磁控溅射法制备多晶BiFeO_3薄膜

通过磁控溅射法在单晶Si(100)基片上生长了不同厚度的BiFeO_3多晶薄膜,对样品的结构、形貌、磁性进行研究。结果表明,通过改变溅射时间,影响薄膜微观结构。样品薄膜具有平整的表面。室温下,样品呈现反铁磁有序。

铋铁氧薄膜制备和应用研究进展

铋铁氧薄膜材料作为一种室温单项多铁材料,在微电子学、光电子学、磁性存储器件等领域具有广泛应用。综述了几种制备铋铁氧薄膜方法的研究进展,并重点介绍测控溅射的方法制备的铋铁氧薄膜在不同条件参数的情况下,研究进展和薄膜现阶段在应用方面的进展,并提出未来研究的方向。