基于电化学聚合方法制备荧光薄膜及其在爆炸物检测中的研究

荧光薄膜在有机光电、荧光传感等领域具有广泛的应用。制备荧光薄膜的方法主要是通过旋涂法、流延法、真空镀膜法等。但是由于此类方法存在材料浪费严重,薄膜内部结构无法调控等缺点,还存在较大的改进空间。电化学方法通过调控电化学参数(扫描电压、扫描速度、扫描圈数等)可以有效地控制薄膜的微结构以及薄膜厚度,此外电化学聚合具有成本低、操作简单等优点,便于市场的推广。三聚-(9,9-二(N-咔唑-己基))芴(TFCz)电聚合薄膜对于TNT蒸气的荧光响应,在600s内,薄膜荧光强度淬灭率为55%;对于DNT蒸气,在120s内,其荧光强度淬灭率为90%。

席夫碱-镍配合物的合成与表征

以1-苯基-3-甲基-4-己酰基-吡唑啉酮-5为母体,设计合成出4-己酰基吡唑啉酮缩苯胺席夫碱(HQ),通过非水溶剂法将4-己酰基吡唑啉酮缩苯胺席夫碱(HQ)与金属盐Ni反应成功合成金属配合物,应用光学检测仪对HQ与金属配合物进行性能表征。红外光谱中发现,在510cm-1处有O-Ni键生成,佐证配合物配位成功;在紫外光谱中,席夫碱-镍配合物的最强吸收波长出现在306nm处;通过荧光谱图可以找到金属配合物的最强激发波长是245nm,最强发射波长是349nm。实验数据为研究席夫碱在更多领域的实际应用提供了理论依据。