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低弧度键合工艺的研究
1
作者
王雁星
《微电子技术》
1994年第1期40-46,共7页
本文描述了集成电路制造中低弧度键合工艺的产生及特点,从金丝的认定、设备工艺的调整进行低弧度键合工艺试验。最后对低孤度键合工艺进行了总结。
关键词
集成电路
制造
低弧度键合
工艺
下载PDF
职称材料
题名
低弧度键合工艺的研究
1
作者
王雁星
机构
中国华晶电子集团公司双极电路事业部
出处
《微电子技术》
1994年第1期40-46,共7页
文摘
本文描述了集成电路制造中低弧度键合工艺的产生及特点,从金丝的认定、设备工艺的调整进行低弧度键合工艺试验。最后对低孤度键合工艺进行了总结。
关键词
集成电路
制造
低弧度键合
工艺
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
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1
低弧度键合工艺的研究
王雁星
《微电子技术》
1994
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