等离子体源离子注入表面改性研究及应用

采用等离子体源离子注入技术 (PSII)对W18Cr4V高速钢进行了氮离子注入。用俄歇能谱仪对注入层的成分进行了分析。对注入层的显微硬度和耐磨性进行了测试。用扫描电镜对摩擦磨损表面进行了分析。研究结果表明 :氮在注入层呈高斯分布 ,注入层的硬度和耐磨性均明显提高。对等离子体源离子注入技术在航空液压泵配油盘上的应用进行了研究。应用研究结果表明 :经等离子体源离子注入后的配油盘单位行程内回油量的增加量比未注入前下降约 90 % 。

GCr15钢等离子体源离子注入表面改性

用等离子体源离子注入技术对GCr15钢进行了氮离子注入。对注入层的成分进行了俄歇剖面分析 ,对注入层的显微硬度和摩擦性能进行了测试 ,对摩擦磨损表面进行了扫描电镜分析。研究结果表明 :注入层的硬度和耐磨性均获得了明显的提高。

钛合金等离子体源离子注入表面改性

等离子体源离子注入技术是一种新型的非视线的离子注入材料表面改性技术。为了对该项技术的表面改性效果进行科学的论证,从而为该项技术的推广提供客观的试验依据,采用该项技术对Ti6A14V合金进行氮离子注入,对注入层的成分、组织和性能进行了分析。结果表明:注入层中氮浓度的分布具有类高斯分布特征;在注入层中有TiN和非晶态相形成;注入层的显微硬度和摩擦性能得到了明显的改善。

Ti6A14V等离子体浸没式离子注入

采用新型等离子体浸没式离子注入技术，对Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ合金进行氮离子注入．对注入层的成分、组织和性能的分析表明，注入层中氮浓度的分布具有类高斯分布特征，在注入层中有ＴｉＮ和非晶态相形成．注入层的显微硬度和摩擦性能得到了明显的改善．

等离子体源离子注入技术

介绍了等离子体源离子注入(PSII)的现状、特点、原理和应用效果。

立方氮化硼表面硬化层的制备及性能

用渗硼和新型的等离子体浸没式氮离子注入技术(PⅢ)对Cr12MoV钢进行复合处理,制备出了含有立方氮化硼的表面硬化层。经X光电子能谱和X射线衍射分析发现硬化层中的组织主要是立方氮化硼(c BN)、六方氮化硼(h BN)、FeB和Fe2B。在与单独渗硼处理的Cr12MoV钢试样进行对比时,对立方氮化硼表面硬化层进行了维氏显微硬度和滑动摩擦试验。结果表明:硬化层具有高达48GPa的高硬度和优良的摩擦性能。

38CrMoAl钢等离子体源离子注入表面改性研究

对38CrMoAl钢等离子作源氮离子注入层的氮浓度俄歇剖面分布、显微硬度和摩擦性能进行了研究。结果表明，注入层的显微硬度和摩擦性能得到明显改善。

PIII技术在制备c-BN硬化层中的应用

采用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术 (PIII)在渗硼后的 5 0Mn钢试样上制备出了厚度为 0 .15～ 0 .2mm的立方氮化硼 (c BN)表面硬化层。经X射线电子能谱 (XPS)和X射线衍射分析 (XRD) ,发现硬化层中的组织有立方氮化硼 (c BN)、六方氮化硼 (h BN)、B2 O3,FeB和Fe2 B。在表层 60nm的深度范围内 ,c BN的含量较高。采用球盘式无润滑滑动摩擦实验和维氏显微硬度实验分别对渗硼 +PIII复合处理以及单独渗硼的 5 0Mn钢试样的性能进行了对比实验。结果表明 :与单独渗硼的试样相比 ,经渗硼 +PIII复合处理的试样具有高得多的硬度 (高达HV0 .1N44GPa)

渗硼注氮复合处理表面硬化层研究

采用渗硼工艺和新型的等离子体源氮离子注入技术对Cr12MoV钢进行复合处理 ,获得了高硬度的表面硬化层。用XPS对硬化层进行相分析和性能试验 ,结果表明 :硬化层主要由立方氮化硼 (C BN)和FeB组成 。

PIII方法制备的TiN膜的性能

用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术(PIII),在Cr12MoV钢基体上制备了TiN膜,经XPS分析发现,膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3。对有与无TiN膜的Cr12MoV钢试样进行对比,测定了维氏硬度,耐磨性以及磨痕。结果表明:TiN膜具有高的硬度和优良的抗摩擦性能。

等离子体浸没式离子注入-离子束增强沉积TiN膜研究

本文采用一种新型的等离子体浸没式离子注入 离子束增强沉积的技术(PIII IBAD),在Cr12MoV钢基体上制备出了TiN膜,对沉积膜的组织进行了光电子能谱分析,并对沉积膜进行了硬度检测、摩擦试验及磨痕形貌分析。试验结果表明,沉积膜中的组织为TiN、TiO2和Ti2O3,TiN膜具有高达Hv3200的高硬度和极其优良的摩擦性能。

等离子浸没式注入表面改性

采用新型的离子注入技术———等离子体浸没式离子注入对４５ 钢进行了氮离子注入。测定了注入层的氮浓度俄歇剖面分布、显微硬度和摩擦性能，对磨损表面进行了扫描电镜分析。结果表明，采用等离子浸没式离子注入技术能够获得钢表面改性效果。

P50钢轨钢的奥氏体晶粒度对其门槛值和裂纹扩展速率的影响

通过对具有不同奥氏体晶粒度的P50钢轨钢进行门槛值和裂纹扩展速率的测定,对裂纹扩展规律进行了电子显微分析,揭示了P50钢轨钢的奥氏体晶粒度对其门槛值和裂纹扩展速率的影响规律。

等离子化学气相沉积(PCVD)TiN涂层的组织与性能研究

用透射电镜和X光衍射仪揭示了用PCVD法涂层TiN的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。

Cr12MoV钢PSII氮离子注入层的组织与性能

采用等离子体源离子注入技术(PSII),对Cr12MoV钢进行了氮离子注入,用俄歇电子能谱仪和透射电子显微镜对注入层的成分和组织进行了分析,分析结果表明:注入层的氮浓度分布具有类高斯分布特征;注入层中的马氏体组织被细化并有非晶态组织形成。显微硬度和摩擦性能测试结果表明,注入层的显微硬度和摩擦性能得到了明显的提高和改善。

PIII技术制备c-BN硬化层

采用一种新型的等离子体浸没式离子注入技术（PIII）在渗硼后的50Mn钢试样上制备出了厚度为0．15-0．2mm的立方氮化硼（c-BN）表面硬化层。经X光电子能谱（XPS）和X光衍射分析（XRD），发现硬化层中的组织有立方氮化硼（c-BN）、六方氮化硼（h-BN）、B2O3、FeB和Fe2B。在表层60nm的深度范围内，c-BN的含量较高。采用球盘式无润滑滑动摩擦试验和维氏显微硬度试验分别对渗硼＋PIII复合处理以及单独渗硼的50Mn钢试样的性能进行了对比试验。结果表明，与单独渗硼的试样相比，渗硼＋PIII复合处理的试样具有高得多的硬度（高达Hv0．1N44GPa）和耐磨性。该项技术在电缆压模上进行了应用试验。获得了较好的应用效果。

45钢等离子体浸没式离子注入层的组织与性能

采用等离子体浸没式离子注入对45钢进行氮离子注入。对注入表层的成分、组织和性能进行了分析。研究结果表明:注入层的剖面氮浓度分布呈高斯分布特征,注入层中有大量氮化物相形成,注入层的显微硬度和摩擦性能有明显改善。

等离子化学气相沉积 TiN 涂层的组织与性能研究

本文用透射电镜和 X 光衍射仪揭示了等离子化学气相沉积(以下简称等离子沉积法)TiN 涂层的物相及超细晶粒、位错、孪晶、择优取向等微观结构,并对该涂层的性能进行了比较试验。

立方氮化硼薄膜的制备工艺

介绍了几种立方氮化硼(C-BN)薄膜的制备工艺,并对薄膜中立方氮化硼相形成的影响因素进行了讨论。

一种制备c-BN表面硬化层的新方法

立方氮化硼(c-BN)是一种倍受重视的类金刚石材料。在迄今发现的所有物质中，其硬度居第二位(仅次于金刚石)。此外，c-BN还具有远比金刚石高的热稳定性，极其优良的半导体性和光学性能。因此，c-BN在高温耐磨零件，切削刀具、高温电子元件和光学仪器上得到广泛应用。目前所采用的c-BN薄膜的制备方法主要是：化学气相沉积(CVD)。