光放电Ar等离子体空间电子能量分布函数,电子平均能量和电子密度,并系统分析了等离子体增强化学气相沉积工艺参量对等离子体空间电子特性的影响。
关键词 调谐单探针 等离子体化学气相沉积 Ar等离子体
下载PDF
以SiCl_4为源气体用PECVD技术低温快速生长多晶硅薄膜 被引量:1
4
作者 黄锐 林璇英 +6 位作者 余云鹏 林揆训 姚若河 黄文勇 魏俊红 王照奎 余楚迎 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期613-614,617,共3页
 报道了以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在小于300℃的低温下快速生长多晶硅薄膜。实验发现,生长速率强烈依赖于放电功率、H2/SiCl4流量比和衬底温度,而薄膜的晶化度只依赖于放电功率和H2/SiCl4流量比,与衬底温度...  报道了以SiCl4和H2为气源,用等离子体增强化学气相沉积技术,在小于300℃的低温下快速生长多晶硅薄膜。实验发现,生长速率强烈依赖于放电功率、H2/SiCl4流量比和衬底温度,而薄膜的晶化度只依赖于放电功率和H2/SiCl4流量比,与衬底温度的关系不大。通过控制和选择工艺条件,我们获得了生长速率高达0.35nm/s,晶化度高于75%的多晶硅薄膜。薄膜的暗电导率和光电导率分别达到10-4S-1·cm-1和10-3S-1·cm-1。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜 SiCl4 生长速率 晶化度
下载PDF
室内光伏的应用前景与挑战 被引量:2
5
作者 杨文樊 李萌 王照奎 《物理学进展》 CSCD 北大核心 2020年第6期175-187,共13页
社会的发展离不开能源的发现与创造,光伏能源的多形式运用在能源领域大放异彩,室内光伏器件逐渐成为大家所关注的热点。室内光伏IPV(Indoor photovoltaics)作为低照度条件下的电源,可以满足低功率电子器件的工作要求。本文主要比较了基... 社会的发展离不开能源的发现与创造,光伏能源的多形式运用在能源领域大放异彩,室内光伏器件逐渐成为大家所关注的热点。室内光伏IPV(Indoor photovoltaics)作为低照度条件下的电源,可以满足低功率电子器件的工作要求。本文主要比较了基于硅、染料、III-V族半导体、有机化合物和卤化物钙钛矿这些不同类型的IPV器件。得益于卤化物钙钛矿活性层具有优异的光物理特性,钙钛矿光伏具有成为高性能室内光伏器件的潜力。与此同时也讨论了室内光伏的局限性。最后,提出了制备生产高效率、无毒、稳定的钙钛矿室内光伏器件的解决方案以及未来应用展望。 展开更多
关键词 室内光伏 薄膜器件 钙钛矿材料
下载PDF
用SiCl4/H2沉积纳米晶硅薄膜过程中氢稀释量对SiCln(n=0~2)密度的影响
6
作者 娄艳辉 王照奎 +1 位作者 林揆训 林璇英 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期12-15,共4页
用质谱、朗缪尔探针诊断技术研究了氢稀释的SiCl4作为源气体,用等离子体增强化学气相方法进行纳米晶硅薄膜的生长。进一步研究了氢稀释比率对SiCl4等离子体中SiCln(n=0-2)基团浓度的影响。等离子体中,平均电子能量和电子密度分别随着... 用质谱、朗缪尔探针诊断技术研究了氢稀释的SiCl4作为源气体,用等离子体增强化学气相方法进行纳米晶硅薄膜的生长。进一步研究了氢稀释比率对SiCl4等离子体中SiCln(n=0-2)基团浓度的影响。等离子体中,平均电子能量和电子密度分别随着氢稀释比率的增加而达到9.25eV和3.7×10^9cm^-3。结果发现,在0.4-0.67范围的氢稀释比率对于形成SiCln(n=0-2)基团很有利。在这个范围,平均电子能量和电子密度都有较大的值。生成较多的SiCln(n=0-2)基团将有利于提高薄膜沉积速率和薄膜质量。 展开更多
关键词 氢稀释 纳米硅薄膜 SiCln(n=0~2)基团
下载PDF
机器结构噪声转动功率流的测量
7
作者 陈胜鹏 王照奎 邱桂明 《汕头大学学报(自然科学版)》 2003年第4期52-58,共7页
利用互功率谱的方法对安装在混凝土地板上的小型排气扇工作时产生的转动结构声功率流进行了测量 。
关键词 机器结构噪声 转动功率流 互功率谱 劲度系数
下载PDF
高等学校教师教学能力评估初探 被引量:7
8
作者 王照奎 《太原师范学院学报(社会科学版)》 1989年第2期72-76,共5页
自改革职称评定,实行专业技术职务聘任制以来,在评审工作中大家感到最棘手的一个问题就是教师的实际能力难以定性,特别是教学能力。然而教学能力又是教师晋升职务业绩考核的主体。教学能力考核的弹性表现又直接影响到评审工作的准确度... 自改革职称评定,实行专业技术职务聘任制以来,在评审工作中大家感到最棘手的一个问题就是教师的实际能力难以定性,特别是教学能力。然而教学能力又是教师晋升职务业绩考核的主体。教学能力考核的弹性表现又直接影响到评审工作的准确度、可行度、可信度和有效度。有的同志认为,教学工作是软指标,没有固定的定性、定量考核方法,无法进行。一个教师教学能力的大小,教研室的同志们都是清楚,不进行考核也能区别开来。但我认为,所谓的清楚是凭印象而来,感受印象在具体的评审中不易拉开档次,不能作为评审依据。事实可以证明,从所上报的材料分析。 展开更多
关键词 高等学校 能力评估 评审工作 教师教学能力 授课能力 教学研究能力 直接影响 职务聘任制 考核方法 职称评定
下载PDF
疫情防控常态化下发展文化娱乐产业的建议 被引量:1
9
作者 王照奎 《人文天下》 2020年第11期29-31,共3页
新冠肺炎疫情短期之内不会彻底结束,病例清零和追求清零都不现实。当下,抓住时机,创新求变,重振文化娱乐产业,提高人们的消费信心尤为重要。一、文化娱乐产业的现状文化娱乐行业主要有五大板块:电影(包括摄制、发行和放映)、商业演出、... 新冠肺炎疫情短期之内不会彻底结束,病例清零和追求清零都不现实。当下,抓住时机,创新求变,重振文化娱乐产业,提高人们的消费信心尤为重要。一、文化娱乐产业的现状文化娱乐行业主要有五大板块:电影(包括摄制、发行和放映)、商业演出、线上影视和游戏、各种社会性文化娱乐活动、文化娱乐设备制造和销售。 展开更多
关键词 文化娱乐活动 消费信心 娱乐设备 娱乐行业 商业演出 创新求变 疫情防控 清零
下载PDF
Spatial distribution of SiCln (n=O-2) in SICl4 plasma measured by mass spectroscopy
10
作者 王照奎 林揆训 +2 位作者 娄艳辉 林璇英 祝祖送 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第10期2374-2377,共4页
关键词 空间分布 质量光谱测定诊断 沉积机制 射电频率
下载PDF
谈高等学校教师队伍的职务结构
11
作者 王照奎 《山西师大学报(社会科学版)》 1987年第2期64-67,共4页
众所周知,高等学校都是直接为社会主义建设培养和输送各类具有专门科学技术人材的母机。母机的主体是师资。如果在一所学校没有一支职务结构合理、素质较高的师资队伍,要想把学校办好。
关键词 师资队伍 职务结构 高等学校教师 副教授 结构比例 科学技术 结构合理 教学任务 母机 讲师
下载PDF
加强对高等学校图书馆专业人员培养之我见
12
作者 王照奎 《晋图学刊》 1989年第2期33-34,共2页
高等学校图书馆是学校完成教学、科研的重要知识基地。不同类型的学校,其办学方向不尽一致,图书馆根据本校特点,总体任务的侧重也有所差异,但总体目标是一致的。实现其本馆总体目标,在图书馆系统中主要因素是人,特别是图书馆的专业技术... 高等学校图书馆是学校完成教学、科研的重要知识基地。不同类型的学校,其办学方向不尽一致,图书馆根据本校特点,总体任务的侧重也有所差异,但总体目标是一致的。实现其本馆总体目标,在图书馆系统中主要因素是人,特别是图书馆的专业技术人员。长期以来,由于左的路线干扰,人们对图书馆认识的不够,特别是一些领导同志,对图书馆专业技术队伍的建设没有象对教师队伍那样认真地去研究,采取措施去加以强化。 展开更多
关键词 图书馆专业人员 高等学校图书馆 学校教学科研 办学方向 专业技术人员 副研究馆员 象对 业务素质 学院图书馆 服务效益
下载PDF
Effects of Flow Rate Variation on SiCln (n 〈 3) Densities in SICl4 Plasmas
13
作者 王照奎 林揆训 +2 位作者 林璇英 娄艳辉 祝祖送 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2006年第1期169-171,共3页
Radicals produced by the plasma enhanced chemistry vapour deposition technique in SiCl4 plasma are identified by mass spectrometry using our newly proposed straight-line fit method. Since flow rate is one of the most ... Radicals produced by the plasma enhanced chemistry vapour deposition technique in SiCl4 plasma are identified by mass spectrometry using our newly proposed straight-line fit method. Since flow rate is one of the most important parameters in depositing thin films, we present the effects of SiCl4 flow rate variation on SiCln (n 〈 3) densities. The experimental results demonstrate that Si and SiCln (n = 1, 2) densities decrease with increasing SiCl4 flow rate. After reaching the minimum values at a flow rate of 17 and 13sccm, respectively, Si and SiCln (n = 1, 2) densities slightly increase with further increase of flow rate to 20.5sccm. These results could be interpreted to which the depletion fraction of SiCl4 decreases and the residence time of SiCl4 molecule becomes shorter, with the increasing SICl4 flow rate. In order to obtain high-quality poly-Si films with high growth rate, it is better to use smaller flow rate of SICl4 source gas for depositing films. 展开更多
下载PDF
A new method of measuring the spatial distribution of depletion fractionof silane plasma by mass spectrometer
14
作者 王照奎 林揆训 +2 位作者 林璇英 邱桂明 祝祖送 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2005年第7期1413-1417,共5页
下载PDF
A Movable Mass Spectroscopy Sampling Apparatus for Measuring Spatial Distribution of Neutral Radicals in Silane Plasma
15
作者 王照奎 林揆训 +2 位作者 林璇英 邱桂明 祝祖送 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2005年第4期904-906,共3页
下载PDF
Improved device reliability in organic light emitting devices by controlling the etching of indium zinc oxide anode
16
作者 廖英杰 娄艳辉 +1 位作者 王照奎 廖良生 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第11期634-638,共5页
A controllable etching process for indium zinc oxide (IZO) films was developed by using a weak etchant of oxalic acid with a slow etching ratio. With controllable etching time and temperature, a patterned IZO electr... A controllable etching process for indium zinc oxide (IZO) films was developed by using a weak etchant of oxalic acid with a slow etching ratio. With controllable etching time and temperature, a patterned IZO electrode with smoothed surface morphology and slope edge was achieved. For the practical application in organic light emitting devices (OLEDs), a sup- pression of the leak current in the current-voltage characteristics of OLEDs was observed. It resulted in a 1.6 times longer half lifetime in the IZO-based OLEDs compared to that using an indium tin oxide (ITO) anode etched by a conventional strong etchant of aqua regia. 展开更多
关键词 indium zinc oxide (IZO) organic light emitting device (OLED) leak current LIFETIME
下载PDF
Investigation on dependence of BiFeO_3 dielectric property on oxygen content
17
作者 娄艳辉 宋桂林 +1 位作者 常方高 王照奎 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第7期555-558,共4页
The influence of oxygen content on the dielectric property of BiFeO3 ceramics is studied by experiment and firstprinciples calculation. The experimental result demonstrates that the dielectric constant of BiFeO3 is st... The influence of oxygen content on the dielectric property of BiFeO3 ceramics is studied by experiment and firstprinciples calculation. The experimental result demonstrates that the dielectric constant of BiFeO3 is strongly dependent on introduced oxygen and oxygen vacancies. By comparison with BiFeO3, the introduced oxygen and oxygen vacancies can lead to a reduction in dielectric constant of BiFeO5 at a lower frequency. The first-principles calculation also shows a similar result when photon energy is in a range of 2.0-4.1 eV. A likely explanation is that this oxygen content dependence may be ascribed to the distortion of Fe-O octahedron structure due to oxygen vacancies or excess oxygen ions in the crystal structure of BiFeO3. 展开更多
关键词 BIFEO3 dielectric property oxygen content
下载PDF
猪应激综合征(PSS)与白肌病的鉴别诊断
18
作者 王仲文 王照奎 牛东明 《养殖技术顾问》 2008年第11期132-133,共2页
笔者在一些饲养瘦肉型的猪场或接触一些从事临床诊疗的基层兽医工作者在解剖死亡(急性猝死)猪的过程中,看到有人常把应激综合征的氟烷基因阳性猪的猝死解剖猪现象误诊为白肌病,并按白肌病治疗及处置。下面分别把这两种病的综合情况... 笔者在一些饲养瘦肉型的猪场或接触一些从事临床诊疗的基层兽医工作者在解剖死亡(急性猝死)猪的过程中,看到有人常把应激综合征的氟烷基因阳性猪的猝死解剖猪现象误诊为白肌病,并按白肌病治疗及处置。下面分别把这两种病的综合情况做一介绍,供同仁参考。 展开更多
关键词 应激综合征 白肌病 鉴别诊断
下载PDF
π-π堆叠构建钙钛矿光伏高效电荷通道
19
作者 陈春浩 胡凡 +9 位作者 王凯礼 陈静 滕天禹 史怡然 夏宇 苏圳煌 高兴宇 Ilhan Yavuz 王照奎 廖良生 《Science Bulletin》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第1期26-29,共4页
Perovskite solar cells(PSCs)have emerged as strong potential candidates for future photovoltaic technologies.The power conversion efficiency(PCE)of PSCs has already surpassed 26%,approaching their theoretical limit[1]... Perovskite solar cells(PSCs)have emerged as strong potential candidates for future photovoltaic technologies.The power conversion efficiency(PCE)of PSCs has already surpassed 26%,approaching their theoretical limit[1].The commonly used device structure for PSCs is ITO/SnO_(2)/perovskite/2,2',7,7'-tetrakis-(N,N-di-4-methox yphenylamino)-9,9'-spirobifluorene(spiro-OMeTAD)/Au[2]. 展开更多
关键词 钙钛矿 APPROACHING PEROVSKITE
原文传递
多晶硅薄膜低温生长中晶粒大小的控制 被引量:8
20
作者 黄锐 林璇英 +6 位作者 余云鹏 林揆训 姚若河 黄文勇 魏俊红 王照奎 余楚迎 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2004年第11期3950-3955,共6页
以SiCl4 H2 为气源 ,用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)方法低温快速沉积多晶硅薄膜 .实验发现 ,在多晶硅薄膜的生长过程中 ,气相空间各种活性基团的相对浓度是影响晶粒大小的重要因素 ,随功率、H2 SiCl4 流量比的减小和反应室气压... 以SiCl4 H2 为气源 ,用等离子体增强化学气相沉积 (PECVD)方法低温快速沉积多晶硅薄膜 .实验发现 ,在多晶硅薄膜的生长过程中 ,气相空间各种活性基团的相对浓度是影响晶粒大小的重要因素 ,随功率、H2 SiCl4 流量比的减小和反应室气压的增加 ,晶粒增大 .而各种活性基团的相对浓度依赖于PECVD工艺参数 ,通过工艺参数的改变 ,分析生长过程中空间各种活性基团相对浓度的变化 ,指出“气相结晶” 展开更多
关键词 活性基团 晶粒大小 等离子体增强化学气相沉积 结晶 工艺参数 反应室 PECVD 低温生长 多晶硅薄膜 功率
原文传递
上一页 1 2 下一页 到第
使用帮助 返回顶部