集成电路关键设备市场分析及发展战略

随着集成电路在全球经济中扮演的角色日益重要,集成电路关键设备已成为集成电路发展过程中的战略焦点。本文通过对目前集成电路设备的国内外市场分析,在提醒相关产业部门注意集成电路设备的重要性之外,更重要的希望认清形势,找好国内集成电路设备发展的突破点,提高本身素质的同时,确定发展战略。逐步缩小同国外的差距,在一定时期内使国内集成电路设备的技术水准有所突破。

0.50μm步进光刻机关键技术设计

阐述了分步光刻机的发展方向和国内现状，就０５μｍ分步光刻机的设计难点和所采用的关键技术作了进一步的分析。提出了关键技术所采用的设计方案，并对影响、难度最大的工作台技术、自动对准技术、投影镜头技术等的设计原理进行了研究。还对系统的套刻精度进行了分析和测算。

0.5μm分步光刻机关键参数测量与分析

主要对 0 5 μm分步光刻机的几个代表性参数即 :投影镜头分辨率、照明均匀性、套刻精度、工作台步进精度、镜头畸变等引起误差的原因 ,测量和计算方法以及采取的相应措施作了一些归纳性总结 ,在解释问题的同时 ,也提出了相应的解决办法 ,为下一代光刻机的研制打下一定的基础。

振动料斗的优化设计

引言 振动料斗是带有电磁振动器的振动上料装置,其在电子工业中应用非常广泛。由于电子工业的零器件、外形尺寸、强度、刚度都很小数量又很多,所以其可以在振动料斗的螺旋料槽上获得各种规律的运动和定向传送。 振动料斗具有效率高、结构简单、稳定可靠、经济实用和安装调整方便等特点。但是料斗设计的主要参数难以确定,最佳的上料进度和上料率以及最好的工作状态就不易得到。为此本文对最佳工作状态下的参数设计做一些探讨。

电容组装机束腰封口机构精度及凸轮曲线修正

本文通过对电容组装机束腰封口机构精度分析，从理论上对束腰封口的可靠性给予了剖析；并在分析连杆组误差时引出了独立变量法；同时从设计理论上结合实际问题做了凸轮曲线的修正。