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纳米硅薄膜结构分析 被引量:10
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作者 何宇亮 殷晨钟 +2 位作者 程光煦 王路春 李齐 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第11期683-689,共7页
在常用的PECVD电容式耦合沉积系统中,使用高氢稀释硅烷为反应气氛,在r.f.+DC双重功率源激励下制备出具有纳米相结构的硅薄膜.使用HREM,Raman光散射,X射线衍射以及红外和紫外光谱分析手段广泛地检测了其结构特征.指出,纳米硅(nc-Si:H)薄... 在常用的PECVD电容式耦合沉积系统中,使用高氢稀释硅烷为反应气氛,在r.f.+DC双重功率源激励下制备出具有纳米相结构的硅薄膜.使用HREM,Raman光散射,X射线衍射以及红外和紫外光谱分析手段广泛地检测了其结构特征.指出,纳米硅(nc-Si:H)薄膜由于具有一系列新的结构特征使它脱颖于熟知的 a-Si:H及 μc-Si:H范畴,从而显示出它自己的独特性能. 展开更多
关键词 薄膜 纳米硅
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钽/硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应
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作者 卢江 李凡庆 +5 位作者 陈志文 谭舜 陆斌 张庶元 王路春 李齐 《电子显微学报》 CAS CSCD 1994年第6期501-501,共1页
钽/硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应卢江,李凡庆,陈志文,谭舜,陆斌,张庶元,王路春,李齐(中国科技大学结构分析开放实验室,合肥230026)(南京大学物理系)多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应... 钽/硅多层膜在550℃退火后的局域扩散反应卢江,李凡庆,陈志文,谭舜,陆斌,张庶元,王路春,李齐(中国科技大学结构分析开放实验室,合肥230026)(南京大学物理系)多层膜提供了一个具有大量界面的扩散、晶化、固相反应的系统。本文研究了在550℃退火后... 展开更多
关键词 薄膜 多层膜 退火 显微结构 扩散
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掺Fe元素的InP晶体中扩展位错的运动
3
作者 洪建明 朱信华 +2 位作者 朱健民 盛东 王路春 《电子显微学报》 CAS CSCD 2000年第4期505-506,共2页
关键词 掺铁 磷化铟晶体 扩展位错
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磷化铟晶体的高分辨电子显微术研究
4
作者 王路春 冯端 +1 位作者 陈峻 梁月海 《电子显微学报》 CAS CSCD 1989年第3期31-35,共5页
本文报导了半导体InP材料〔001〕带轴的高分辨结构象主要实验结果。采用400kV电子束,欠焦量为大约650A,同时In及P的结构象的最佳厚度约为260A。当厚度减缩到150A左右,只剩下P的原子象。当厚度增加到370A,只剩有In的原子象。实验得到的... 本文报导了半导体InP材料〔001〕带轴的高分辨结构象主要实验结果。采用400kV电子束,欠焦量为大约650A,同时In及P的结构象的最佳厚度约为260A。当厚度减缩到150A左右,只剩下P的原子象。当厚度增加到370A,只剩有In的原子象。实验得到的高分辨结构象和计算机模拟象是基本一致。当试样发生弯曲时,入射束与〔001〕带轴之间的夹角是0.18度。高分辨结构象代表In原子和P原子的亮点联接在一起。计算机模拟象证实了这一实验结果。 展开更多
关键词 磷化铟 晶体 结构 电子显微术
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InP的超高分辨结构象
5
作者 王路春 梁月海 冯端 《电子显微学报》 CAS CSCD 1991年第3期273-276,共4页
本文报导了InP晶体沿[110]带轴的高分辨结构象。使用JEOL-4000EX顶插式电子显微镜(点分辨1.9nm)对InP晶体沿[110]带轴进行观察,在试样厚度约为35nm,欠焦量约为46.5nm时,拍摄到超高分辨的结构象,原子间距为0.147nm,并且计算出模拟象。贫... 本文报导了InP晶体沿[110]带轴的高分辨结构象。使用JEOL-4000EX顶插式电子显微镜(点分辨1.9nm)对InP晶体沿[110]带轴进行观察,在试样厚度约为35nm,欠焦量约为46.5nm时,拍摄到超高分辨的结构象,原子间距为0.147nm,并且计算出模拟象。贫验结果和模拟象符合的较好。 展开更多
关键词 INP 晶体 电子显微镜 分辨 结构象
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Y_1Ba_2Cu_3O_(7-8)超导体层错的高分辨电镜研究
6
作者 郑建国 李齐 +3 位作者 王路春 魏明 刘畋 冯端 《电子显微学报》 CAS CSCD 1990年第3期161-161,共1页
我们在运用高分辨电子显微术,在T_c为90K通过固态反应制备的YBaCuO超导体中观察到两种类型的层错,其层错面均为(001)面。结构象衬度及晶体周期性分析表明层错均为附加Cu-O链插入包含基本Cu-O面的两层Ba-O层之间所致,两种层错分别具有位... 我们在运用高分辨电子显微术,在T_c为90K通过固态反应制备的YBaCuO超导体中观察到两种类型的层错,其层错面均为(001)面。结构象衬度及晶体周期性分析表明层错均为附加Cu-O链插入包含基本Cu-O面的两层Ba-O层之间所致,两种层错分别具有位移矢量R_1=[0,/2,c/b]和R_2=[a/2,b/2,c/b]。图1为[100]带轴的高分辨象,图中显示了R_1型层错并标出了层错附近原子排列情况,结构模型在[100]方向的投影如图4A区所示。图2是与图1同一样品稍不同区域不同欠焦量的[100]带轴高分辨象。图中B区沿水平方向晶格参数与A区相同,故A、B两区具有相同的晶带轴B区显示的层错与A区不同,具有位移矢量R_2,图中标出了原子排列情况,结构模型如图4B区所示。(001)层错可以穿过整个晶粒,也可中止在其中。在层错中止处,存在伯格斯矢量和层错位移矢量相同的不全位错。 展开更多
关键词 超导体 层错 高分辨电镜 YBACUO
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基于电力线载波通信信道阻抗的台区双电源切换感知技术 被引量:7
7
作者 卢德龙 顾庆伟 +4 位作者 徐近龙 张超 缪继东 王路春 吴阳 《电力需求侧管理》 2022年第2期14-19,共6页
“双电源单表计”问题指的是针对需要双路电源供电的终端负荷采用一个电能表计费的情况,该问题导致难以在双电源发生切换时确定此负荷的用电量计算在哪个台区。针对实际工作中由于营配融合沟通不畅会引起台区重要负荷双电源切换未能及... “双电源单表计”问题指的是针对需要双路电源供电的终端负荷采用一个电能表计费的情况,该问题导致难以在双电源发生切换时确定此负荷的用电量计算在哪个台区。针对实际工作中由于营配融合沟通不畅会引起台区重要负荷双电源切换未能及时处理,导致线损不合格问题,提出一种基于电力线载波通信信道阻抗的台区双电源切换感知方法。当发生双电源切换时,负荷计量点所属台区的网络发生改变,通过双电源计量点注入的扫频信号感知此处的输入阻抗变化,从而实现双电源切换的自动辨识。在保护用户隐私的前提下,通过开发的主动采集识别终端注入载波信号实现对非电网资产运行工况的智能感知,并实现用户与电网的双向互动。通过设定合理的判定阈值,设计的多组验证性试验证明了所提出方法的有效性与科学性。 展开更多
关键词 电力线载波 信道阻抗 双电源切换 负荷网络拓扑
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钇钡铜氧超导体中层错的高分辨电子显微术研究
8
作者 郑建国 李齐 +3 位作者 章佩君 王路春 魏明 冯端 《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》 1991年第4期306-310,共5页
我们运用高分辨电子显微术,在Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)高T_c超导体中观察到两种类型的层错,它们具有相同的层错面(001),不同的相对位移矢量即[0,b/2,c/6]和[a/2,b/2,c/6].这两种层错都是由于完整晶体的基本铜氧面插入另一铜氧链形成的,它们... 我们运用高分辨电子显微术,在Y_1Ba_2Cu_3O_(7-δ)高T_c超导体中观察到两种类型的层错,它们具有相同的层错面(001),不同的相对位移矢量即[0,b/2,c/6]和[a/2,b/2,c/6].这两种层错都是由于完整晶体的基本铜氧面插入另一铜氧链形成的,它们既可以穿过整个晶体,也可中止在晶体中,在层错中止处,我们观察到不全位错.我们还观察到上述两种层错存在同一(001)面的情况,并在两种层错的窄过渡区观察到不全位错,其伯格斯矢量为[a/2,0,0],相应的结构模型亦已提出. 展开更多
关键词 钇钡铜氧化物 超导体 堆垛层错
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Ge_xSi_(1-x)/Si(100)应变超晶格高分辨电镜研究
9
作者 余是东 李齐 +5 位作者 王路春 魏明 冯端 俞鸣人 周国良 褚一鸣 《自然科学进展(国家重点实验室通讯)》 1991年第6期502-506,共5页
本文用高分辨电镜(HREM)技术研究了在较高温度下生长的Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)和Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中截面高分辨象。结果表明,晶格失配造成超晶格中较薄的子层,即合金层中弹性应变,在Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变... 本文用高分辨电镜(HREM)技术研究了在较高温度下生长的Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)和Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中截面高分辨象。结果表明,晶格失配造成超晶格中较薄的子层,即合金层中弹性应变,在Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变超晶格中,合金层弹性应变与四方畸变结果相近,在Ge_(0.4)Si_(0.6)/Si(100)应变超晶格中,合金层弹性应变不均匀,使{111}晶面取向局部偏离无法观察到完整清晰的晶格象.Ge_(0.2)Si_(0.8)/Si(100)应变超晶格计算模拟与观察结果比较发现,超晶格界面附近存在互扩散. 展开更多
关键词 GEXSI1-X/SI HREM 应变超晶体
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纳米硅薄膜的研制 被引量:37
10
作者 何宇亮 刘湘娜 +3 位作者 王志超 程光煦 王路春 余是东 《中国科学(A辑)》 CSCD 1992年第9期995-1001,共7页
使用大量氢稀释硅烷,严格控制PECVD系统中的工艺参数,分别沉积出a-Si:H,nc-Si:H 以及μc-Si:H薄膜.使用HREM,Raman及X射线谱,探讨了nc-Si:H膜的结构特征.结果表明,它已符合国际上对于固体纳米材料的认识.由于结构上的新颖性,使它具有一... 使用大量氢稀释硅烷,严格控制PECVD系统中的工艺参数,分别沉积出a-Si:H,nc-Si:H 以及μc-Si:H薄膜.使用HREM,Raman及X射线谱,探讨了nc-Si:H膜的结构特征.结果表明,它已符合国际上对于固体纳米材料的认识.由于结构上的新颖性,使它具有一系列鲜为人知的物性. 展开更多
关键词 纳米硅 非晶硅 微晶硅 薄膜
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PECVD纳米晶粒硅薄膜的可见电致发光 被引量:3
11
作者 佟嵩 刘湘娜 +2 位作者 王路春 阎峰 鲍希茂 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期1217-1222,共6页
在用等离子体增强化学汽相淀积的嵌有纳米晶粒硅薄膜中观测到电致发光.发光谱处在500—800nm之间,它有两个分别位于630—680nm和730nm附近的峰,两个峰的强度与薄膜的电导率有密切关系.根据这种材料的结构特性... 在用等离子体增强化学汽相淀积的嵌有纳米晶粒硅薄膜中观测到电致发光.发光谱处在500—800nm之间,它有两个分别位于630—680nm和730nm附近的峰,两个峰的强度与薄膜的电导率有密切关系.根据这种材料的结构特性对载流子的传导通道进行了讨论。 展开更多
关键词 PECVD 纳米晶 薄膜 电致发光器件
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A new interface crystal orientation relationship in a SiCw/Al composite
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作者 耿林 姚忠凯 +1 位作者 李齐 王路春 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1995年第1期37-40,共4页
SiC whisker reinforced aluminium alloy (SiCw/Al) composite is a kind of advanced material with high properties, and has been extensively studied since the 1980’s. Many researches have shown that the high SiC-Al inter... SiC whisker reinforced aluminium alloy (SiCw/Al) composite is a kind of advanced material with high properties, and has been extensively studied since the 1980’s. Many researches have shown that the high SiC-Al interface bond strength is the main reason for the high strength and modulus of the SiCw/Al composites. In the SiCw/Al composites made by powder metallurgy, there is no reaction in the SiC-Al interfaces, but there is element diffusion, so it is concluded that the diffusion bonding is the main reason for the high SiC-Al interface bond strength in the SiCw/Al composites. However, the study 展开更多
关键词 SILICON CARBIDE aluminium COMPOSITE interface.
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Study of Nano-crystalline Silicon Films
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作者 何宇亮 刘湘娜 +3 位作者 王志超 程光煦 王路春 于是东 《Science China Mathematics》 SCIE 1993年第2期248-256,共9页
By using strong hydrogen dilution of silane in PECVD system and controlling the deposition parameters strictly, we have prepared a-Si:H and nc-Si:H as well as μc-Si:H films respectively. The structural characters of ... By using strong hydrogen dilution of silane in PECVD system and controlling the deposition parameters strictly, we have prepared a-Si:H and nc-Si:H as well as μc-Si:H films respectively. The structural characters of nc-Si: H films detected by means of HREM, Raman and X-ray diffraction spectra are identified as coinciding with the known definition of nanometer solids. The unique electrical and optical properties of nc-Si:H films are considered as the consequence of its novel structures. 展开更多
关键词 NANO-CRYSTALLINE SILICON DEPOSITION mierostructure.
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