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温度和保温时间对铜/铝薄膜的界面扩散性能及力学性能影响的分子动力学模拟 被引量:4
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作者 韩雪杰 郭巧能 +6 位作者 杨仕娥 王明星 王杰芳 刘强 王鲁钰 古干 钱相飞 《热加工工艺》 北大核心 2019年第14期102-107,共6页
利用分子动力学方法研究保温温度和保温时间对铜/铝薄膜界面扩散及力学性能的影响。结果表明:铜原子扩散到铝侧的数目比铝原子扩散到铜侧的多。铜原子能扩散到铝侧的深处,铝原子只在界面处有扩散。铝的扩散系数大于铜的。铜铝在较低温... 利用分子动力学方法研究保温温度和保温时间对铜/铝薄膜界面扩散及力学性能的影响。结果表明:铜原子扩散到铝侧的数目比铝原子扩散到铜侧的多。铜原子能扩散到铝侧的深处,铝原子只在界面处有扩散。铝的扩散系数大于铜的。铜铝在较低温度下扩散不明显,在800 K下扩散较好。因此确定模拟界面扩散时的保温温度为800 K。随着保温时间的增加,过渡层的厚度先增大后基本保持不变。当在800 K下保温1.2 ns时,铜/铝薄膜的力学性能最佳。 展开更多
关键词 薄膜 界面扩散 力学性能
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