瓷绝缘子棕红釉黑色网状缺陷形成机理探讨

采用 OM、SEM、XRD、DTA、EPMA等手段 ,系统研究了瓷绝缘子棕红釉面黑色网状缺陷的工艺及结构特征 ,探讨了缺陷形成的机理。结果表明 ,这种缺陷产生的主要原因是由于使用了氧化物着色及原料配比、釉浆性能、施釉厚度、烧成温度、烧成气氛控制不当所致。