不断攀登前沿科技顶峰的ASML——访ASML中国区技术行销经理程天风先生

ASML公司致力于为客户提供最佳的光刻设备与技术以支持复杂的集成电路制造。ASML目前在全球欧美和亚洲的50个地区设有分支机构,拥有5000位员工。对于国内代工业水平的不断发展与提升,ASML作出了巨大的贡献。SEMICONChina2006展会召开前夕,记者特意走访了ASML公司,以下是对ASML中国区技术行销经理程天风先生的访谈内容。

光刻永恒

由于新近的技术突破,先前应用瓶颈在光刻领域得到解决方案。如今浸没式氟化氩(ArF)光刻技术已经被ITRS列为45nm,甚至于32nm节点的关键技术。如果要达到路图指标,新的介面液体,偏振光应用都需要继续研发。实验室的数据也证实了这些理论。光刻技术可望继续被延伸到2010年。

喉癌切除喉成形术的护理体会

喉癌是耳鼻喉科常见的恶性肿瘤,我科自1990年以来共收治喉癌病人14例,其中行全喉切除+颈清扫术+空肠代咽及食道发音重建术尚属首例,现将护理体会小结如下。1 病例介绍 病例1,男,65岁,有吸烟史30年,发现颈部无痛性肿块半月、无咳嗽、无声嘶、无吞咽困难。入院后检查:左杓会厌皱襞、室带、犁状窝肿胀,左声带固定。

80nm应用中的高数位孔径,双载具193nm TWINSCAN扫描分步投影机

针对次100nm的生产,ASML研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nmTWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与控制来达到高准确度的线宽(CD)与对准(Overlay)的要求水平。本机台拥有高成熟度的双载具平台,稳定的系统动态质(MSD),一惯性的光量递输等功能,幷包含了一个内建侦测回送系统来自动调控投影镜的像差(aberrations),来达到最佳的影像保真度。

支持晶圆代工厂光刻设备之经验

晶圆代工(Wafer Foundry)模式从最早期的填充过剩产能(Capacity Fill)到纯粹代工(PurePlay)而至今日的完全代工(AllPlay,指为用户提供全部解决方案)的时代,历经数次产品替换和产能运转,而今日成为一门颇为复杂的生产技术,也是有很高利润的投资。但是今天的代工市场上充满了许许多多的代工者。

先进ATHENA^(TM)选用策略与对准功能(英文)

基于先进科技对准规格的减缩,对准仪量测数据的应用也变得更为重要。不同对准策略的选择所引起的结果,对全部对准预算有很重要的影响。介绍两个主要科技研发项目:先进对准配套和对准标的设计。