Zara漏光和Rubbing Mura改善研究

研究了摩擦强度对Zara漏光和摩擦痕Mura的影响。实验表明,当摩擦强度偏低时,Zara漏光易发生,而摩擦强度偏高时,则易引发摩擦痕Mura。通过选择合适的摩擦强度,可降低Zara漏光和摩擦痕Mura的发生率。另外,利用FIB对基板表面进行分析,找到了FFS型产品容易发生Zara漏光和摩擦痕Mura的原因。

ODF工艺用封框胶的研究

研究了液晶面板制造ODF工艺用封框胶材料与周边M ura的关系。实验表明,通过提高UV光照量,调整封框胶中引发剂和偶联剂等活性成分,能有效地改善周边M ura,同时提高液晶面板的剥离强度。

ODF工艺中液晶滴下量的优化

研究了小尺寸液晶显示器件ODF(One Drop Filling)工艺中液晶滴下量对漏液晶和低温气泡的影响,确定了液晶滴下量的安全范围。开发了液晶滴下设备与PS高度检测设备联动的新型液晶滴下方法,有效地解决了PS产品在ODF工艺中发生漏液晶和低温气泡的问题。

ODF生产线设计

介绍了全自动液晶滴下(ODF)生产线设计的关键点。根据规划产能和设备节拍时间,计算了各种工艺设备的数量;研究了隔垫物系统、液晶滴下系统和成盒系统的工艺要求;根据工艺设备的运行特点、基板投入方式等要素探讨了搬运系统的运营方案。成功设计了国内第一条多功能全自动ODF生产线,并实现量产。

TFT-LCD白画面边缘发青不良机理分析及改善研究

TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)在显示白画面的时候,屏幕边缘有发青的现象,这种不良现象严重影响人们的观赏感受,需要将这种不良进行改善。经过分析得知,TFT(Thin Film Transistor)基板的层间介质层(interlayer dielectrics,ILD)的氢化氮化硅(SiN_X:H)薄膜厚度偏薄,致使TFT基板的蓝光透过率偏大,从而导致TFT-LCD在显示白画面时,白光中蓝色光的比例偏大,最终出现发青现象。通过增加SiN_X:H薄膜的沉积厚度及减少SD(Source and Drain)干法刻蚀时间,使无SD覆盖的ILD膜层的SiN_X:H薄膜厚度增加,减小了TFT基板的蓝光透过率,最终TFT-LCD的白画面颜色均匀,无发青现象。