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Nd^(3+):YAG连续激光束用于半导体连续激光退火的研究
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作者 石万全 姚德成 +5 位作者 刘世祥 朱美芳 贺令渝 陆世勇 刘万忠 王金生 《激光杂志》 CAS 1985年第1期19-23,18,共6页
本文主要介绍如何根据连续激光退火的需要。将Nd^(3+):YAG激光划片机改进和完善成专用连续激光退火设备。简单介绍利用此设备进行激光退火的实验结果。提出研制和生产专用连续激光退火设备的必要性。
关键词 ND^3+:YAG 激光退火 半导体 激光束 G连续 退火设备 连续激光 激光划片机 专用
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LPCVD氮化硅薄膜室温高强度可见光发射 被引量:6
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作者 刘渝珍 石万全 +7 位作者 刘世祥 姚德成 刘金龙 韩一琴 赵玲莉 孙宝银 叶甜春 陈梦真 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期37-40,共4页
在5.0eV的激光激发下,在室温下LPCVD氮化硅薄膜可发射高强度可见荧光,其峰位位置分别为2.97,2.77,2.55,2.32,2.10和1.90eV的六个PL峰,建立了其可见荧光发射的能隙态模型,并初步讨论了其... 在5.0eV的激光激发下,在室温下LPCVD氮化硅薄膜可发射高强度可见荧光,其峰位位置分别为2.97,2.77,2.55,2.32,2.10和1.90eV的六个PL峰,建立了其可见荧光发射的能隙态模型,并初步讨论了其发光机制. 展开更多
关键词 LPCVD 氮化硅 薄膜 可见荧光 室温 激光激发
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纳米SiC蓝光发射的研究 被引量:5
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作者 刘渝珍 黄允兰 +7 位作者 石万全 刘世祥 姚德成 张庶元 韩一琴 陆忠乾 谭寿洪 江东亮 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期50-54,共5页
在4.68eV的激光激发下,室温CVD合成的纳米SiC粉体,可发射475nm的蓝光,经600~1100℃在N2气氛下进行快速退火(RTA)处理,其荧光强度随退火温度升高而增强,当T≥900℃时,荧光强度下降,但发光峰... 在4.68eV的激光激发下,室温CVD合成的纳米SiC粉体,可发射475nm的蓝光,经600~1100℃在N2气氛下进行快速退火(RTA)处理,其荧光强度随退火温度升高而增强,当T≥900℃时,荧光强度下降,但发光峰位与退火温度无关.通过XRD、IR、TEM、XPS等研究。 展开更多
关键词 蓝色荧光 快速热退火 纳米级 碳化硅粉体
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LPCVD氮化硅薄膜的室温可见光发射 被引量:2
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作者 刘渝珍 石万全 +5 位作者 韩一琴 刘世祥 赵玲莉 孙宝银 叶甜春 陈梦真 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期517-520,共4页
在 4.66e V的激光激发下 ,在室温下 LPCVD氮化硅薄膜可发射高强度可见光 ,其峰位位置分别为 2 .97,2 .77,2 .55,2 .32 ,2 .1 0和 1 .90 e V的 6个 PL峰 ,建立了可见光发射的能隙态模型 。
关键词 LPCVD 光致发光 能隙态模型 氮化硅薄
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注氮硅中光致发光现象及其机制的研究 被引量:2
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作者 刘渝珍 石万全 +4 位作者 陈志坚 姚德成 刘金龙 谢侃 刘振祥 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第9期667-671,共5页
通过能量为100keV,剂量为1×1018cm-2的N+注入到硅基体中,经1000~1200℃之间快速退火后,形成了含氧的硅与氮化硅镶嵌结构的薄膜层.在室温下观测到主要来自于45nm表面层的能量分别为:3.3eV... 通过能量为100keV,剂量为1×1018cm-2的N+注入到硅基体中,经1000~1200℃之间快速退火后,形成了含氧的硅与氮化硅镶嵌结构的薄膜层.在室温下观测到主要来自于45nm表面层的能量分别为:3.3eV、3.0eV、2.8eV和2.2eV的光致发光.通过XPS、AES的分析,确认了由于氧的插入,样品中N-Si-O缺陷,Si/SiO2界面发光中心,分别是引起3.0eV和2.2eV的光致发光的主要原因. 展开更多
关键词 氮化硅 光致发光 半导体薄膜技术
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Si^+注入SiO_2薄膜的三个PL峰及其受RTA的影响 被引量:2
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作者 刘世祥 刘渝珍 +6 位作者 伍勇 石万全 陈志坚 韩一琴 刘金龙 张通和 姚德成 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期242-245,共4页
将高剂量 ( 1× 1 0 17/cm2 ) Si+ 注入热氧化 Si O2 薄膜 ,在~ 5.0 e V( 2 65nm)激光的激发下 ,观测到 2 .97e V、2 .32 e V和 1 .73e V的三个光致发光 ( PL)峰 ,经快速热退火 ( RTA)处理后 ,其PL谱峰形发生变化 .本文对
关键词 二氧化硅 RTA 半导体薄膜技术
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RTA对氮化硅薄膜发光光谱的影响
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作者 刘渝珍 石万全 +2 位作者 赵玲莉 孙宝银 叶甜春 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期66-68,共3页
在 5 0eV的激光激发下 ,在室温下富硅的LPCVD氮化硅薄膜可发射六个PL峰 ,其峰位分别为 2 97,2 77,2 5 5 ,2 32 ,2 10 ,1 9eV。经 90 0~ 110 0℃在N2 气氛下快速退火 (RTA)处理后 ,样品的六个PL峰变为3 1,3 0 ,2 85 ,2 6 ,2 36... 在 5 0eV的激光激发下 ,在室温下富硅的LPCVD氮化硅薄膜可发射六个PL峰 ,其峰位分别为 2 97,2 77,2 5 5 ,2 32 ,2 10 ,1 9eV。经 90 0~ 110 0℃在N2 气氛下快速退火 (RTA)处理后 ,样品的六个PL峰变为3 1,3 0 ,2 85 ,2 6 ,2 36 ,2 2eV。本文对退火前后PL峰的产生和变化机制进行了初步探讨。 展开更多
关键词 发光光谱 LPCVD 氮化硅薄膜 快速退火 RTA
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发蓝绿光纳米硅薄膜的快速热处理制备
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作者 刘世祥 朱美芳 +7 位作者 石万全 刘渝珍 韩一琴 刘金龙 陈国 孙景兰 陈培毅 唐勇 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1998年第3期212-215,共4页
使用除氢、高温成核和低温生长的三段式快速热处理方法,将常规方法制备的氢化非晶硅(a-SiH)薄膜晶化成纳米硅(nc-Si)薄膜.该薄膜在波长为457.9nm的Ar+激光的激发下,在室温发射出蓝绿光.
关键词 蓝绿光荧光 纳米硅 薄膜 快速热处理 非晶硅
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E_u^+注入单晶硅经快速热退火后的喇曼光谱研究
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作者 刘峰奇 石万全 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1991年第4期59-62,共4页
喇曼光谱及扫描镜徽区形貌象说明,E_u^+注入(注入能量350Kev,注入剂量2×10^(15) cm^(-2) )n 型单晶硅后,在表面可形成一连续非晶层.经过895℃快速热退火(RTA)可以消除注入损伤,Si 损伤区恢复完整;当快速退火温度为1285℃时,在硅表... 喇曼光谱及扫描镜徽区形貌象说明,E_u^+注入(注入能量350Kev,注入剂量2×10^(15) cm^(-2) )n 型单晶硅后,在表面可形成一连续非晶层.经过895℃快速热退火(RTA)可以消除注入损伤,Si 损伤区恢复完整;当快速退火温度为1285℃时,在硅表面存在 E_u 的表面偏析及表面增强喇曼散射(SERS)现象,我们对增强机理进行了讨论. 展开更多
关键词 离子注入 快速热退火 SERS SEM
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镨和铕离子注入硅的快速热退火研究 被引量:1
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作者 刘世祥 石万全 +3 位作者 柳雪君 刘洪图 刘峰奇 刘磁辉 《中国稀土学报》 CAS CSCD 北大核心 1996年第1期33-37,共5页
利用离子注入技术将稀土Pr和Eu离子引入外延硅片中,经快速热退火(RTA)使注入层再结晶和电激活。对Pt离子注入(剂量1×1014cm-2,350keV)样品,在较低温度940℃下退火,样品具有电子导电性,注入离... 利用离子注入技术将稀土Pr和Eu离子引入外延硅片中,经快速热退火(RTA)使注入层再结晶和电激活。对Pt离子注入(剂量1×1014cm-2,350keV)样品,在较低温度940℃下退火,样品具有电子导电性,注入离子起施主作用,而在较高温度1240℃下退火,则具有空穴导电性,注入离子起受主作用,即有两种导电行为。对高剂量(2×1015cm-2,)Eu离子注入硅样品,经高温RTA处理后,发现了明显的Raman增强效应。本文对以上两种现象给出了解释并进行了讨论。 展开更多
关键词 离子注入 快速热退火 喇曼增强
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高能耗变压器改造途径及效益 被引量:1
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作者 石万全 《华北电力技术》 CAS 北大核心 1996年第11期54-56,共3页
对高能耗变压器实施改造,可降低变压器温升和损耗,提高过载能力,减缓绝缘老化进程,延长其使用寿命,因此具有长远的经济效益。目前,农村电网中运行的高能耗变压器仍然较多,若在短期内将这些变压器全部更新,投资太多、难度较大。... 对高能耗变压器实施改造,可降低变压器温升和损耗,提高过载能力,减缓绝缘老化进程,延长其使用寿命,因此具有长远的经济效益。目前,农村电网中运行的高能耗变压器仍然较多,若在短期内将这些变压器全部更新,投资太多、难度较大。而对其加以改造则是节约资金、达到降损节能目的的好途径。 展开更多
关键词 变压器 节能 技术改造
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变压器的最佳负载系数及经济性分析 被引量:1
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作者 石万全 《华北电力技术》 CAS 北大核心 1996年第10期36-38,共3页
变压器损耗是配电网损耗的主要损耗。为此,文章从节能角度,分析了配电变压器的最佳负载系数及其经济性;提出了30~250kVA配电变压器改造的综合经济效益,改造费用一般在3.5~4年就可从节能费用中回收,此法不仅具有节能... 变压器损耗是配电网损耗的主要损耗。为此,文章从节能角度,分析了配电变压器的最佳负载系数及其经济性;提出了30~250kVA配电变压器改造的综合经济效益,改造费用一般在3.5~4年就可从节能费用中回收,此法不仅具有节能作用,且能延长变压器寿命,值得用电部门推广应用。 展开更多
关键词 变压器 最佳负载系数 经济性
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Rapid Thermal Annealing of Pr^(3+) and Eu^(3+) Implanted Silicon
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作者 刘世祥 石万全 +3 位作者 柳雪君 刘洪图 刘峰奇 刘磁辉 《Journal of Rare Earths》 SCIE EI CAS CSCD 1996年第1期19-23,共5页
RapidThermalAnnealingofPr^(3+)andEu^(3+)ImplantedSilicon¥LiuShixiang;ShiWanquan;LiuXuejun(GraduateSchool,Acad... RapidThermalAnnealingofPr^(3+)andEu^(3+)ImplantedSilicon¥LiuShixiang;ShiWanquan;LiuXuejun(GraduateSchool,AcademiaSinica,Beijin... 展开更多
关键词 RARE earth Ion IMPLANTATION RTA DONOR and ACCEPTOR Enhanced RAMAN effect
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Study of Blue Emission from Nano-SiC Powders During Rapid Thermal Annealing
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作者 刘渝珍 石万全 +5 位作者 黄允兰 刘世祥 韩一琴 陆忠乾 谭寿洪 江东亮 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 1999年第8期602-604,共3页
Nanometric SiC powder was prepared by chemical vapor deposition at 1100°C,and samples were subsequently treated by rapid thermal annealing at 600-1100°C.The intensities of the blue photoluminescence were the... Nanometric SiC powder was prepared by chemical vapor deposition at 1100°C,and samples were subsequently treated by rapid thermal annealing at 600-1100°C.The intensities of the blue photoluminescence were then measured a t room temperature.The peak intensity at 2.56 eV(484 nm)rises with annealing temperature,reaching a value about 9.2 times as high at 800°C,then drops very quickly at 900°C.Based on the results of x-ray diffraction,infrared spectroscopy,x-ray photoelectron spectroscopy and transmission electron microscopy,we conclude that the amounts of the twofold coordinated Si on the surface of the nanometric SiC particles play an important role in the photoluminescence intensity. 展开更多
关键词 temperature. ANNEALING POWDER
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N^+注入硅RTA样品的蓝绿光发射 被引量:2
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作者 刘渝珍 石万全 +7 位作者 陈建新 李玉芝 陈志坚 孙景兰 柳雪君 刘振祥 张裕恒 沈光地 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1996年第12期1083-1085,共3页
自发现多孔硅在室温下可以发射可见光以来,人们对量子尺寸限制效应的研究兴趣剧增。由于多孔硅结构疏松,不利于广泛应用,人们开始将注意力转移到纳米硅薄膜的研究。朱美芳等人利用非晶硅薄膜快速退火处理,获得连续纳米硅薄膜,并观察到... 自发现多孔硅在室温下可以发射可见光以来,人们对量子尺寸限制效应的研究兴趣剧增。由于多孔硅结构疏松,不利于广泛应用,人们开始将注意力转移到纳米硅薄膜的研究。朱美芳等人利用非晶硅薄膜快速退火处理,获得连续纳米硅薄膜,并观察到蓝绿光发射,但在脱氢过程中,纳米硅薄膜易损坏。本文通过高剂量N^+注入到硅基体上,经快速退火形成硅与氮化硅镶嵌结构的大面积的纳米硅薄膜,T≥1000℃退火后的样品,观测到有稳定的蓝绿光(500~610nm)发射。 展开更多
关键词 纳米硅 蓝绿色发光 离子注入 快速退火 薄膜
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高温YBCO超导体的吸氢特性和异常核现象研究
16
作者 金尚宪 张富祥 +4 位作者 刘渝珍 石万全 欧文 刘世祥 柳雪君 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第15期1379-1381,共3页
随着高温超导体性能和理论的深入研究,人们发现YBa_2Cu_3O_(7-8)超导体具有吸氢的罕见能力,该过程遵循一般的反应式: (x/2) H_2+YBa_2Cu_3O_(7-8)→H_xYBa_2Cu_3O_(7-8)。结构分析表明,其所吸入的H位于Cu-O面内,并且随着温度等条件的改... 随着高温超导体性能和理论的深入研究,人们发现YBa_2Cu_3O_(7-8)超导体具有吸氢的罕见能力,该过程遵循一般的反应式: (x/2) H_2+YBa_2Cu_3O_(7-8)→H_xYBa_2Cu_3O_(7-8)。结构分析表明,其所吸入的H位于Cu-O面内,并且随着温度等条件的改变,其状态也有变化,H的吸入对YBCO的超导特性也产生一定影响,对氢的同位素氘(D)也应具有类似现象。 展开更多
关键词 超导体 吸氢特性 异常核现象 高TC
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小兔得救了
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作者 石万全 胡燕群(指导) 《小学生之友(趣味学习版)(上旬)》 2021年第9期74-74,共1页
星期天上午,阳光灿烂,小红、小明和小刚三人相约来到公园游玩。他们走到一条清澈的小河边,突然看到一只小白兔掉进了河里。小白兔拼命挣扎着,不停地扑打着水面,溅起了朵朵水花。小红着急地说:“小白兔太可怜了,我们快去救救它吧!”小明... 星期天上午,阳光灿烂,小红、小明和小刚三人相约来到公园游玩。他们走到一条清澈的小河边,突然看到一只小白兔掉进了河里。小白兔拼命挣扎着,不停地扑打着水面,溅起了朵朵水花。小红着急地说:“小白兔太可怜了,我们快去救救它吧!”小明正要跳下水,小刚使劲拉住了他。小明急了:“你别拉着我,再晚一点,小白兔就没命了!”小刚说:“你不会游泳,这样下去多危险呀!”小明挠了挠头,着急地问:“那怎么办呀?” 展开更多
关键词 小白兔 拼命挣扎 游泳 阳光灿烂
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Green-blue luminescence from nitrogen-implanted silicon after RTA
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作者 刘渝珍 石万全 +7 位作者 陈建新 李玉芝 陈志坚 孙景兰 柳雪君 刘振祥 张裕恒 沈光地 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 1996年第19期1610-1612,共3页
Study of the quantum size confinement effect has attracted much attention since the first observation of visible photoluminescence (PL) from porous silicon at room temperature. Recently great interest has risen in nan... Study of the quantum size confinement effect has attracted much attention since the first observation of visible photoluminescence (PL) from porous silicon at room temperature. Recently great interest has risen in nanometer silicon films, because the porous silicon of loosened structure is found difficult to be used in optoelectronic function. A blue/green photoluminescence has been observed from Si thin film with nanostructures prepared by α-Si: H after rapid thermal annealing (RTA) treatments by Zhu et al. But evolution of the hydrogen from as-deposited α-Si:H film by RTA tends to break the thin films into pieces easily. 展开更多
关键词 N4 IMPLANTATION NANOCRYSTALLINE Si rapid thermal ANNEALING (RTA) green-blue luminescence.
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