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题名溅射功率对AZO透明导电薄膜的影响
被引量:5
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作者
史永胜
陈阳阳
宁青菊
秦双亮
宁磊
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机构
陕西科技大学电气与信息工程学院
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出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期42-44,共3页
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基金
国家高技术研究发展计划(863计划)项目(2001AA3130090)
陕西省教育厅专项(07JK188)
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文摘
采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积了AZO透明导电薄膜,并用原子力显微镜观测了薄膜表面形貌,XRD测试了薄膜相结构和单色仪测试了薄膜透射率。结果表明,制备的薄膜具有高度c轴择优取向性,其表面平整,晶粒均匀致密。当溅射功率为180W、溅射气体流量为15sccm、基片温度为200℃时制得的薄膜方阻为10Ω/□,在可见光区平均透射率大于85%。
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关键词
AZO
射频磁控溅射
溅射功率
方阻
透射率
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Keywords
AZO, RF magnetron sputtering, sputtering power, square resistance, transmittance
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分类号
TB383.2
[一般工业技术—材料科学与工程]
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