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NiAl-Cr(Mo)基共晶合金显微组织与力学性能的研究 被引量:1
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作者 章竞予 《贵州大学学报(自然科学版)》 2008年第6期619-624,共6页
通过在NiAl-Cr(Mo)合金中添加Ti、Hf、Nb、W难熔金属研究其铸态合金、经热处理后和定向凝固合金的显微组织和力学性能。研究结果表明,铸态合金中存在4个相,即NiAl相,α-Cr固溶体,Cr2Nb相和Ni2Al(Ti,Hf)相,其高温强度得到提高,在1100℃... 通过在NiAl-Cr(Mo)合金中添加Ti、Hf、Nb、W难熔金属研究其铸态合金、经热处理后和定向凝固合金的显微组织和力学性能。研究结果表明,铸态合金中存在4个相,即NiAl相,α-Cr固溶体,Cr2Nb相和Ni2Al(Ti,Hf)相,其高温强度得到提高,在1100℃的屈服强度是467MPa,室温压缩塑性是17.87%;经处理后的铸态合金和定向凝固合金中无Cr2Nb相,转变为富含Hf的(Hf,Ti,Nb)相;定性凝固合金的屈服强度优于铸态合金,其断裂韧性比铸态合金提高31%。 展开更多
关键词 NiAl-Cr(Mo)共晶合金 定向凝固 显微组织 力学性能
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Mg膜厚度对Mg_2Si半导体薄膜结构及方块电阻的影响
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作者 杨云良 廖杨芳 +4 位作者 姚震震 肖清泉 张宝晖 章竞予 谢泉 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2015年第7期525-530,共6页
采用射频磁控溅射系统和热处理系统制备了Mg2Si半导体薄膜。首先在Si衬底上溅射不同厚度的Mg膜,然后在真空退火炉中进行低真空热处理4 h制备一系列Mg2Si半导体薄膜。采用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对Mg2Si薄膜样品... 采用射频磁控溅射系统和热处理系统制备了Mg2Si半导体薄膜。首先在Si衬底上溅射不同厚度的Mg膜,然后在真空退火炉中进行低真空热处理4 h制备一系列Mg2Si半导体薄膜。采用台阶仪、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对Mg2Si薄膜样品的结构、表面形貌、剖面进行表征,研究了Mg膜厚度对Mg2Si半导体薄膜生成的影响。结果表明,在Si衬底上制备出以Mg2Si(220)为主的单一相Mg2Si薄膜,且Mg2Si(220)的衍射峰强度随着Mg膜厚度的增加先增大后减小,Mg膜为2.52μm时,制备的Mg2Si薄膜表现出了良好的结晶度和平整度。最后,研究了Mg膜厚度对Mg2Si薄膜方块电阻的影响。 展开更多
关键词 磁控溅射 热处理 Mg2Si薄膜 薄膜厚度 方块电阻
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